【課題】半透過型液晶表示装置において、反射電極と透明電極とを構成する場合、２つの
レジストマスクを用いるため、コストが高い。
【解決手段】画素電極となる透明電極と反射電極を積層させる。反射電極上に半透部を有
する露光マスクを用いて、膜厚の厚い領域と該領域よりも膜厚が薄い領域とを有するレジ
ストパターンを形成する。レジストパターンを用いて反射電極と透明電極とを形成する。
以上により、１つのレジストマスクを用いて、反射電極と透明電極を形成することが可能
となる。 （もっと読む）

【課題】応答特性を向上させることが可能な液晶表示素子を備えた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、第１電極２０Ｂ、第１配向規制部２１及び第１配向膜２２が形成された第１基板２０、第２電極３０Ｂ、第２配向規制部３１及び第２配向膜２２が形成された第２基板３０、並びに、液晶分子を含む液晶層４０を有する画素が、複数、配列されて成り、各画素において、第１電極２０Ｂの縁部と第１配向規制部２１とによって囲まれた領域の射影像と、第２電極３０Ｂの縁部と第２配向規制部３１とによって囲まれた領域の射影像とが重なり合う重複領域の中心領域において、液晶層４０における液晶分子群の長軸は、略、同一仮想平面内に位置しており、液晶分子は、少なくとも第１配向膜２１によってプレチルトが付与される。 （もっと読む）

【課題】複数のドメインを有する単位画素が形成される液晶表示パネル及びこれを製造する光学マスクを提供する。
【解決手段】単位画素を含む液晶表示パネルであって、上記単位画素は、第１の配向膜を有する第１の基板と、上記第１の配向膜から離隔し対向する第２の配向膜を有する第２の基板と、上記第１の配向膜と上記第２の配向膜間に介在する液晶層と、隣接した複数のドメインと、上記隣接した複数のドメイン間を定義するドメイン境界領域と、上記ドメイン境界領域に隣接する正常輝度領域とを有し、上記ドメイン境界領域内の上記第１の配向膜又は上記第２の配向膜のプレチルト角は、上記正常輝度領域内の上記第１の配向膜又は上記第２の配向膜のプレチルト角より大きい。 （もっと読む）

【課題】ＩＰＳにおける従来の技術は、工程数が多く、開口率が低いので、実用化できな
い。また、液晶層に最も近接している層に存在する配線及び電極が多く、画素表示部にお
ける個々の液晶にかかる電界が不均一であった。
【解決手段】本発明は、ゲイト線１０２、１０５とコモン線１０３、１０４を最初に同時
に形成し、層間膜形成後、画素電極１０８とコモン電極１１０、１１１とソ─ス線１０６
、１０７を同時に形成する。こうすることによって、電極パタ─ンを単純化でき、工程を
簡略化した。また、液晶層に最も近接している層に存在する配線及び電極を画素電極とコ
モン電極とソ─ス線とし、その形状を単純なものにした。 （もっと読む）

【課題】隣接する画素の間に設ける絶縁膜は、バンク、隔壁、障壁、土手などとも呼ばれ
、薄膜トランジスタのソース配線や、薄膜トランジスタのドレイン配線や、電源供給線の
上方に設けられる。特に、異なる層に設けられたこれらの配線の交差部は、他の箇所に比
べて大きな段差が形成される。隣接する画素の間に設ける絶縁膜を塗布法で形成した場合
においても、この段差の影響を受けて、部分的に薄くなる箇所が形成され、その箇所の耐
圧が低下されるという問題がある。
【解決手段】段差が大きい凸部近傍、特に配線交差部周辺にダミー部材を配置し、その上
に形成される絶縁膜の凹凸形状を緩和する。また、上方配線の端部と下方配線の端部とが
一致しないように、上方配線と下方配線の位置をずらして配置する。 （もっと読む）

【課題】画素部の薄膜トランジスタにおけるゲート・ソース間容量のばらつきを抑制することが可能な技術を提供する。
【解決手段】画素の領域毎に形成される画素電極ＰＸと、画素電極を駆動する薄膜トランジスタとを備える表示装置において、薄膜トランジスタは、対角位置に形成される第１の角部Ｂ及び第２の角部Ｃと、前記第１の角部Ｂが形成される第１の辺と前記第２の角部Ｃが形成される第２の辺とを共有する第３の角部とを有し、ゲート絶縁膜を介して前記ゲート線ＧＬに接続されるゲート電極と重畳して形成される半導体層ＡＳと、前記ドレイン線ＤＬからその一部が延在して形成され、前記第３の角部と重畳されるドレイン電極ＤＴと、一端が前記第１の角部Ｂに重畳して形成され、他端が前記画素電極と接続される第１のソース電極ＳＴ１と、一端が前記第２の角部Ｃと重畳して形成され、他端が前記画素電極ＰＸと接続される第２のソース電極ＳＴ２と、を有する。 （もっと読む）

【課題】駆動電圧を低減させ、より高コントラスト化を可能とするブルー相を示す液晶材料を用いた液晶表示装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】ブルー相を示す液晶層を含む液晶表示装置において、第１の電極層（画素電極層）上に第１の壁状構造体、同様に第２の電極層（共通電極層）上に第２の壁状構造体を設け、これらを誘電体膜で被覆する構成とする。誘電体膜は、第１の壁状構造体及び第２の壁状構造体及び液晶層に用いられる液晶材料の誘電率より高い誘電率を有する絶縁体であり、液晶層に突出するように設けられる。 （もっと読む）

【課題】電極による可視光の反射率を向上させること。
【解決手段】半導体基板１０の上方に設けられ、液晶層３２を透過した光を反射する電極２４と、前記電極上に形成された酸化シリコン膜２６と、前記酸化シリコン膜上に形成された窒化シリコン膜２８と、を具備し、前記酸化シリコン膜の膜厚をｄ１、前記窒化シリコン膜の膜厚をｄ２としたとき、ｄ１が７０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であり、かつｄ２が６０ｎｍ以上７０ｎｍ以下である半導体装置。 （もっと読む）

【課題】横電界方式の液晶表示装置において、画素の開口率を向上させたアレイ基板および液晶表示装置を提供する。
【解決手段】共通電極、画素電極、薄膜トランジスタ、前記薄膜トランジスタを覆って設けられた複数色の着色画素、および保護層より構成される横電界方式の液晶表示装置に用いられるアレイ基板において、前記着色画素上に共通電極が配置され、さらに前記共通電極上に絶縁層を介して画素電極を備えたことを特徴とするアレイ基板を用いる。 （もっと読む）

【課題】 電極間の隙間による表示品位低下を改善し、また、配線電極が見えたり、配線電極の一部が半点灯することが無ない液晶表示素子を提供する。
【解決手段】 配線電極４と配線のない独立した隙間電極５を形成し、その上に絶縁膜６を形成し、その上に表示電極７、外側第二表示電極８ａ及び内側表示電極８ｂを形成している。表示電極７及び外側第二表示電極８ａ、内側表示電極８ｂは、絶縁膜６に設けたそれぞれのコンタクトエリアを介して配線電極４または隙間電極５と電気的に接続する。表示電極７は、絶縁膜６を介して隙間電極５の端部と重なるように形成する。また、外側第二表示電極８ａ及び内側第二表示電極８ｂは、絶縁膜６を介して隙間電極５の他の端部と重なるように形成する。 （もっと読む）

【課題】垂直配向液晶に付随するディスクリネーションを軽減し、明るく応答性の良い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】透明基板上に形成され、遮光性顔料を樹脂に分散した遮光層からなる、複数の開口部を有するブラックマトリクスと、前記ブラックマトリクスを備える透明基板上に形成された透明導電膜と、前記透明導電膜上の、前記複数の開口部により区分された画素領域に形成された複数色の着色画素とを具備する垂直配向液晶表示装置用カラーフィルタ基板。 （もっと読む）

【課題】垂直配向液晶に付随するディスクリネーションを軽減し、明るく応答性の良い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】透明基板上に、ブラックマトリクス、透明導電膜、及び樹脂層を形成してなる液晶表示装置用電極基板において、前記ブラックマトリクスは、遮光性顔料を樹脂に分散した遮光層からなり、かつ複数の開口部を有し、前記樹脂層は、前記ブラックマトリクス及び透明導電膜を備える透明基板上に形成され、前記ブラックマトリクスの上方において凸部を形成し、前記ブラックマトリクスの開口部中心を通る領域に凹部を形成することを特徴とする液晶表示装置用基板。 （もっと読む）

【課題】より高コントラスト化を可能とするブルー相を示す液晶材料を用いた液晶表示装置を提供することを目的の一とする。また、ブルー相を示す液晶を用いた液晶表示装置において、より低消費電力化を達成することを目的の一とする。
【解決手段】第１の基板と第２の基板とでブルー相を示す液晶層を挟持する液晶表示装置において、層間膜を介して画素電極層はトランジスタのドレイン電極層と、共通電極層はドレイン電極層と同工程で形成される導電層と電気的に接続する。画素電極層と共通電極層との間の層間膜は選択的に除去されて開口が形成されている。該開口には液晶が充填され液晶層が形成される。よって、液晶層において、画素電極層と共通電極層との間と、ドレイン電極層と導電層との間の開口の領域にも広く電界を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】バックライトからの光を有効利用することによって非自発光表示部の輝度を向上させた液晶表示装置を提供することである。
【解決手段】
液晶層を介して対向配置される一対の透明基板を備え、少なくとも、光を透過し得る透光領域と光を遮光する遮光領域を有する非自発光表示部と、非自発光表示部の裏面側からバックライト光を照射するバックライト部とを備える液晶表示装置であって、前記一対の透明基板の内で前記バックライト部側に配置される透明基板は、当該透明基板の液晶層側に積層され、前記透光領域に対応する開口領域が形成される金属薄膜からなる反射膜を備え、前記開口領域に入射される前記バックライト光を通過させると共に、前記反射膜が形成される領域に入射される前記バックライト光を前記バックライト部側に配置される透明基板に反射させる液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】本発明は液晶表示装置に関する。
【解決手段】本発明の一実施例による液晶表示装置は、互いに対向する第１基板及び第２基板、前記第１基板の上に位置するスイッチング素子、前記スイッチング素子に連結されており、データ電圧の印加を受ける画素電極、前記第２基板の上に形成されている対向電極、そして前記第１基板及び前記第２基板の間に位置し、液晶分子を含む液晶層を含み、前記画素電極は、前記画素電極を複数の副領域に分ける液晶方向制御部を含み、前記画素電極に前記データ電圧が印加される時の前記液晶分子の傾く方向は前記複数の副領域によって互いに異なり、前記液晶方向制御部は、前記第１基板面に対して下の方向に凹むかまたは上の方向に膨らむように形成されている。 （もっと読む）

【課題】素子基板の一方面側に入射した光を効率よく反射して、表示光量を増大させることのできる液晶装置、液晶装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００では、対向基板２０の側から素子基板１０の一方面側に入射した光を反射性の画素電極９ａの表面で反射して画像を表示する。また、画素電極９ａより下層側には、隣り合う画素電極９ａにより挟まれた隙間領域９ｓ、９ｔに重なる反射性配線（データ線６ａおよび容量線５ｂ）が設けられ、隙間領域９ｓ、９ｔに入射した光を反射性配線（データ線６ａおよび容量線５ｂ）で反射し画像の表示に利用することができる。ここで、画素電極９ａ、および反射性配線（データ線６ａおよび容量線５ｂ）の表面は鏡面になっている。 （もっと読む）

【課題】素子基板と対向基板とを貼り合わせるシール材が硬化時に収縮しても、素子基板と対向基板との離間距離がばらつくことを防止することができる液晶装置および該液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００の素子基板１０において、周辺領域１０ｂの外側領域１０ｂ2については、内側領域１０ｂ1に比して第１スルーホール７２ｂの開口密度および第２スルーホール７３ｂの開口密度が低い。このため、層間絶縁膜７２、７３を研磨すると、外側領域１０ｂ2と内側領域１０ｂ1との間には、外側領域１０ｂ2における素子基板１０と対向基板２０との間隔を内側領域１０ｂ1における素子基板１０と対向基板２０との間隔よりも狭くする段差７２ｘ、７３ｘが構成され、かかる段差７２ｘ、７３ｘより外側（外側領域１０ｂ2）にシール材１０７の内周縁１０７ａが位置する。 （もっと読む）

【課題】アレイ基板上に着色層を有するＣＯＡ型液晶表示装置において、着色層上に形成するＩＴＯ画素電極のエッチングに際して、発生し易いＩＴＯのエッチング残渣を抑制する。
【解決手段】着色層２４を有する表示領域２５の周縁領域に着色層２４の延長上に遮光層２７を形成し、着色層２４及び遮光層２７を覆う保護膜２８を形成する。このとき、遮光層２７の周縁端部を覆う保護膜２８の断面形状は、遮光層の端部から延在し、さらに周縁部に向かうテーパ形状とする。これにより、保護膜２８上に形成する画素電極３０は保護膜２８の急峻性に起因するレジストのエッチング残渣及びＩＴＯのエッチング残渣の発生を抑制することとなる。 （もっと読む）

【課題】良好な電圧応答特性を保持しつつ、透過率を向上させることが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置１では、画素電極１２が、液晶層１５の側から順に、第１サブ電極１２Ａ、誘電体層１３および第２サブ電極１２Ｂを有する。第１サブ電極１２Ａおよび第２サブ電極１２Ｂへ供給する電位Ｖａ，Ｖｂを適宜設定することで、液晶層１５のうちのスリット直上の領域Ａへの印加電圧と、スリットのない領域Ｂへの印加電圧との大小関係を目的に応じて自在に制御可能となる。映像表示時には、液晶層１５全体で電界歪みを軽減するような駆動を行い、スリット位置に起因した局部的な透過率低下を抑制する。製造プロセス（プレチルト付与工程）では、プレチルト付与に有利な電界歪み（横電界）を発生させる。 （もっと読む）

【課題】 水平電界駆動方式において開口率を高め、電極の数を容易に調節する。
【解決手段】 薄膜トランジスタ表示板は、ゲート線121と、共通電極134及び共通電極線138を含む共通信号線とを有する。ゲート線121は、基板上部に台形状の画素領域を定義するために画素領域の境界で屈曲している。共通電極134は、ゲート線121と平行に配列されている。共通電極線138は、複数の共通電極134を連結してデータ線171と平行に配列される。ゲート線121と共通信号線とを覆うゲート絶縁膜上部には、データ線171と画素信号線とが形成される。データ線171は、ゲート線と交差して画素領域を定義する。画素信号線は、共通電極と平行に対向して配列されている画素電極174と、複数の画素電極を連結する画素電極線172,178とを含む。データ線171と画素信号線とを覆う保護膜上部には、液晶分子をデータ線に対して垂直に配向するための配向膜が形成されている。 （もっと読む）