【課題】遮光材料を大量に含む場合であっても露光により高感度で硬化し、且つ、保存安定性に優れたフォトマスクブランクス、該フォトマスクブランクスを用いて作製された高解像度で画像形成可能であり、耐溶剤性及び膜強度の高いフォトマスクを提供すること。
【解決手段】基板上に、（Ａ）増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）２つ以上のエチレン性不飽和結合を有する複素環化合物、（Ｄ）バインダーポリマー、及び（Ｅ）遮光材料を含有する感光性組成物層を備えるフォトマスクブランクス、及び該フォトマスクブランクスを用いて作製されたフォトマスク。 （もっと読む）

【課題】２種類の半透光膜と遮光膜の任意の組み合わせが可能な多階調フォトマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】フォトマスクブランクの遮光膜上に第１レジストパターンを形成する工程と、遮光膜をエッチングして第１のパターニングを行う工程と、第１レジストパターンを除去後、基板全面に第１半透光膜を形成し第２のレジストパターンを形成する工程と、少なくとも第１半透光膜をエッチングして第２のパターニングを行う工程と、第２レジストパターンを除去後、基板全面に第２半透光膜を形成し第３レジストパターンを形成する工程と、少なくとも第２半透光膜をエッチングして第３のパターニングを行う工程とを有する、多階調フォトマスクの製造方法で、第１レジストパターン形成は遮光部にレジストパターンを残存させ、遮光部のレジストパターンの寸法を、遮光部と隣接する透光部及び第１半透光部との境界において所定のマージン領域分広く形成する。 （もっと読む）

【解決手段】透明基板上に、遷移金属を含有してもよいケイ素系材料からなる遮光膜と、クロム化合物系材料からなり、フォトマスクブランクからフォトマスクに加工する間のいずれかの工程において全てが剥離されるエッチングマスク膜を有するフォトマスクブランクであり、エッチングマスク膜が、反応性スパッタリングによって成膜され、互いに組成の異なる２以上の層で構成された多層からなり、この多層が、透明基板上に単一組成層として成膜した場合に圧縮応力を与える材料からなる層と引っ張り応力を与える材料からなる層とを組み合わせて構成されたフォトマスクブランク。
【効果】本発明のフォトマスクブランクを用いることにより、エッチングマスク膜のエッチング除去前後で、表面形状の変化がわずかとなり、これによってフォトマスク加工が終了した後に得られるフォトマスクのパターン制御性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】高感度であり且つ保存安定性に優れたフォトマスクブランクス、及び、該フォトマスクブランクスを用いて作製された、解像度が高く、画像エッジ部の直線性に優れたフォトマスクを提供すること。
【解決手段】基板上に（Ａ）増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）エチレン性不飽和化合物、（Ｄ）バインダーポリマー、及び（Ｅ）遮光材料を含有する感光性組成物層と、ポリオキシアルキレン基を側鎖に含むポリビニルアルコール誘導体を含有する酸素遮断性層と、をこの順に有することを特徴とするフォトマスクブランクス、及び該フォトマスクブランクスを用いて作製されたフォトマスク。 （もっと読む）

【解決手段】透明基板上に１又は２以上の層で構成された膜が形成され、該膜の最表層がクロム系材料からなり、更に、該最表層上にドライエッチング用のエッチングマスク膜が設けられたフォトマスクブランクであって、上記エッチングマスク膜が、加水分解性シラン化合物の加水分解・縮合物、架橋促進剤化合物、及び有機溶剤を含む酸化ケイ素系材料膜形成用組成物を用いて成膜した膜厚１〜１０ｎｍの酸化ケイ素系材料膜であるフォトマスクブランク。
【効果】本発明のフォトマスクブランクのエッチングマスク膜は、塩素系ドライエッチングに対して高いエッチング耐性をもち、このエッチングマスク膜を用いてフォトマスクブランクを加工することにより、塩素系ドライエッチングであっても、薄いエッチングマスク膜で高精度の加工が可能である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、特定の周期膜厚分布を有する多層コーティングを有するマスクに係る。このマスクは、例えば、半導体部品を製造するためのリソグラフィ装置で使用される。投影光学系の一つの問題は、像の欠陥の原因となる瞳のアポダイゼ−ションに関係している。
【解決手段】本発明によれば、マスク平面内での周期膜厚分布が、最大の反射率を得るために最適な周期的膜厚分布よりも、大きくなるように選択される。その結果、瞳でのアポダイゼ−ションが、より対称性を増すのみではなく、強度変化が全体的に小さくなる。 （もっと読む）

【課題】パターンのＭｏＳｉ系膜、Ｃｒ系膜の、ＡｒＦエキシマレーザの照射による劣化を防止し、パターン寸法、パターン形状、位相差、透過率に変化のないフォトマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】ＭｏＳｉ系膜又はＣｒ系膜が設けられた基板１上にレジストパターンを形成し、上記膜をエッチングした後にレジストパターンを剥離し、形成されたＭｏＳｉ系膜又はＣｒ系膜のパターン２にプラズマ処理を施すこと。プラズマ処理の代わりにＵＶ照射又は加熱を施すこと。 （もっと読む）

【課題】 フォトマスク上のハーフトーン領域の白欠陥部分の修正に適用した場合に、欠陥修正部分の透過率を十分に均一化すること。
【解決手段】 レーザ発振器から射出されるレーザ光を、光軸前方に静止して設けられた開口を通過させたのち、対物レンズで集光することにより、反応ガス雰囲気中に置かれた試料表面に照射すると共に、前記開口へと入射されるレーザ光の光軸を前記開口に対して揺動させることにより、試料表面上における照射光強度を時間平均作用によって均一化するとき、前記開口へ入射されるレーザ光の径を前記開口の幅よりも十分に小さく設定すると共に、前記レーザ光の光軸を前記開口の幅よりも大きな振幅で揺動させる。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチングによるキャッピング膜の表面あれや膜質の変化を起こさず微細なパターン形成することが可能な反射型フォトマスクブランク及び反射型フォトマスクを提供する。
【解決手段】基板と、基板上に形成され、露光光を反射する多層反射膜と、多層反射膜上に形成され、多層反射膜を保護するキャッピング膜と、キャッピング膜上に形成され、ドライエッチングに対して耐性を有するドライエッチングストッパ膜と、ドライエッチングストッパ膜上に形成され、露光光を吸収する吸収膜と、吸収膜上に形成され、検査光の反射を防止する反射防止膜と、を有し構成されることを特徴とする反射型フォトマスクブランク。 （もっと読む）

【課題】５階調フォトマスクを用いる薄膜トランジスタ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板上に、遮光部、透光部及び第1半透光部と第２半透光部と第３半透光部からなるマスクパターンを有し、遮光部は透明基板上に形成された遮光膜により形成され、透光部は露出した透明基板により形成され、第1半透光部、第２半透光部及び第３半透光部は透明基板上に形成された露光光透過率の異なる第１半透光膜と第２半透光膜、第１半透光膜と第２半透光膜の積層膜のうちのそれぞれいずれかにより形成されている露光光透過率を５段階に変化させる５階調フォトマスクを用い、被転写体上に膜厚が５段階に異なるレジストパターンを形成する。この５階調フォトマスク１枚でフォトマスク４枚分のエッチング工程を施す。 （もっと読む）

【課題】４階調フォトマスクをフォトリソグラフィ工程により少ない描画回数で製造できること。
【解決手段】遮光部１３、透光部１４、及びそれぞれ異なる光透過率の第１半透光部１５Ａと第２半透光部１５Ｂを有し、被転写体上に膜厚が段階的又は連続的に異なるレジストパターンを形成する４階調フォトマスクの構成として、第１半透光部１５Ａは、透光性基板１６の表面に、光半透過性の第１半透光膜１７Ａが設けられて構成され、第２半透光部１５Ｂは、透光性基板１６の表面に、光半透過性の第２半透光膜１７Ｂが設けられて構成され、第２半透光部１５Ｂと第１半透光部１５Ａとは露光光の光透過率が異なり、遮光部１３は、透光性基板１６の表面に、第１半透光膜１７Ａ、遮光膜１８、及び第２半透光膜１７Ｂが積層されて構成されている。 （もっと読む）

【課題】半透光膜によりなる半透光部に発生した欠陥が好適に修正された多階調フォトマスクを提供する。
【解決手段】透明基板上に遮光部、透光部及び半透光部が形成された転写パターンを有し、被転写体上のレジスト膜に２つ以上の異なるレジスト残膜値を有するレジストパターンを形成する多階調フォトマスクであって、遮光部は透明基板上に遮光膜が形成されてなり、透光部は透明基板が露出して形成され、半透光部は透明基板上に形成された半透光膜によりなる正常部と、透明基板上に形成された修正膜によりなる修正部とを有し、透光部と修正部のｉ線〜ｇ線の波長光に対する位相差が８０度以下である。 （もっと読む）

【課題】実際の露光条件を適用したときに、多階調フォトマスクが形成する空間像を推測し、多階調フォトマスクを評価することができる多階調フォトマスクの検査方法を提供すること。
【解決手段】本発明の多階調フォトマスクの検査方法は、透明基板上に透光領域、遮光領域、及び半透光領域を含む転写パターンを備えた多階調フォトマスクの検査方法において、前記転写パターンの解像画像を取得し、前記解像画像に処理を施すことによって、前記転写パターンに所定の露光条件を適用したときに形成される空間像を得て、前記空間像により、前記転写パターンの実効透過率分布を得、実効透過率分布に基づいて評価することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸洗浄や水素プラズマを用いて、遮光膜としてタンタル、ニオブ、バナジウムまたは、タンタル、ニオブ、バナジウムの少なくとも２つからなる金属を用いたフォトマスクの洗浄を行うと、原子状の水素が遮光膜に侵入し、水素脆性を有するタンタル、ニオブ、バナジウムまたは、タンタル、ニオブ、バナジウムの少なくとも２つを含む金属が脆化し、変形してしまうという課題がある。
【解決手段】金属膜としての遮光膜２３を、遮光膜２３を酸化して得られた酸化金属を水素阻止膜２４として用いることによって、気密封止する。水素阻止膜２４は、遮光膜２３を覆うよう配置されており、酸洗浄や水素プラズマ洗浄を行う際に生じる水素原子の遮光膜２３への侵入を防止する機能を有しているため、洗浄工程における原子状水素の侵入による遮光膜２３の水素脆性に起因する遮光膜２３の変形を防止することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ネガ型フォトレジストを用いても、高さの安定したフォトスペーサー及び上面に凹部が生じない配向制御突起が形成されるカラーフィルタの製造を可能とするフォトマスク、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタを提供する。
【解決手段】フォトスペーサーＰｓの形成に対応したパターンは透光部５３であり、配向制御突起Ｍｖの形成に対応したパターンはハーフトーン部５４であり、該ハーフトーン部は、半透光膜５５の中央部に透光部５６が設けられている。フォトスペーサーの幅を１２μｍ、高さを２．５〜３．９μｍに、配向制御突起の幅を１０μｍ、高さを１．０〜１．５μｍに形成する際に、半透光膜は透過率１５％を有するＩＴＯで、半透光膜の外形は１３〜１７μｍ、透光部は２．０〜３．０μｍであること。 （もっと読む）

【課題】マスクブランクの製造過程で発生する欠陥を容易かつ確実に検出することができるマスクブランク用基板の製造方法、およびマスクブランクの製造方法を提供すること。
【解決手段】マスクブランクの製造工程では、検査対象品に検査光を照射した際の反射光を光電変換装置５９で受光して電気信号に変換し、電気信号を検査対象品表面における位置情報と対応付けてデータ記憶部に記憶する信号取得工程を行う。次に、第１基準値以上の欠陥の有無を判定して検査対象品の良品判定を行う第１判定工程を行い、良品と判定された検査対象品に対して、第１基準値よりも小さい第２基準値以上の微小欠陥の有無を判定する第２判定工程を行う。最後に、検出された微小欠陥同士の距離関係や位置関係から近接する微小欠陥集合体の有無を判定し、微小欠陥集合体として判定されたものが第１基準値以上であるかを基準に検査対象品の良品判定を行う第３判定工程を行う。 （もっと読む）

【解決手段】酸素及び／又は窒素を含有し、遷移金属を含有してもよい単層又は多層の第１のケイ素系材料層と、第１のケイ素系材料層に隣接して形成され、遷移金属を含有してもよく、第１のケイ素系材料層より窒素及び酸素の合計の含有率が小さいケイ素系材料層からなる単層又は多層の第２のケイ素系材料層とからなる積層体から、第１のケイ素系材料層のエッチング速度に対する第２のケイ素系材料層のエッチング速度が大きくなるように塩素系ガスと酸素ガスとの比率を設定して、塩素系ドライエッチングにより、第２のケイ素系材料層を選択エッチング除去する。
【効果】エッチングストッパー膜を用いなくとも、同種のケイ素系材料の積層体、例えば、位相シフト膜であるケイ素系材料の遮光膜を、ケイ素系材料の位相シフト膜上に積層したものを用いても、位相シフト膜にダメージを与えることなく、遮光膜に対する高精度なエッチング加工が可能となる。 （もっと読む）

【解決手段】透明基板上に位相シフト膜が形成され、更に位相シフト膜上に遮光膜が形成され、位相シフト膜及び遮光膜が各々ケイ素系材料層を有し、位相シフト膜のケイ素系材料層と遮光膜のケイ素系材料層とが互いに隣接し、位相シフト膜中のケイ素系材料層中の窒素及び酸素の合計の含有率と、遮光膜のケイ素系材料層中の窒素及び酸素の合計の含有率との差を有するフォトマスクブランクから、塩素系ガスと酸素ガスとの比率が設定された塩素系ドライエッチングにより、遮光膜のケイ素系材料層を選択エッチング除去する工程を含むフォトマスクの製造方法。
【効果】エッチングストッパー膜を用いなくとも、位相シフト膜と同種の材料であるケイ素系材料の遮光膜を、ケイ素系材料の位相シフト膜上に積層したものを用いても、位相シフト膜にダメージを与えることなく、遮光膜に対する高精度なエッチング加工が可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ハーフトーンマスク及びその製造方法に関する。特に、具体的には、半透過膜を積層して光透過率を調節できるハーフトーンマスクを提供することを目的とする。
【解決手段】理論的な挙動特性ではない実際のプロセスに基づいたデータベースを通じて構築される光透過率を具現できるようにして、特定の透過率ではない広範囲な領域での透過率を備えたハーフトーンマスクとその製造方法に関するものである。 （もっと読む）

【課題】半透明領域間の透過率差が小さい場合であっても透過率差の精度が良く、かつ、容易に形成することができる階調マスクを提供する。
【解決手段】透明基板１と、半透明膜３と、エッチングストッパー層４と、遮光膜２と、を有する階調マスクであって、上記透明基板からなる透過領域１１と、上記透明基板、上記半透明膜、上記エッチングストッパー層および上記遮光膜からなる遮光領域１２と、上記透明基板および上記半透明膜からなる第１半透明領域１４と、上記透明基板、上記半透明膜および上記エッチングストッパー層からなる第２半透明領域１３と、を備え、上記エッチングストッパー材料が、上記遮光膜形成材料および上記半透明膜形成材料とは選択性エッチングが可能なものであることを特徴とする。 （もっと読む）