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Fターム[2H096BA06]の内容

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Fターム[2H096BA06]に分類される特許

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【課題】運搬時のレジストの感光を防止できる感光性フィルムレジストロール梱包方法を提供する。
【解決手段】感光性フィルムレジストロールを樹脂製箱で梱包する方法であって、該感光層が感光性樹脂組成物を含有し、該感光性樹脂組成物が、(a)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600であり、かつ、重量平均分子量が5000〜500000であるバインダー用樹脂:20〜90質量%、(b)光重合可能な不飽和化合物:3〜70質量%、及び(c)光重合開始剤:0.1〜20質量%を含有し、該樹脂製箱が、樹脂板を折曲げて形成された組立箱であり、該組立箱における2つの折板の合わせ目を介して該2つの折板を少なくとも通るように結束バンドを配置するとともに、該結束バンドを少なくとも該2つの折板に固定する、感光性フィルムレジストロール梱包方法。 (もっと読む)


【課題】親水処理の為の専用装置無しにフォトリソグラフィーにより容易に親水被膜を形成する方法及びそれより得られる親水被膜を提供すること。
【解決手段】1)主鎖に酸により分解可能な結合を含むカチオン重合性樹脂と紫外線を含む活性エネルギー線を照射することによりアンチモン酸又はアンチモン酸よりも酸強度が弱い酸を発生する光酸発生剤とを含む被覆樹脂層を基材上に形成する工程と2)該エネルギー線を照射することによりアンチモン酸よりも酸強度が強い酸を発生する光酸発生剤とこの光酸発生剤を保持し工程3で除去可能な保持体とを含む光酸発生剤保持層を該樹脂層に積層する工程と3)該保持層及び該樹脂層に該エネルギー線を露光し現像して該保持層を除去し該樹脂層を硬化させる工程と4)この樹脂層を熱処理することで表面を親水化して親水被膜を形成する工程とを含む親水被膜の形成方法及び親水被膜。 (もっと読む)


【課題】レーザー光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能で、特に、印刷機上において現像可能であり、現像性に優れ、高感度であり、しかも高耐刷かつ耐汚れ性が良好な平版印刷版原版、及びそれを用いる製版方法を提供する。
【解決手段】支持体と、下塗り層と、画像記録層とをこの順に有し、画像記録層上に画像様露光後、印刷インキ等を供給することにより未露光部の除去が可能な平版印刷版原版であって、該画像記録層が、(A)重合開始剤、(B)重合性化合物、(C)バインダーポリマーを含有し、下塗り層が、(a1)双性イオン構造を有する繰返し単位、及び(a2)前記支持体表面と相互作用する構造を有する繰返し単位を有する共重合体(D1)、並びに、(a3)エチレン性不飽和結合を有する繰返し単位、及び(a2)前記支持体表面と相互作用する構造を有する繰返し単位を有する共重合体(D2)を含有し、共重合体(D1)及び(D2)の総質量に対する、共重合体(D1)の質量が、5〜95%であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】屈折率が低く、更には、現像残渣が少なく、ドライエッチング耐性に優れたパターンを高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】(A)中空又は多孔質粒子、(B)活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物、及び(C)前記活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する化合物を含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス及び電子デバイス。 (もっと読む)


【課題】多成分溶媒溶液の再平衡方法を提供する。
【解決手段】本発明は、光重合性層を有する感光性印刷要素を処理するために有用である溶媒溶液を再平衡させるための方法に関する。溶媒溶液は、洗い流し処理中に感光性印刷要素から剥離される未重合材料およびその他の材料で汚染された状態となり、汚染物質の分離は、使用済み溶媒溶液中の1つ以上の成分の一部も同様に除去する。この方法は、3つ以上の成分を有する溶媒溶液中の成分の割合を再平衡させる。この方法は、汚染物質から分離された再生物を2つ以上の特性について測定するステップと、測定された各々の特性について生成された方程式に基づいて、再生物に添加すべき成分の質量を計算するステップと、再生物に対してこの質量の1つまたは複数の成分を添加して再生物中の成分割合を目標の割合に調整するステップを含む。 (もっと読む)


【課題】ファインピッチ用はんだペーストを用いた場合にも、基板とマスクとの間にはんだペーストが入り込むことを防止して電極のにじみやブリッジの発生を低減し、はんだペーストを高精度で基板上に印刷する。
【解決手段】金属層21の表面に形成した感光性のレジストマスクを感光させ、任意形状のエッチング用開口部を前記レジストマスクに形成し、前記レジストマスクの前記エッチング用開口部を通じて金属層21をエッチングして開口部を金属層21に形成することにより製造され、はんだペーストを通過させる任意形状の開口部20aを有し、前記レジストマスクをエッチングレジスト層22として金属層21上に積層状態で備えるはんだペースト印刷用マスク10。 (もっと読む)


【課題】膜減りのない良好な重合硬化膜を形成できる重合性組成物、並びに、耐刷性を維持させたまま、良好な現像性が得られる平版印刷版原版提供する。
【解決手段】重合性化合物、重合開始剤、及び高分子化合物を含有する重合性組成物であって、高分子化合物が、イソシアヌル酸骨格を岐点とし、ポリマー鎖が分岐している高分子化合物であることを特徴とする重合性組成物、並びに、該重合性組成物を含む画像記録層を有する平版印刷版原版。 (もっと読む)


【課題】CDU(Critical Dimension Uniformity)性能と欠陥性能とを高い水準で両立させることが可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、(a)化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成することと、(b)前記膜を露光することと、(c)有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでおり、前記現像液は、エステルと炭素数が7以上のケトンとを含有している。 (もっと読む)


【課題】高感度、高解像性、優れたラフネス性能、及び、優れたドライエッチング耐性を同時に満足するとともに、更には、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物、及び、レジスト膜を提供する。
【解決手段】(ア)(A)酸分解性基を有するフラーレン誘導体と、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、(C)溶剤とを含有する化学増幅型レジスト組成物によって膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、及び(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むネガ型パターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】種々のレジストパターンの形成に対応でき、焦点深度、パターン形状、解像性、CDU及びパターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、(1)[A]ポリシロキサンを含有するレジスト下層膜形成用組成物を基板上に塗布し、レジスト下層膜を形成する工程、(2)[a1]酸の作用により極性が変化して有機溶媒に対する溶解度が減少する重合体を含有する感放射線性樹脂組成物を上記レジスト下層膜上に塗布し、レジスト膜を形成する工程、(3)上記レジスト膜を露光する工程、及び(4)上記露光されたレジスト膜を、有機溶媒を含有する現像液を用いて現像する工程を有するレジストパターン形成方法である。上記レジスト下層膜形成用組成物は、[B]窒素含有化合物をさらに含有することができる。 (もっと読む)


【課題】高い架橋密度が得られる重合性組成物、及び、高い架橋密度と親水性が得られる重合性組成物を提供する。これらの重合性組成物を用いた、耐刷性に優れた平版印刷版を与え、かつ、機上現像性に優れた平版印刷版原版、並びに、防汚性、防曇性に優れた部材を提供する。
【解決手段】(A)側鎖に、エチレン性二重結合とウレア結合を有する特定の構造を有する繰り返し単位を有する高分子化合物、及び(B)重合開始剤を含有することを特徴とする重合性組成物。高分子化合物は、更に、ベタイン構造を側鎖に有する繰り返し単位を有することが好ましい。該重合性組成物を画像記録層に有する平版印刷版原版。更に、該重合性組成物の重合硬化膜を有する防汚性、防曇性部材。 (もっと読む)


【課題】良好な着肉性及び高耐刷性を有する平版印刷版を与え、かつ、機上現像性が良好な平版印刷版原版及びその製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、(A)赤外線吸収染料、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物および(D)アルキレンオキサイド基を有するバインダーポリマーを含有し、露光後に印刷機上で印刷インキおよび湿し水の少なくともいずれかにより未露光部を除去することで画像形成可能な画像記録層、並びに、(E)特定構造の繰り返し単位を有する親水性ポリマーを含有する保護層をこの順に設けてなることを特徴とする平版印刷版原版。 (もっと読む)


【課題】有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法、および該方法に用いられるネガ型現像用レジスト組成物を提供する。
【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が減少する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜を、前記有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法であって、前記(A)として、酸の作用によりアルコール性水酸基を生じて親水性が増大する酸分解性基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a0)を有する樹脂成分(A1)を用いる。 (もっと読む)


【課題】汚れ難さと耐印刷性に優れた平版印刷版を与え、かつ、機上現像性に優れた平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、(A)ラジカル重合性化合物、(B)赤外線吸収染料、(C)ラジカル発生剤、及び(D)コアシェル構造の樹脂微粒子(コア部に親油性樹脂、シェル部に特定のアルキレンオキシド構造を側鎖に有するモノマー単位を含有する樹脂を有する)を含有する、インキ及び湿し水の少なくともいずれかにより除去可能な画像記録層を有する平版印刷版原版。 (もっと読む)


【課題】露光後にプレヒートを行うことなく、網再現性、耐刷性に優れ、環境への配慮と省スペース、低ランニングコストへの適合化を満足することができる平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】下記工程(a)と下記工程(b)とを含む、平版印刷版の作製方法。
(a)支持体、重合性化合物とバインダーポリマーとを含む感光層、及び、保護層をこの順に有する平版印刷版原版を、画像様に露光する露光工程
(b)露光した平版印刷版原版を、加熱処理を経ることなく、現像液で現像する現像工程
ただし、前記平版印刷版原版に対する画像様露光の終了から、前記平版印刷版原版が前記現像液に接触するまでの時間は、1分未満である。 (もっと読む)


【課題】ブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できる有機溶剤系現像液を用いたパターン形成方法及び該方法で用いられるリンス液を提供すること。
【解決方法】(ア)化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、及び(エ)有機溶剤を含み、かつ比重が前記現像液より大きいリンス液を用いてリンスを行う工程を含むパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、特定の、重合開始剤、赤外線吸収剤等を用いないで、ブルーミングを防止できる平版印刷版原版を提供するものである。
【解決手段】支持体、並びにラジカル重合性成分、赤外線吸収剤及びラジカル重合開始剤を含む輻射線感光性組成物を含有する画像形成層を含んで成る平版印刷版原版であって、
前記輻射線感光性組成物が、親水性部分を実質的に有しないフッ素化コポリマーを含む平版印刷版原版。 (もっと読む)


【課題】有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、感度、現像欠陥低減、パターン形状のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】(ア)(A)酸の作用により、極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂と、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、(C)レジスト組成物の固形分を基準として3質量%以上の、酸の作用により分解して揮発性が向上する化合物とを含有する化学増幅型レジスト組成物によって膜を形成する工程、
(イ)該膜を露光する工程、及び
(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、
を含むパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】ブロックコポリマーの相分離を利用して、基板表面に、位置及び配向性がより自在にデザインされたナノ構造体を備える基板を製造することができるブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法の提供。
【解決手段】基板1上に芳香族環含有モノマー由来の構成単位を有する樹脂成分を含有する下地剤を塗布し、該下地剤からなる層2を形成する工程(1)と、複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーを含む層3を前記下地剤2からなる層表面に形成した後、前記ブロックコポリマーを含む層3を相分離する工程(2)と、前記ブロックコポリマーを含む層3のうち、前記ブロックコポリマーを構成する複数種類のポリマーのうちの少なくとも一種類のポリマーからなる相3aを選択的に除去する工程(3)と、を有することを特徴とするブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、保存安定性と低温焼成とを両立し、かつ十分な感度を有する感放射線性樹脂組成物、耐溶媒性、比誘電率及び硬度に優れる層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜、この硬化膜の形成方法、耐熱性、耐溶媒性、電圧保持率等に優れるカラーフィルタ、並びにこのカラーフィルタの形成方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、[A](A1)不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物と、(A2)水酸基含有不飽和化合物とを共重合してなるアルカリ可溶性樹脂、[B]エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、[C]感放射線性重合開始剤、並びに[D]ブロックイソシアネート化合物を含有する感放射線性樹脂組成物である。 (もっと読む)


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