【課題】レジストパターンに生じるラフネスを低減して良好な形状を有するパターン形成方法を実現できるようにする。
【解決手段】基板１０１の上に、ラクトンがフェノールにおけるＯＨ基の水素と置換された基と酸脱離基とを含むポリマーを有する化学増幅型レジスト材料からレジスト膜１０２を形成する。続いて、レジスト膜１０２に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。その後、パターン露光が行われたレジスト膜１０２を加熱し、加熱されたレジスト膜１０２に対して現像を行って、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルム支持体上に親水性層、画像形成層が設けられた平版印刷版において、ケミカルレス処理剤による現像性と印刷性に優れた平版印刷版を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルム支持体上に、水溶性ポリマーと該水溶性ポリマーを架橋する架橋剤を含有する親水性層を有し、更にその上に画像形成層を有する平版印刷版において、該親水性層とプラスチック支持体との間に、カルシウムイオン濃度が１０００ｐｐｍ以下であるゼラチン含有層を有することを特徴とする平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】レーザーによる画像露光が可能で、十分な耐刷性及びインキ受容性を維持しつつ、経時しても良好な機上現像性が得られる機上現像型の平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）赤外線吸収剤、（Ｂ）重合開始剤、及び（Ｃ）重合性化合物を含有する画像記録層、並びに保護層、必要により支持体と画像記録層の間に中間層を積層してなり、画像記録層の未露光部を印刷機上で印刷インキ及び湿し水のうちの少なくともいずれかによって除去することが可能な平版印刷版原版であって、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含むことを特徴とする。


〔式中、Ｒ_１はアルキル基等を、Ｒ_２及びＲ_３は、メチル基等を、Ｌは連結基等を表し、ｎは０〜１１の整数を表す。〕 （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルム支持体上に親水性層、画像形成層が設けられた平版印刷版の処理方法において、アルカリ剤の添加されていないケミカルレス処理液による非画像部の除去が容易で、除去が不十分な事による印刷汚れが発生しない平版印刷版の処理方法を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルム支持体上に、親水性層と、感光性ポリマーを含有する画像形成層、更にオーバー層を少なくともこの順に有するケミカルレスネガ型平版印刷版の処理方法において、ケミカルレス処理液による現像処理をキレート剤の存在下で行うことを特徴とするケミカルレス平版印刷版の処理方法。 （もっと読む）

【解決手段】透明基板上に１又は２以上の層で構成された膜が形成され、該膜の最表層がクロム系材料からなり、更に、該最表層上にドライエッチング用のエッチングマスク膜が設けられたフォトマスクブランクであって、上記エッチングマスク膜が、加水分解性シラン化合物の加水分解・縮合物、架橋促進剤化合物、及び有機溶剤を含む酸化ケイ素系材料膜形成用組成物を用いて成膜した膜厚１〜１０ｎｍの酸化ケイ素系材料膜であるフォトマスクブランク。
【効果】本発明のフォトマスクブランクのエッチングマスク膜は、塩素系ドライエッチングに対して高いエッチング耐性をもち、このエッチングマスク膜を用いてフォトマスクブランクを加工することにより、塩素系ドライエッチングであっても、薄いエッチングマスク膜で高精度の加工が可能である。 （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルム支持体上に、少なくとも親水性層と光重合性の感光層を順に有するネガ型感光性平版印刷版に於いて、画像部の耐刷性、非画像部の地汚れ共に充分な性能が得られるネガ型感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】親水性層と支持体の間にゼラチンもしくはポリアクリル酸類と架橋剤を含有する中間層を有するネガ型感光性平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルム支持体上に支持体上に親水性層、感光層及びオーバー層を少なくともこの順に有する平版印刷版において、アルカリ剤の添加されていないケミカルレス処理剤による非画像部の除去が可能で、しかも現像後の印刷版の画像部の親油性が良好で、印刷時のインキ着肉性が良好なネガ型感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルム支持体上に、親水性層と、イオン性の親水性基を有する感光性ポリマーを有する感光層、更にオーバー層を少なくともこの順に含有する平版印刷版において、オーバー層に、感光性ポリマーと逆の電荷を有する単位を持つ水溶性ポリマーを含むことを特徴とする平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】水による現像を行う感光性平版印刷版材料に関して、処理装置を用いて現像処理を続けていった場合のスラッジおよび現像ムラの発生を改善し、耐汚れ性、インキ乗り性およびインキ乗りの均一性に優れたネガ型の感光性平版印刷版材料を提供する。
【解決手段】支持体上に親水性層および水溶性重合体を含む光重合性感光層をこの順に設けた感光性平版印刷版材料において、支持体上の少なくとも一層が消泡剤を含むことを特徴とする感光性平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。
【解決手段】露光マスクなしに単純露光により２次フォトレジストパターンを形成可能な二重露光パターニング工程を用いた半導体素子の微細パターン形成方法が開示される。この半導体素子の微細パターン形成方法は、被エッチング層が形成された半導体基板の上に第１フォトレジストパターンを形成するステップと、前記第１フォトレジストパターンの上に層間鏡膜組成物をコーティングして層間鏡膜を成膜するステップと、前記結果物の上に第２フォトレジスト膜を成膜するステップと、前記第２フォトレジスト膜に露光マスクなしに第２フォトレジスト膜のしきい値エネルギーＥ_ｔｈよりも低い値のエネルギーを有する光により露光および現像を行うことにより、前記第１フォトレジストパターンの間に層間鏡膜の乱反射による第２フォトレジストパターンを形成するステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】水による現像が可能な感光性平版印刷版材料の印刷時の汚れを発生させる問題を解決すること。特に、現像処理装置の現像部分において絞りロールの表面にスラッジが付着し、感光性平版印刷版材料の表面汚染に起因する印刷時の地汚れの問題を解決することを課題とする。
【解決手段】支持体上に親水性層および水により現像が可能な光硬化性感光層をこの順に設けた感光性平版印刷版材料に関して、シリコーン系微粒子とアニオン性界面活性剤を光硬化性感光層に含有する。 （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルム支持体上に親水性層と光重合性感光層をこの順に積層した水による現像が可能な感光性平版印刷版材料に関して、優れた耐刷性を有し、親水性層表面の傷および指紋に由来する印刷汚れの防止とクリーナー液適性が改善された感光性平版印刷版材料を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルム支持体上に親水性層および、水溶性重合体を含む光重合性感光層をこの順に設けた感光性平版印刷版材料において、該親水性層中が、シリコーン系有機微粒子と水ガラスを含有する。 （もっと読む）

【課題】４０５ｎｍ付近の光に高感度を有し、露光後に加熱処理を行うこと無しに、耐薬品性、接着性に優れた良好な光硬化性を有する光重合性樹脂組成物を与えること、さらにこれを利用した耐刷性に優れ、クリーナー液耐性に優れた感光性平版印刷版材料を与える。
【解決手段】（Ａ）一般式Ｉで表される化合物またはトリハロアルキル置換ｓ−トリアジン環基を２個有する特定の化合物、（Ｂ）有機ホウ素塩化合物、（Ｃ）３８０〜４１０ｎｍの波長域に吸収を有する増感色素、（Ｄ）重合性化合物、（Ｅ）バインダーポリマーを含有する光重合性樹脂組成物。
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【課題】ｐＨ９〜１１など低アルカリ性の現像液による現像においても、現像カスの発生がなく、良好な現像性と耐刷性とを両立できる平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】ヘキサアリールビイミダゾール化合物及び重合性化合物を含有する感光層と保護層とを有する平版印刷版原版を、レーザー露光した後、式（Ｉ）〜（III）のいずれかで表される有機溶剤と、界面活性剤及び水溶性高分子化合物の少なくともいずれかとを含有する現像液の存在下、保護層及び非露光部の感光層を除去するする平版印刷版の作製方法。
Ｒ^１−Ｏ−（−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−）_ｍ−Ｈ （Ｉ）
Ｒ^１−Ｏ−（−ＣＨ_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−Ｏ−）_ｍ−Ｈ （II）
Ｒ^１−Ｏ−（−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−）_ｍ−Ｈ （III）
Ｒ^１は炭素数１〜４の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリール基又は水素原子を表し、ｍは１〜３の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト膜を用い、１回の露光で密集したドットパターンと孤立ドットパターンを形成し、これを用いてポジネガ反転によってホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基の脱離によってアルカリ性現像液可溶になる樹脂、光酸発生剤又はこれと熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料を塗布しレジスト膜を形成する工程、位相シフトマスクを用いて露光し、露光後加熱しアルカリ性現像液で現像してポジ型パターンを得る工程、パターンを露光又は加熱し、上記樹脂の酸不安定基を脱離させアルカリ溶解性を向上させ、樹脂に架橋を形成させ上記ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物用の有機溶剤への耐性を与える工程、反転用膜を形成する工程、上記架橋形成されたポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト膜を用い、１回の露光で密集したドットパターンと孤立ドットパターンを形成し、これを用いてポジネガ反転によってホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基の脱離によってアルカリ性現像液可溶になる樹脂、光酸発生剤又はこれと熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料を塗布しレジスト膜を形成する工程、位相シフトマスクを用いて露光し、露光後加熱しアルカリ性現像液で現像してポジ型パターンを得る工程、パターンを露光又は加熱し、上記樹脂の酸不安定基を脱離させアルカリ溶解性を向上させ、樹脂に架橋を形成させ上記ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物用の有機溶剤への耐性を与える工程、反転用膜を形成する工程、上記架橋形成されたポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

酸感応性、現像剤可溶性の下層反射防止膜組成物、その組成物の使用方法、および組成物から形成されるマイクロエレクトロニクス構造を提供する。組成物は好ましくは、溶剤系に溶解または分散された架橋可能なポリマーを含む。ポリマーは好ましくはアダマンチル基を有する繰り返しモノマー単位を含む。また組成物は、好ましくは、ポリマーと共に溶剤系中に分散または溶解しているビニルエーテル架橋剤のような架橋剤を含む。いくつかの実施態様では、組成物は光酸発生剤（ＰＡＧ）および／または消光剤を含むこともある。下層反射防止膜組成物は、熱的に架橋可能であるが、酸の存在下では脱架橋し、現像剤可溶性にさせることができる。 （もっと読む）

本発明は、デバイス上にリバーストーン画像を形成するための方法であって、ａ）基材上に任意選択的に吸光性有機下層を形成し； ｂ）下層上にフォトレジストのコーティングを形成し； ｃ）フォトレジストパターンを形成し； ｄ）フォトレジストパターン上に、ポリシラザンコーティング溶液からポリシラザンコーティングを形成し、ここで、ポリシラザンコーティングはフォトレジストパターンよりも厚く、更にここで、ポリシラザンコーティング組成物は、ケイ素／窒素ポリマー及び有機コーティング溶剤を含み； ｅ）ポリシラザンコーティングをエッチングして、少なくともフォトレジストの上端の高さまでポリシラザンコーティングを除去して、フォトレジストパターンが現れるようにし； そしてｆ）フォトレジスト、及びフォトレジストの下にある下層をドライエッチングして除去して、フォトレジストパターンが存在していた所の下に開口を形成することを含む方法に関する。本発明は更に上記方法の製造物及び上記方法を用いて製造される微細電子デバイスにも関する。 （もっと読む）

【課題】本発明はＤＴＲ法を用いた平版印刷材料において、印刷諸特性に優れ、特に耐刷性を向上することを目的とする。
【解決手段】支持体上に、下塗り層、ハロゲン化銀乳剤層及び物理現像核層を少なくともこの順で有する平版印刷材料の製造方法において、支持体上に下塗り層用の塗工液を塗布して下塗り層塗布膜を設け、その後の乾燥工程で該下塗り層塗布膜の恒率乾燥から減率乾燥に移行する時点での表面温度が、１５℃以下であることを特徴とする平版印刷材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高密度かつ高テーパ角の微細凹凸形状を形成することができる微細構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】非感熱性の無機レジストを主成分とする感熱層を基材上に形成し、感熱性の無機レジストを主成分とする非感熱層を感熱層上に形成する。感熱層を露光、現像し、感熱層に所定のマスクパターンを形成する。マスクパターンを用いて非感熱層をエッチングすることにより、微細凹凸パターンを基材上に形成する。 （もっと読む）

【課題】レーザーによる画像記録が可能であり、充分な耐刷性を維持しつつ良好な汚れ性、現像性が得られる平版印刷版原版、及び平版印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、スルホンアミド基を有するポリマーを含有する中間層と、ラジカル重合開始剤、増感色素及び重合性化合物を含有する画像記録層とを順次積層して有することを特徴とする平版印刷版原版；支持体上に、スルホンアミド基を有するポリマーを含有する中間層と、ラジカル重合開始剤、増感色素、重合性化合物及びバインダーポリマーを含有する画像記録層とを順次積層して有する平版印刷版原版を用いた平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）