【課題】ダブルパターニングプロセスにおいて、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体２２上に、露光によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する１つまたは複数種のポジ型レジスト組成物によりポジ型レジストパターン２０を形成する工程（１）と、前記ポジ型レジストパターン２０が形成された前記支持体２２上に、露光により有機溶剤に対する溶解性が減少するネガ型現像用レジスト組成物を塗布してネガ型現像用レジスト膜２１を形成する工程（２）と、前記ネガ型現像用レジスト膜２１を露光し、前記有機溶剤を含有するネガ型現像液により現像して、前記ポジ型レジストパターン２０を除去するレジストパターンを形成する工程（３）と、を含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ガム現像性、ランニング処理性、耐傷性に優れ、機上現像性、インキ着肉性、感度及び耐刷性のすべての性能が良好である平版印刷版原版及びその製造方法を提供する。
【解決手段】支持体と、ラジカル重合開始剤及びラジカル重合性化合物を含有する画像記録層と、水溶液中で曇点を有するアミノ基及びアミド結合の少なくともいずれかを含むモノマー単位を有する高分子樹脂を含有するオーバーコート層とをこの順に有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】欠陥密度の小さいパターンを形成可能とするパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、（ａ）化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（ｂ）前記膜を露光することと、（ｃ）第１有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでおり、前記現像液は、粒径が0.3μm以上のパーティクルの密度が30個/ｍＬ以下である。 （もっと読む）

【課題】レーザー露光による画像記録が可能であり、現像性及び汚れ性に優れ、かつ十分な耐刷性を有する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、画像記録層と、必要に応じて下塗り層を有し、画像記録層又は下塗り層の少なくともいずれかに（Ａ）ベタイン構造を少なくとも２つ有するモノマー単位を含むエチレン性ポリマーを含有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】非画像部に画像形成層の残存が無い良好な現像性を示し、かつ耐刷性、耐汚れ性、ＵＶインキ耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版を作製することができる平版印刷版原版及び現像性に優れ、かつ耐刷性、耐汚れ性、ＵＶインキ耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版の作製方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、（ｉ）下記繰り返し単位Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤから構成されるウレタン樹脂を含むバインダーポリマー、（ｉｉ）重合性化合物、及び（ｉｉｉ）重合開始剤を含む画像形成層を有することを特徴とする平版印刷版原版。


式中、ａ、ｂ、ｃ及びｄは各繰り返し単位のモル％を表す。但し、ａは５０モル％であり、ｂ、ｃ及びｄの合計は５０モル％である。ｎはプロピレンオキサイドの繰り返し数を表す。 （もっと読む）

【課題】耐湿熱性に優れ、硬化物が高温で高い弾性率を有し、中空構造保持性にも優れる感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた感光性フィルム、リブパターンの形成方法、中空構造の形成方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】中空構造を有する電子部品において前記中空構造を形成するリブ材または蓋材として用いられる感光性樹脂組成物が、（Ａ）熱架橋性化合物と（Ｂ）少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と（Ｃ）光重合開始剤とを含有し、かつ前記（Ａ）熱架橋性化合物の含有量が、前記（Ａ）縮合反応性の熱架橋性化合物と前記（Ｂ）少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物の合計量を１００質量部としたときに、１０〜４０質量部である感光性樹脂組成物感光性樹脂組成物及び該感光性樹脂組成物から得られる感光性フィルムを用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】少なくとも（ａ）基板上に光架橋性樹脂層を形成する工程、（ｂ）光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行う工程、（ｄ）回路パターンの露光工程、（ｅ）現像工程を含むレジストパターンの作製方法において、搬送工程や露光工程で光架橋性樹脂層表面に傷や異物の付着がなく、密着露光を行ってもフォトツールを汚染しないレジストパターンの作製方法を提供することである。また、光架橋性樹脂層に段差があっても、段差周囲で光の屈折による線太りや酸素による重合阻害を生じることのないレジストパターンの作製方法を提供することである。
【解決手段】（ｂ）光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行う工程の後に、（ｆ）透明性フィルムと非感光性のアルカリ可溶性粘着層が積層したマスキングフィルムを光架橋性樹脂層上に貼り付ける工程を含み、（ｃ）回路パターンの露光工程後に、（ｇ）透明性フィルムを除去する工程を含むレジストパターンの作製方法。 （もっと読む）

【課題】レーザーによる画像記録が可能であり、良好な機上現像性および印刷画像再現性を有し、印刷中のインキ受容性が安定で耐刷性に優れる平版印刷版原版、平版印刷方法および平版印刷版原版の製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、露光後、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給して未露光部分を除去することにより画像形成可能な画像記録層およびその上に保護層を有する平版印刷版原版において、保護層に無機質層状化合物および有機カチオンを含むことを特徴とする平版印刷版原版およびその製造方法、並びに、特定構造のホスホニウム化合物を画像記録層および／または保護層に含有することを特徴とする平版印刷版原版および特定構造のホスホニウム化合物を含有する湿し水を用いる機上現像を含む平版印刷方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高い放射線感度を有し、また塗布ムラのない高度な平坦性（膜厚均一性）を有する表示素子用スペーサーを形成でき、さらに高速塗布が可能な感放射線性組成物、表示素子用スペーサー及びその形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］（メタ）アクリロイル基及びカルボキシル基を含有する芳香族樹脂、［Ｂ］重合性不飽和化合物、［Ｃ］感放射線性重合開始剤、並びに［Ｄ］有機溶媒を含有し、固形分濃度が１０質量％以上３０質量％以下であり、２５℃における粘度が２．０ｍＰａ・ｓ以上１０ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ［Ｄ］有機溶媒として、少なくとも（Ｄ１）２０℃における蒸気圧が０．１ｍｍＨｇ以上１ｍｍＨｇ未満の有機溶媒を含む感放射線性組成物である。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位と、ラクトン環を有する繰り返し単位の両方を含有する（メタ）アクリレート共重合体と、酸発生剤と、有機溶剤を含むレジスト組成物を基板上に塗布して、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に安息香酸メチル、安息香酸エチル、酢酸フェニル、酢酸ベンジル、フェニル酢酸メチル、蟻酸ベンジル、蟻酸フェニルエチル、３−フェニルプロピオン酸メチル、プロピオン酸ベンジル、フェニル酢酸エチル、酢酸２−フェニルエチルから選ばれる溶剤１種以上を４０質量％以上含有する溶液による現像を行うパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、安全にネガティブトーンパターンを形成できるプロセスを構築できる。 （もっと読む）

【課題】異物付着欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法及びこのパターン形成方法に用いられる現像液を提供する。
【解決手段】（ア）化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び、（ウ）露光した膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、
を含むパターン形成方法であって、前記現像液中のアルコール化合物（Ｘ）の含有率が、現像液の全質量に対し０以上５００ｐｐｍ未満であることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位と酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位の両方を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒を含むレジスト組成物、あるいは酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒を含むレジスト組成物を基板上に塗布して、加熱処理後に高エネルギー線でレジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像とアルカリ水溶液による現像の２回の現像を行うパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、有機溶剤とアルカリ水による２回の現像によって１本のラインを２本に分割し、マスクパターンの２倍の解像力を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】金属箔に破れやシワを生じにくくして安定的に有孔金属箔を生産することができる有孔金属箔の製造方法を提供する。
【解決手段】金属箔１の片面に孔部５を有するエッチングレジスト４が形成される。前記金属箔１の他の片面にキャリアフィルム３が形成される。前記金属箔１の前記孔部５から露出する部分にエッチング液が供給されることにより前記孔部５から露出する部分がエッチング液で溶解されて金属箔１に開口部６が形成される有孔金属箔の製造方法に関する。前記キャリアフィルム３が感光性ドライフィルム２により形成される。前記感光性ドライフィルム２が剥離液により除去される。キャリアフィルム３を剥離液により容易に剥離させて除去することができる。 （もっと読む）

【解決手段】(i)基板上への犠牲膜パターン形成段階、(ii)犠牲膜パターン上への無機材料膜形成段階、(iii)犠牲膜パターンの形状を持つ空間を形成する段階を含むマイクロ構造体の製造方法において、(i)段階は、(A)クレゾールノボラック系樹脂と1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物のいずれかと、架橋剤を含む光パターン形成性犠牲膜形成用組成物で犠牲膜を成膜する工程、(B)該犠牲膜に第1の高エネルギー線照射を行う工程(C)現像でポジ型犠牲膜パターン形成工程(D)該犠牲膜パターンに第2の高エネルギー線照射を行う操作及び加熱操作を含み、クレゾールノボラック樹脂間に架橋を形成する工程、を含む。
【効果】高精度な平面形状及び適切な側壁形状を有し、熱耐性に優れる犠牲膜パターンが得られる。 （もっと読む）

【課題】塗布面状が良好で、屈折率が低く、高温条件下においても屈折率変化が小さいパターン膜（以上、例えば、光学デバイスにおける反射防止膜に適した性能）であって、誘電率が低く、かつ、ヤング率が高いパターン膜（以上、例えば、半導体素子デバイス等における層間絶縁膜に適した性能）を、高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、及び、パターン膜を提供する。更に、該感光性組成物を用いて製造される反射防止膜及び絶縁膜、並びに、これらを用いた光学デバイス及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）で表される１種又は２種以上のかご状シルセスキオキサン化合物から構成されるシルセスキオキサン類より得られる重合体と（Ｂ）光重合開始剤とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン膜、反射防止膜、絶縁膜、光学デバイス及び電子デバイス。
（ＲＳｉＯ_１．５）_ａ 式（１）
（式（１）中、Ｒは、それぞれ独立に、有機基を表し、Ｒのうちの少なくとも２つは、重合性基を表す。ａは８〜１６の整数を表す。複数のＲは同一であっても異なっていてもよい。）
ただし、前記重合体には前記かご状シルセスキオキサン化合物由来の重合性基が残存している。 （もっと読む）

【課題】光架橋性樹脂層の薄膜化処理方法において、連続薄膜化処理によって光架橋性樹脂溶解量が増加した場合にも、現像能力および溶解能力を一定に維持することができる方法を提供する。
【解決手段】光架橋性樹脂層の薄膜化処理方法において、工程（ａ）；基板上に光架橋性樹脂層を形成する工程、工程（ｂ１）；無機アルカリ性化合物を５〜２０質量％含む水溶液で処理する工程、工程（ｂ２）；無機アルカリ性化合物とアセチレン基を中央に持ち、左右対称の構造をした非イオン性界面活性剤とを含み、ｐＨ５〜１０である水溶液で処理する工程を含むことを特徴とする光架橋性樹脂層の薄膜化処理方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ドライフィルムレジストを均一に薄膜化することが可能なドライレジストの薄膜化処理方法を提供するものである。
【解決手段】基板上にドライフィルムレジストを貼り付け、界面活性剤を含む水溶液にて水洗前処理を行った後、無機アルカリ性化合物の含有量が５〜２０質量％のアルカリ水溶液によって薄膜化処理することを特徴とするドライフィルムレジストの薄膜化処理方法。 （もっと読む）

【課題】長期の室温放置安定性に優れ、さらに露光量が比較的少なくても、精度よくパターン形成できる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、一般式（１）で表される化合物を含むシロキサン化合物を加水分解縮合して得られる重量平均分子量５０００以上のシロキサン樹脂と、光酸発生剤及び光塩基発生剤からなる群より選択される少なくとも１種と、上記シロキサン樹脂を溶解可能な溶媒と、を含有する。


［式中、Ｒ^１は、Ｈ原子若しくはＦ原子、又はＢ原子、Ｎ原子、Ａｌ原子、Ｐ原子、Ｓｉ原子、Ｇｅ原子若しくはＴｉ原子を含む基、又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示し、４−ｎ個のＸは同一でも異なっていてもよく、ｎが２のとき、２個のＲ^１は同一でも異なっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】着色剤として染料を用いた場合であっても、耐熱性、耐溶剤性が良好な着色パターンを形成することができる着色組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）バインダー樹脂、及び（Ｃ）２個以上のエポキシ基と、ケイ素原子に結合する２個以上のアルコキシ基を有する架橋剤を含有することを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物。 （もっと読む）

【課題】レーザーによる画像記録により直接製版可能、かつ機上現像が可能であり、特に経時後の汚れ難さに優れ、さらに耐刷性が良好な平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）重合開始剤、（Ｂ）赤外線吸収染料、及び（Ｃ）重合性化合物を含有し、印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかにより除去可能な画像記録層を有する平版印刷版原版であって、前記支持体と前記画像記録層の間に設けられる下塗り層に、リン酸モノエステルを有するモノマー由来の繰り返し単位（ｉ）、リン酸ジエステルを有するモノマー由来の繰り返し単位（ｉｉ）、及び親水性基を側鎖に有する繰り返し単位を含み、上記繰り返し単位（ｉ）及び繰り返し単位（ｉｉ）の質量の和に対する繰り返し単位（ｉｉ）の質量比が０．０３〜０．２５である共重合体を含有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）