説明

Fターム[2H092JA25]の内容

液晶−電極、アクティブマトリックス (131,435) | 能動素子 (19,865) | 三端子素子 (19,408) | 種類 (8,621) | TFT (8,450) | スタガ構造(トップゲート構造) (1,511)

Fターム[2H092JA25]に分類される特許

61 - 80 / 1,511


【課題】酸化物半導体層を用いる薄膜トランジスタにおいて、酸化物半導体層と電気的に接続するソース電極層またはドレイン電極層との接触抵抗の低減を図る。
【解決手段】ソース電極層またはドレイン電極層を2層以上の積層構造とし、その積層のうち、酸化物半導体層と接する一層104a、104bを薄いインジウム層または薄いインジウム合金層とする。なお、酸化物半導体層103は、インジウムを含む。二層目以降のソース電極層105aまたはドレイン電極層105bの材料は、Al、Cr、Cu、Ta、Ti、Mo、Wから選ばれた元素、または上述した元素を成分とする合金か、上述した元素を組み合わせた合金等を用いる。 (もっと読む)


【課題】FFS方式を代表とする横電界方式の液晶表示装置において、液晶材料にかかる
電界を十分にすることを課題とする。
【解決手段】横電界方式において、1組の電極ではなく、複数組の電極を用いて、共通電
極直上や画素電極直上にある液晶材料に電界をかける。1組の電極は、櫛歯状に設けられ
た共通電極と、櫛歯状に設けられた画素電極との組である。その他の組の電極は、画素部
に設けられた共通電極と、該櫛歯状に設けられた画素電極との組である。 (もっと読む)


【課題】絶縁層上の有機半導体層をレーザ光を用いてパターニングしたときであっても、有機半導体層に損傷が生じ難い半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、(A)基体10上にゲート電極12を形成した後、(B)基体10及びゲート電極12上にゲート絶縁層13を形成し、次いで、(C)基体10に到達する分離溝16をゲート絶縁層13に形成した後、(D)ゲート絶縁層13上及び分離溝16の底部に露出した基体10上に有機半導体層14を形成し、次に、(E)少なくとも分離溝16の底部に露出した基体10上に形成された有機半導体層14の部分にレーザ光を照射して分離溝16の底部の少なくとも一部を露出させる一方、有機半導体層14の上に一対のソース/ドレイン電極15を形成する各工程から成る。 (もっと読む)


【課題】製造歩留まりを改善可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】アクティブエリアに配置された帯状の画素電極と、アクティブエリア外に配置された給電パッド、前記給電パッドから離間した除電パッド、前記給電パッド及び前記除電パッドのうちの一方に電気的に接続された第1パッドT1、前記第1パッドに隣接して第1パッド間隔で配置され前記給電パッド及び前記除電パッドのうちの他方に電気的に接続された第2パッドT2、及び、前記第2パッドに隣接して第1パッド間隔よりも大きな第2パッド間隔で配置された第3パッドT3と、を備えた第1基板と、前記画素電極を挟んだ両側で前記画素電極と略平行に延出するとともにアクティブエリア外に延在し前記給電パッドに対向する共通電極と、アクティブエリアに対応して配置されたシールド電極と、を備えた第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に保持された液晶層と、を備えた液晶表示装置。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】マトリクス状に配置された複数の画素電極PEと、画素電極PEが配列する行に沿って延びるゲート配線Gと、列に沿って延びるソース配線Sと、複数の画素電極PEが配置された領域ACTの周囲の領域において画素電極PEと同層に配置されゲート配線に印加されるト電位が供給される電極EBと、を備えた第1基板ARと、複数の画素電極PEが配置された領域ACTおよび周囲の領域と対向した共通電極CEを備え第1基板ARと対向して配置された第2基板CTと、第1基板ARと第2基板CTとの間に挟持された液晶層LQと、を備え、電極EBの端部と端部に対向した共通電極CTとの間に絶縁体SSが配置されている液晶表示装置。 (もっと読む)


【課題】400℃以下で作製可能であり、30cm/Vs以上の高い電界効果移動度と、ノーマリーオフとなる低いオフ電流を両立する薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】ゲート電極16と、ゲート電極と接するゲート絶縁膜15と、In(x)Zn(1−x)O(y)(0.4≦x≦0.5,y>0)で表される第1の領域A1及びIn(a)Ga(b)Zn(c)O(d)(b/(a+b)>0.250,c>0,d>0)で表され、ゲート電極に対して第1の領域よりも遠くに位置する第2の領域A2を含み、ゲート絶縁膜を介してゲート電極に対向配置されている酸化物半導体層12と、互いに離間して配置されており、酸化物半導体層を介して導通可能なソース電極13及びドレイン電極14と、を有する薄膜トランジスタ1。 (もっと読む)


【課題】液晶装置等の電気光学装置において、高品質な画像を表示可能とする。
【解決手段】液晶装置は、TFTアレイ基板10上に、画素毎に設けられた画素電極9aと、TFTアレイ基板10と画素電極9aとの間に、画素電極9aに対応して設けられたTFT30と、画素電極9aとTFT30との間に設けられており、第1電極71、第1電極71の下層側に下側容量絶縁膜75を介して対向配置された第2電極72、及び第1電極71の上層側に上側容量絶縁膜76を介して対向配置された第3電極73からなる保持容量とを備え、下側容量絶縁膜75及び上側容量絶縁膜76は、それぞれ複数の絶縁膜を有しており、TFTアレイ基板10側からみた下側容量絶縁膜75を構成する複数の絶縁膜(75a,75b)と、TFTアレイ基板10側からみた上側容量絶縁膜76を構成する複数の絶縁膜(76a,76b)と、の積層順が同じである。 (もっと読む)


【課題】400℃以下で作製可能であり、20cm/Vs以上の高い電界効果移動度と、ノーマリーオフとなる低いオフ電流を両立する薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】ゲート電極16と、ゲート絶縁膜15と、In(a)Ga(b)Zn(c)O(d)(a>0,b>0,c>0,a+b+c=1,d>0)で表され、a≦37/60、b≦91a/74−17/40、b≧3a/7−3/14、c≦3/5を満たす第1の領域A1及びIn(p)Ga(q)Zn(r)O(s)(q/(p+q)>0.250,p>0,q>0,r>0,s>0)で表され、ゲート電極に対して第1の領域よりも遠くに位置する第2の領域A2を含み、ゲート絶縁膜を介してゲート電極に対向配置されている酸化物半導体層と、酸化物半導体層を介して導通可能なソース電極13及びドレイン電極14と、を有する薄膜トランジスタ1。 (もっと読む)


【課題】動作速度を向上させる。
【解決手段】第1のソース及び第1のドレインの一方に画像信号線を介して画像信号が入力され、第1のゲートに第1の走査信号線を介して第1の走査信号が入力される第1のトランジスタ101と、2つの電極のうちの一方の電極が第1のトランジスタの第1のソース及び第1のドレインの他方に電気的に接続される容量素子102と、第2のソース及び第2のドレインの一方が第1のトランジスタ101の第1のソース及び第1のドレインの他方に電気的に接続され、第2のゲートに第2の走査信号線を介して第2の走査信号が入力される第2のトランジスタ103と、第1の電極が第2のトランジスタの第2のソース及び第2のドレインの他方に電気的に接続される液晶素子104と、を備え、画像信号線としての機能を有する導電層及び第2の走査信号が入力される走査信号線としての機能を有する導電層は、互いに離間し、且つ並置されている。 (もっと読む)


【課題】用途に合わせて要求される電気的特性を備えた酸化物半導体層を用いたトランジスタ、及び該トランジスタを有する半導体装置を提供する。
【解決手段】ソース電極層又はドレイン電極層に接する第1の酸化物半導体層と、第1の酸化物半導体層上に設けられ第1の酸化物半導体層とは異なるエネルギーギャップを有する第2の酸化物半導体層と、を少なくとも含む酸化物半導体積層を用いてトランジスタを構成する。第1の酸化物半導体層と第2の酸化物半導体層とは互いに異なるエネルギーギャップを有すればよく、その積層順は問わない。 (もっと読む)


【課題】画像表示における視野角を改善し、液晶の配向乱れによる画質劣化を抑制する半透過型の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】絶縁面上に絶縁膜を有する第1の領域と、絶縁面上に絶縁膜を有さない第2の領域とを有し、第1の領域において、絶縁膜上に第1の導電膜を有し、第2の領域において、絶縁面上に第2の導電膜を有し、第1の導電膜は、光を反射する機能を有し、第2の導電膜は、光を透過する機能を有し、第1の導電膜上に、及び、第2の導電膜上に、液晶層を有し、第1の領域において、絶縁膜は、第1の凸部と第2の凸部とを有し、絶縁膜の端部から第1の導電膜の端部までの距離が、絶縁膜の端部から第2の導電膜の第1の端部までの距離よりも長い領域を有し、第1の凸部と第2の凸部との間の凹部の底の位置から第1の凸部の頂上の位置までの高さが、絶縁面から凹部の底の位置までの高さよりも低い領域を有する液晶表示装置。 (もっと読む)


【課題】高い電界効果移動度を有し、しきい値電圧のばらつきが小さく、かつ高い信頼性を有する酸化物半導体を用いたトランジスタを有する半導体装置を提供する。
【解決手段】加熱処理により酸素を放出する絶縁体基板と、該絶縁体基板上に設けられた酸化物半導体膜と、を有し、該酸化物半導体膜にチャネルが形成されるトランジスタを有する半導体装置である。加熱処理により酸素を放出する絶縁体基板は、絶縁体基板の少なくとも酸化物半導体膜が設けられる側に、酸素イオン注入を行うことで作製することができる。 (もっと読む)


【課題】高精度な駆動回路又は薄膜トランジスタを可撓性の基板に形成する表示素子用の製造装置を提供する。
【解決手段】表示素子の製造装置(100)は、可撓性の基板(FB)を第1方向に搬送する搬送部(RL)と、可撓性の基板に基準マークを形成するマーク形成部(10)と、可撓性の基板に隔壁を形成する隔壁形成部(10)と、基準マークに基づいて隔壁に対して所定の位置に導電部材を塗布する塗布部(20)と、を有する。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いたトランジスタは、非晶質シリコンを用いたトランジスタと比較して信頼性が劣る場合があった。そこで、信頼性が高い酸化物半導体を用いたトランジスタを有する半導体装置を提供する。
【解決手段】酸化物半導体膜に含まれる水素、窒素および炭素などの不純物は酸化物半導体膜の半導体特性を低下させる要因となる。例えば、酸化物半導体膜に含まれる水素および窒素は、酸化物半導体膜を用いたトランジスタのしきい値電圧をマイナス方向へシフトさせてしまう要因となる。また、酸化物半導体膜に含まれる窒素、炭素および希ガスは、酸化物半導体膜中に結晶領域が生成されることを阻害する。そこで、酸化物半導体膜の不純物濃度を低減することで、高い信頼性を有するトランジスタを作製する。 (もっと読む)


【課題】信号の遅延が抑制された表示装置を提供する。また、低消費電力駆動が可能な表示装置を提供する。
【解決手段】複数の画素に共通電位を与える共通配線と、画素を駆動する信号を入力するための信号線との間の寄生容量を無くせばよい。具体的には、外部から信号が入力される外部入力端子よりも外側に共通配線を引き回し、信号線と共通配線との交差部を無くすことにより、共通配線と信号線との間の寄生容量がなくなり、表示装置の高速駆動と低消費電力駆動が実現できる。 (もっと読む)


【課題】トランジスタ特性(移動度、オフ電流、閾値電圧)及び信頼性(閾値電圧シフト、耐湿性)が良好で、ディスプレイパネルに適した電界効果型トランジスタを提供すること。
【解決手段】基板上に、少なくともゲート電極と、ゲート絶縁膜と、半導体層と、半導体層の保護層と、ソース電極と、ドレイン電極とを有し、ソース電極とドレイン電極が、半導体層を介して接続してあり、ゲート電極と半導体層の間にゲート絶縁膜があり、半導体層の少なくとも一面側に保護層を有し、半導体層が、In原子、Sn原子及びZn原子を含む酸化物であり、かつ、Zn/(In+Sn+Zn)で表される原子組成比率が25原子%以上75原子%以下であり、Sn/(In+Sn+Zn)で表される原子組成比率が50原子%未満であることを特徴とする電界効果型トランジスタ。 (もっと読む)


【課題】歩留まりの低下を抑制することが可能な液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】スイッチング素子の上に配置されるとともに第1上面及び前記第1上面から前記スイッチング素子まで貫通した第1コンタクトホールを有する有機絶縁膜と、前記有機絶縁膜の前記第1上面に配置された上部電極及び前記上部電極と繋がり前記第1コンタクトホールに配置され前記スイッチング素子に電気的に接続された下部電極を有する島状の中継電極と、前記有機絶縁膜の前記第1上面に配置され前記中継電極から離間した共通電極と、前記中継電極及び前記共通電極の上に配置されるとともに前記中継電極の前記上部電極及び前記下部電極まで貫通した第2コンタクトホールを有する層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜の前記第2コンタクトホールで前記中継電極に電気的に接続され前記共通電極と向かい合うスリットを有する画素電極と、を備えたことを特徴とする液晶表示装置。 (もっと読む)


【課題】 波形なまりや画素の透過率の低下を抑制でき、かつ表示ムラを抑制できる表示装置を提供する。
【解決手段】 デルタ配置の画素を有する表示装置において、画素はソース電極104、ドレイン電極105及びゲート電極101を備えたTFTと、コモン108と画素電極110とを備えた画素部とを含み、有機パッシベーション膜120は、ソース電極104のコンタクト部上方に、非対称な開口部を有し、互いに隣接する画素の有機パッシベーション膜120の非対称な開口部の向きが同じである。 (もっと読む)


【課題】基板に成膜した封止用の膜によって、反射部を構成するための溝の開口部を確実に塞ぐことができるとともに、溝の側面が封止用の膜で覆われることを最小限に抑えることのできる電気光学装置、該電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置100において、溝260を中空に封止するにあたって、第1封止膜27を形成する前、溝260内に犠牲膜24を形成しておき、第1封止膜27を形成した後、第1封止膜27の貫通部275を介して犠牲膜を除去する。そして、第1封止膜27上に第2封止膜28を形成し、第1封止膜27の貫通部275を第2封止膜28で塞ぐ。このため、第1封止膜27を溝260の開口部265を塞ぐように形成することができるとともに、第1封止膜27が溝260の奥まで形成されることを防止することができる。 (もっと読む)


【課題】表示品位の良好な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第1波長範囲の光を透過する第1カラーフィルタCF1と、第1波長範囲よりも長波長の第2波長範囲の光を透過する第2カラーフィルタCF2と、前記第2カラーフィルタの上に配置された第1スイッチング素子SW1と、前記第2カラーフィルタの上に配置された第2スイッチング素子SW2と、前記第1スイッチング素子と電気的に接続され、前記第1カラーフィルタの上方に位置する第1画素電極PE1と、前記第2スイッチング素子と電気的に接続され、前記第2カラーフィルタの上方に位置する第2画素電極PE2と、を備えたアレイ基板を具備することを特徴とする液晶表示装置。 (もっと読む)


61 - 80 / 1,511