【課題】めっき後に細線乃至小ドットの金属パターンを高解像度で形成できる金属パターン材料及び金属パターン材料の製造方法の提供。
【解決手段】特定のめっき形成用光感応材料を６μｍ未満のピッチで露光する際に、６μｍピッチ露光時の最適パワーに対し、１００％未満であり、かつ〔（ピッチ（μｍ）×７５／６＋２５）−３０〕〜〔（ピッチ（μｍ）×７５／６＋２５）＋１５〕％のレーザーパワーで露光する露光工程と、露光後のめっき形成用光感応材料を現像液で現像する現像工程と、現像後のパターンが形成されためっき形成用光感応材料を、めっき浴比が１０未満でめっきを行うめっき工程とを含む金属パターン材料の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】１液処理が可能であり、耐刷性能が優れた感光層の形成を可能とする感光性組成物、サーマルネガ版用平版印刷版原版、および画像形成方法を提供すること。
【解決手段】下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）


で表される繰り返し単位を少なくとも含有し、式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量が、それぞれ３〜２０質量％、１５〜４５質量％、および１５〜３５質量％であるアルカリ可溶性樹脂を少なくとも含有する感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】 印刷法での回路パターンの高精細化の限界、フォトリソグラフィー法での高コストおよび加熱処理工程の長さ、さらに高温焼成タイプの導電ペーストで用いる基板の制約を解決する金属微粒子含有光硬化性樹脂組成物を提供し、それを用いた電気配線回路の形成方法、およびその方法によって製造されるタッチパネル用基材、表示装置用基材、情報処理端末装置用基材等の電気配線回路形成板法の製造を容易にすることを目的とする。
【解決手段】 本発明によれば、平均粒径が５ｎｍ以上１００ｎｍ未満の導電性を有する金属微粒子（ａ−１）を含む金属フィラー（Ａ）と、活性エネルギー線照射で硬化する光硬化性樹脂組成物（Ｂ）とを含有組成物中の金属フィラー（Ａ）：光硬化性樹脂組成物（Ｂ）の重量比が８０：２０以上９８：２未満の範囲であることを特徴とする金属微粒子含有光硬化性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、電子線レジスト組成物の高精度な感度管理をするための感度検査方法を用いた、高精度に管理されたレジスト組成物の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 レジスト組成物用材料と溶剤からなるレジスト組成物原体を調製し、該レジスト組成物原体を一部採取し、該採取したレジスト組成物原体を用いて試験用基板上にレジスト膜を形成し、該レジスト膜にパターン照射を含むパターン形成処理を行ってレジストパターンを形成し、形成された該レジストパターンのサイズと前記パターン照射時の照射エネルギー量に基づいて前記レジスト組成物原体の感度を検定した後、該感度検定結果を基に前記レジスト組成物原体に加える追加材料の量を調整して前記レジスト組成物原体の感度調整を行う化学増幅型レジスト組成物の製造方法において、前記パターン照射を電子線ビーム照射により行うことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、湿式現像処理工程を経ることなくネガ型画像を形成することを可能とする感光性組成物と、該感光性組成物用いた平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】 （Ａ）下記式（Ｉ）
【化１】


（式中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。）
の構造を有する繰り返し単位を共重合成分として６０〜９５モル％含有する高分子化合物を提供する。 （もっと読む）

【課題】密着性に優れ、電気的信頼性の高いシリカ系被膜の硬化物が得られるシリカ系被膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明のシリカ系被膜の形成方法は、下記一般式（１）で表される化合物を含むシラン化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、光酸発生剤及び光塩基発生剤からなる群より選択される少なくとも１種と、シロキサン樹脂を溶解可能な溶媒と、オニウム塩と、を含有する感光性樹脂組成物を基板上に塗布して被膜を得る工程と、パターンマスクを介して被膜を露光する工程と、露光する工程の後に被膜を加熱する工程と、加熱する工程の後に被膜の未露光部を現像によって除去する工程と、除去する工程の後に残存する被膜に紫外線を照射して、パターンを有するシリカ系被膜を得る工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】無機膜上に形成するレジストパターンの形成性及びエッチング選択比に優れ、レジスト膜を薄膜化する場合においても忠実なパターン転写が可能な多層レジストプロセス用無機膜形成組成物、並びにパターン形成方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］加水分解性基を有する金属錯体（Ｉ）、加水分解性基を有する金属錯体（Ｉ）の加水分解物及び加水分解性基を有する金属錯体（Ｉ）の加水分解縮合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物、並びに［Ｂ］有機溶媒を含有する多層レジストプロセス用無機膜形成組成物であって、［Ａ］化合物が、第３族元素、第４族元素及び第５族元素からなる群より選択される少なくとも１種の金属元素を含有し、かつこの金属元素の含有割合が、［Ａ］化合物に含まれる金属元素及び半金属元素の合計量に対し５０モル％以上であることを特徴とする多層レジストプロセス用無機膜形成組成物である。 （もっと読む）

【課題】感度及び安定性の高い重合性組成物、並びに、高感度、高耐刷性で、保存安定性の高い平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で示されるボレート化合物、（Ｂ）増感色素、及び（Ｃ）重合性化合物を含む重合性組成物。支持体上に、該重合性組成物を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版。


（一般式（１）においてＲ１、Ｒ２及びＲ３は、そのうちの一つ又は二つは、ＯＲ７、ＳＲ８又はＮＲ９Ｒ１０を表し、それ以外は、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６はそれぞれ独立に、アリール基又はヘテロ環基を表す。[Ｘ]＋は電荷を中和するカチオンを表す。Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、２つのＲ８又はＲ９とＲ１０で環を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜の提供。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される酸によって分解しカルボキシル基を生じる繰り返し単位（ａ１）を有する樹脂（Ｐ）、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】赤外レーザーで画像記録可能であり、耐汚れ性及び保存安定性を維持しつつ高耐刷である平版印刷版原版を提供する。特に機上現像可能な平版印刷版原版とその製版方法を提供する。
【解決手段】親水性支持体上に、（Ａ）ポリマー微粒子、（Ｂ）ラジカル重合性化合物、及び（Ｃ）赤外線吸収染料を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版であって、（Ａ）ポリマー微粒子が、分子中に２個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、並びに、活性水素を有する化合物との反応により得られることを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】シャドウ部の網絡みがなく、且つ耐刷性に優れたネガ型感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】支持体上に、親水性層、感光層をこの順に有するネガ型感光性平版印刷版に於いて、該感光層が、側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有するカチオン性水溶性重合体または側鎖にビニル基が置換したフェニル基及びスルホン酸塩基を有する水溶性重合体、及び光重合開始剤または光酸発生剤を含有し、更にオキシムエステル化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】ＣＴＰ方式に利用できる高感度な感光性平版印刷版材料であり、水により現像が可能で、特に紫外線硬化インキを使用した場合にも耐刷性が良好であり、またタック値の低いインキを使用した場合にも網絡みの発生のない印刷性に優れた感光性平版印刷版材料を提供すること。
【解決手段】支持体上に、水溶性ポリマーとヒドロキシアパタイトを含有する親水性層と、該親水性層上に、不飽和二重結合基を側鎖に有する水溶性重合体、光重合開始剤、および光重合開始剤を増感する化合物を含有する光重合性感光層を有する感光性平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】解像度及びレジスト剥離特性の向上に十分効果のある感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）スチレン又はスチレン誘導体に基づく構造単位と、（メタ）アクリル酸ベンジル又は（メタ）アクリル酸ベンジル誘導体に基づく構造単位と、（メタ）アクリル酸に基づく構造単位と、（メタ）アクリル酸アルキルエステルに基づく構造単位とを有し、分散度が１．０〜２．０であるバインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、及び、（Ｃ）光重合開始剤を含有する。 （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルム支持体上に、親水性層、光重合性の感光層を少なくともこの順に有する感光性ネガ型平版印刷版であって、非画像部の耐汚れ性を低下させずに画像部の耐刷性を改善し、耐刷性及び耐地汚れ性共に充分な性能が得られる感光性ネガ型平版印刷版を提供する。
【解決手段】親水性層がカルボキシ基を有する水溶性高分子化合物、グリシジル基またはカルボジイミド基を有する架橋剤、及び下記一般式（１）で示される化合物を含有する感光性ネガ型平版印刷版。
【化１】


（式中Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｌは二価の連結基を表し、Ｍはカチオンを表す。） （もっと読む）

【課題】フォトレジスト製造において、感度の高いオキシムエステル系光重合開始剤の溶解性が良く、電子材料用途のペースト組成物の特性を損なわないフォトレジスト製造用溶剤組成物を提供する。
【解決手段】特定構造の化合物を含む溶剤Ａとオキシムエステル系光重合開始剤とを混合して溶剤組成物（Ｃ）とした後、前記溶剤組成物（Ｃ）を、前記溶剤Ａと相溶する溶剤Ｂと混合してフォトレジスト製造用組成物（Ｄ）を得ることを特徴とするフォトレジスト製造用組成物の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】銅又は銅合金の上でも変色を起こさない硬化膜を与える感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いてパターンを形成する硬化レリーフパターンの製造方法並びに半導体装置の提供。
【解決手段】（Ａ）ポリイミド前駆体であるポリアミド酸、ポリアミド酸エステル、ポリオキサゾール前駆体となり得るポリヒドロキシアミド、ポリアミノアミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾイミダゾール、ポリベンズチアゾールから成る群より選ばれる少なくとも一種の樹脂：１００質量部、（Ｂ）プリン誘導体：該（Ａ）樹脂１００質量部を基準として０．０１〜１０質量部、並びに（Ｃ）感光剤：該（Ａ）樹脂１００質量部を基準として１〜５０質量部を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】着肉性が良好であり高耐刷性を有する平版印刷版を与え、かつ、機上現像性に優れた平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）赤外線吸収染料、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物及び（Ｄ）アルキレンオキサイド基を有するバインダーポリマーを含有し、露光後に印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかにより未露光部を除去することで画像形成可能な画像記録層、並びに、（Ｅ）３つの特定の繰り返し単位を有する親水性ポリマーを含有する保護層をこの順に有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】耐刷性、耐汚れ性および経時後の耐汚れ性に優れる平版印刷版及び平版印刷版の製造方法の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に設けられた感光層と、前記支持体と前記感光層との間に任意に設けられてもよいその他の層を含み；前記支持体と接する前記感光層または前記その他の層が、（Ａ）共重合体を含み、前記（Ａ）共重合体が、（ａ１）下記式で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位と、（ａ２）式（ａ２−１）〜（ａ２−６）で表される構造の少なくとも１つを側鎖に有する繰り返し単位とを有する平版印刷版原版（Ｌ¹は単結合、炭素数６〜１４の２価の芳香族基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、または−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ²−；Ｚ¹は２価の連結基；Ｒ¹は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、スルホ基、アルキルスルホニル基およびアリールスルホニル基；Ｒ²¹、Ｒ²²およびＲ²³は水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜８のアルキル基）。
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【課題】有機溶剤現像によるネガ型レジストパターンの形成方法として最適なパターン形成方法、及び該プロセスで使用されるケイ素含有膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ−１）、下記一般式（Ａ−２−１）、及び下記一般式（Ａ−２−２）で表される反応性化合物及び／又はこれらの加水分解物、縮合物、加水分解縮合物の各々からなる群から選ばれる各々の１種以上の化合物、からなる混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、（Ｒ^２）_ｍ２（ＯＲ^３）_{（３−ｍ２）}Ｓｉ−Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^４）_ｍ４（ＯＲ^５）_{（３−ｍ４）}（Ａ−１）Ｒ^１１_ｍ１１Ｒ^１２_ｍ１２Ｒ^１３_ｍ１３Ｓｉ（ＯＲ^１４）_{（４−ｍ１１−ｍ１２−ｍ１３）}（Ａ−２−１）Ｕ（ＯＲ^２１）_ｍ２１（ＯＲ^２２）_ｍ２２（Ｏ）_{ｍ２３／２}（Ａ−２−２）（Ｂ）有機溶剤を含む組成物によるケイ素含有膜上に、有機溶剤現像のフォトレジストでネガ型パターンを得る。 （もっと読む）

【課題】環境負荷の少ない現像剤によりネガ型画像形成性要素を画像形成して現像する方法を提供すること。
【解決手段】ネガ型画像形成性要素を画像形成し、次いで、毒性および腐食性が低く、使用後により容易に廃棄できる低ｐＨ有機系炭素現像液を使用して現像することができる。当該現像液は１２未満のｐＨを有し、ａ）窒素含有複素環を含む両性界面活性剤、ｂ）２又は３個以上の窒素原子を有する両性界面活性剤、またはｃ）ａ）の両性界面活性剤およびｂ）の両性界面活性剤を含む。 （もっと読む）