【課題】リソグラフィー用共重合体の、パターン形成における性能を、パターンを形成せずに評価する方法を提供する。
【解決手段】下記工程（１）〜（３）を含むリソグラフィー用共重合体の評価方法。
（１）リソグラフィー用共重合体と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含むリソグラフィー組成物を用いて、基材上に薄膜を形成する工程。
（２）前記薄膜を露光した後、現像する工程。
（３）現像後、現像処理した薄膜の表面状態を評価する工程。 （もっと読む）

【課題】ドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）をムラ無く、均一に薄膜化することが可能で、除去液の再生が可能で、廃液量を大きく削減でき、環境に優しい処理方法であり、除去液の再生の処理時間が大きく短縮可能なドライフィルムレジストの薄膜化処理方法を提供する。
【解決手段】ＤＦＲが貼り付けられた基板の該ＤＦＲを処理液で処理する工程、その後に、除去液を用いて表面の不用なＤＦＲを除去液を用いて除去する工程とからなるＤＦＲの薄膜化処理方法において、除去液中に含まれるＤＦＲ濃度が０．５質量％を超える前に、除去液中に溶解したＤＦＲを、ｐＨを一旦低下させることにより、凝集、沈殿させ、ろ過助剤としてセルロースパウダーを使用し、加圧型の脱水ろ過機を用いて固液分離し、分離後のろ過水のｐＨを中性に戻して、再度、除去液として再利用することを特徴とするＤＦＲの薄膜化処理方法。 （もっと読む）

【課題】形成した樹脂パターンを熱処理した後であっても矩形又は矩形に近い樹脂パターンを製造できる樹脂パターン製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも工程（１）〜（６）をこの順に含むことを特徴とする樹脂パターン製造方法。
（１）感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程
（２）塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程
（３）溶剤が除去された感光性樹脂組成物を活性光線によりパターン状に露光する露光工程
（４）露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程
（５）現像された感光性樹脂組成物の表面とプラズマ化したガスから生じるイオン及び／又はラジカルとを接触させプラズマ処理を行うプラズマ処理工程
（６）プラズマ処理を行った感光性樹脂組成物を熱処理する熱処理工程 （もっと読む）

【課題】ネガティブトーン（ｎｅｇａｔｉｖｅ ｔｏｎｅ）現像プロセスを用いて微細パターンの形成に有用なフォトレジスト組成物およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の単位を含む第１のポリマー；


下記一般式（ＩＶ）および（Ｖ）の単位を含む第２のポリマー；


並びに光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュード及び耐ドライエッチング性能に優れたネガ型パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により分解し、極性基を生じる基を有する繰り返し単位を、樹脂中の全繰り返し単位に対して６５モル％以上有し、かつ下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像し、ネガ型パターンを形成する工程を含む、ネガ型パターン形成方法。
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【課題】孤立コンタクトホールパターンを形成する際の焦点深度マージン（ＤＯＦ）に優れたレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ−ａ）又は（Ｉ−ｂ）により表される繰り返し単位（ａ）及び（メタ）アクリル酸の三級アルコールとのエステルから誘導される繰り返し単位（ｂ）を含み、アルコール性ヒドロキシル基を備えた繰り返し単位を実質的に含まない樹脂（Ａ）と、特定のトリフェニルスルホニウム塩化合物（Ｂ）とを含有するレジスト組成物。
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【課題】十分な耐汚れ性を有し、耐刷性が改善されたネガ型感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】支持体上に、少なくとも親水性層と光重合性の感光層をこの順に有するネガ型感光性平版印刷版であって、該親水性層がアクリルポリオール樹脂を含有する。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュードに優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により分解し、極性基を生じる基を有する繰り返し単位を、樹脂中の全繰り返し単位に対して６５モル％以上有し、かつ下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】現像性が高く、現像カスの発生がなく、耐刷性が良好な平版印刷版原版、並びに、その製版方法を提供する。
【解決手段】支持体、ラジカル重合性化合物及びラジカル重合開始剤を含有する画像記録層、並びに、星型ポリマーを含有する保護層をこの順に有する平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザーによる画像露光が可能な機上現像性平版印刷版原版を、リスフィルムを介してＵＶ露光を行い、機上現像する平版印刷版の製版において、耐刷性及び機上現像性が良好で、機上現像時にカス析出が起こり難く、リスフィルムとの真空密着性が良好な製版方法を提供する。
【解決手段】（１）支持体と、シアニン染料、フェニル基上に置換基を有していてもよいジフェニルヨードニウム塩またはトリフェニルスルホニウム塩、ラジカル重合性化合物及びポリオキシアルキレン鎖を側鎖に有するポリマー微粒子を含有する画像記録層とをこの順に有する波長７６０〜１２００ｎｍの赤外線を放射する半導体レーザーによる画像形成が可能な平版印刷版原版を準備し、（２）平版印刷版原版の上にリスフィルムを置き、減圧することによりリスフィルムと平版印刷版原版を密着させ、（３）ＵＶ露光後、（４）機上現像することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】着肉性が良好であり高耐刷性を有する平版印刷版を与え、かつ、機上現像性に優れた平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）赤外線吸収染料、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物及び（Ｄ）アルキレンオキサイド基を有するバインダーポリマーを含有し、露光後に印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかにより未露光部を除去することで画像形成可能な画像記録層、並びに、画像記録層上に、（Ｅ）２つの特定構造の繰り返し単位を有する親水性ポリマーを含む保護層を有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】ポットライフに優れる水性分散液である感光性組成物及びこの感光性組成物を利用した水現像可能で高感度な感光性平版印刷版材料を与えること。
【解決手段】少なくとも、光重合開始剤の水中乳化物と重合性二重結合基を有する化合物の水中乳化物とスルホン酸塩基を有する水溶性ポリマーを含有する水性分散液である感光性組成物であって、光重合開始剤の水中乳化物と重合性二重結合基を有する化合物の水中乳化物の少なくとも一方が、一般式１で表される繰り返し単位を有する高分子化合物の存在下で、光重合開始剤あるいは重合性二重結合基を有する化合物を水中に乳化分散して得た水中乳化物であることを特徴とする感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト層を純水で現像することができる親水性モノマー、およびそれを含む親水性フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の４官能基からなる親水性アクリレートモノマーおよび親水性樹脂は、それぞれ、純水に溶解出来、親水性フォトレジスト組成物を基板表面にスピンコーティングしてフォトレジスト層を形成し、フォトレジスト層を純水で現像することができ、塩基性の現像溶媒の使用により、環境汚染、またフォトリソグラフィに費用がかかるという従来技術の欠陥を克服出来る。 （もっと読む）

【課題】現像後における平版印刷版の耐刷性を維持させたまま、良好な現像性が得られる平版印刷版原版及び平版印刷方法を提供する。
【解決手段】表面親水性の支持体上に、重合性化合物、重合開始剤、ポリエチレンオキシ基を側鎖に有する高分子微粒子、及び高分子化合物を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版であって、高分子化合物が、主鎖が３つ以上に分岐した星型形状を有し、分岐した主鎖の側鎖にポリエチレンオキシ基及びポリプロピレンオキシ基の少なくともいずれかを有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】機上現像性が高く、耐刷性に優れた平版印刷版原版、並びにそれを用いた平版印刷方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、バインダー、ラジカル重合性化合物及びラジカル重合開始剤を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版であって、該バインダーが、６官能以上１０官能以下の多官能チオールを核として、この核に対しスルフィド結合により結合したポリマー鎖を有し、該ポリマー鎖が重合性基を有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】耐刷性と現像性が両立できる平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び平版印刷方法を提供する。
【解決手段】表面親水性の支持体上に、熱可塑性微粒子ポリマー、赤外線吸収剤、及び高分子化合物を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版であって、高分子化合物が主鎖が三つ以上に分岐した星型形状を有し、分岐した高分子主鎖の側鎖に親水性基を有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】 ラフネス特性、フォーカス余裕度、ブリッジ欠陥性能、及び、感度の露光後加熱（ＰＥＢ）温度依存性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた第１繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する第１化合物と、溶剤と、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を含み、塩基性を有するか又は酸の作用により塩基性が増大する第２化合物とを含有している。 （もっと読む）

【課題】簡易な設備により高解像度のスクリーン印刷版を製造する。
【解決手段】波長λ１の紫外線によって硬化する感光性材層１２がスクリーン紗１１の片面又は両面を覆うように形成されているスクリーン版１ａの一方の面に、波長λ１の紫外線を透過し、かつ波長λ１と異なる波長λ２の紫外線を遮断するＵＶカット層１３を形成する紫外線遮断層形成工程と、ＵＶカット層１３上に、波長λ２の紫外線によって硬化する紫外線硬化インク１４ｂにより構成される所定のパターン１４ａを形成させるパターン形成工程と、パターン１４ａの上から波長λ２の紫外線を照射するインク硬化工程と、上記インク硬化工程の後に、パターン１４ａの上から波長λ１の紫外線を照射する露光工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】プロセスタイムの増大や装置コストの増大を招かずに、低コストで迅速に製造できる、半導体装置用実装品の製法を提供する。
【解決手段】半導体装置に用いる実装用の２部品を準備する工程と、そのいずれかの部品の接着用面に感光性接着剤組成物を付与する工程と、その付与面を露光し現像して所定のパターンに形成する工程と、このパターン形成された接着剤付与面を用いて実装用の２部品を接着して実装品をつくる工程とを備えた半導体装置用実装品の製法において、特殊な感光性接着剤組成物と、特殊な現像液を用いるようにした。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、パターンの線幅均一性及び感度の現像時間依存性のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）（Ａ）樹脂中の全繰り返し単位に対して、アルコール性水酸基を有する繰り返し単位を３５モル％以上含有し、かつ酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有する化学増幅型レジスト組成物によって膜を形成する工程、
（イ）該膜を露光する工程、及び
（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程
を含み、形成されるパターンがネガ型である、パターン形成方法。 （もっと読む）