【課題】現在の露光光源の露光限界（解像限界）を超えるパターンサイズのパターンを被加工面に形成することができるパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法の提供。
【解決手段】第１のレジストパターンを形成する第１のレジストパターン形成工程と、前記第１のレジストパターンの表面を覆うように、被覆材料による被覆層を形成する被覆層形成工程と、第２のレジストパターンを形成する第２のレジストパターン形成工程とを含むパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストパターンの耐熱性を向上させる、レジストパターンの表面処理方法およびそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】現像済みフォトレジストパターン表面に酸素を含む雰囲気下でプラズマ処理を施し、前記フォトレジストパターン表面にオキサゾリン骨格などを含む架橋性基を含有するポリマーを含む被覆層形成用組成物を接触させることを含んでなる、現像済みフォトレジストパターンの処理方法。 （もっと読む）

【課題】スクリーン印刷で用いるスクリーン版は近年デジタルスクリーン製版というインクジェットによる手法が用いられるがこのインクがスクリーン版に対して悪影響を及ぼす。このインクへの対策により耐水耐久性の低下の弊害が発生する。
【解決手段】本発明のスクリーン版強化液はグルタルアルデヒドと塩酸と水を主成分とし特定の添加物を添加することでスクリーン版の耐水耐久性を著しく向上させる。添加物はアルコール及びグリコールとフッ素化合物から選択しこれらの添加物を１つ又は複数添加することができる。全てのスクリーン版が本発明のスクリーン版強化液にて処理することで画像の耐水耐久性が著しく向上し細線印刷への対応を可能にする。アルコールの添加によって乾燥速度が促進されグリコールの添加によってスクリーン版の割れを防止しフッ素化合物によって全体にむら無く安定した硬膜処理が可能となる。 （もっと読む）

【課題】高いエッチング耐性を有するレジストパターンを形成させることのできる微細パターン形成用組成物、およびそれを用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】側鎖に芳香族含有置換基を有する水溶性樹脂と純水とを含む微細パターン形成用組成物。この組成物は、水溶性樹脂に結合した酸基を含むか、または組成物中に遊離の酸を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】経時安定性に優れ且つ露光ラチチュードが広い感光性フイルムを与えることが可能なジアゾ樹脂、このジアゾ樹脂を用いた感光性樹脂組成物及び感光性フイルムを用いたスクリーン版を提供する。
【解決手段】本発明は、硫酸とリン酸の存在下で、置換されていても良い４−ジアゾジフェニルアミンの水溶性塩とホルムアルデヒドとを縮合させることにより得られるジアゾ樹脂及び水溶性ポリマーを含む水溶液に、油溶性の光重合開始剤と光活性なエチレン性不飽和基を少なくとも１個有する水不溶性又は難溶性の化合物との混合物及び疎水性重合体の少なくとも一方を分散させた感光性樹脂組成物に関する。この感光性樹脂組成物は、経時安定性に優れ、露光ラチチュードが広い感光性フイルムを与える。さらに本発明は、上記感光性樹脂組成物に特定なフッ素化合物を添加することにより、放電性能が優れたスクリーン版を提供する。 （もっと読む）

【課題】パターン微細化が進展する状況下においても、所望形状のレジストパターンの形成を確実に行えるようにする。
【解決手段】パターン描画されたレジスト膜６を現像してレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法であって、前記レジスト膜６の現像に先立ち、当該レジスト膜６に比べてエッチング耐性が高い保護膜７を当該レジスト膜６の上面に形成する保護膜形成工程と、前記保護膜７の形成後に当該保護膜７の上から現像剤を供給することにより、前記保護膜７を浸透して前記レジスト膜６まで到達した前記現像剤による当該レジスト膜６の現像を行い、当該レジスト膜６が残るパターン部分６ａ上面に前記保護膜７を有してなる前記レジストパターンを形成する現像工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】形成した樹脂パターンを熱処理した後であっても矩形又は矩形に近い樹脂パターンを製造できる樹脂パターン製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも以下の工程（１）〜（７）をこの順に含むことを特徴とする樹脂パターン製造方法。（１）感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程、（２）塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程、（３）溶剤が除去された感光性樹脂組成物を活性光線によりパターン状に露光する露光工程、（４）露光された感光性樹脂組成物を水性現像液により現像する現像工程、（５）現像された感光性樹脂組成物にオーバーコート層を設ける塗設工程、（６）オーバーコート層が設けられた感光性樹脂組成物を熱処理する熱処理工程、（７）オーバーコート層を除去する除去工程。 （もっと読む）

【課題】非画像部の汚れ防止性に優れた平版印刷版用版面処理剤、及び、平版印刷版の処理方法を提供する。
【解決手段】少なくとも１つの支持体吸着性基と少なくとも１つの親水性基を有する星型ポリマーを含有することを特徴とする平版印刷版用版面処理剤。 （もっと読む）

【課題】 基板に溶剤を供給して、パターンマスクの荒れを改善するにあたり、高い面内均一性を確保した状態で、基板に対して溶剤蒸気を供給すること。
【解決手段】蓋体１２と基体１１とにより構成された処理チャンバ１内において、前記基体１１に設けられたステージ２１にウエハＷを載置し、このウエハＷと対向するように、溶剤が吸収された溶剤保持具３を設ける。処理チャンバ１を閉じて、ステージ２１上のウエハＷを溶剤の露点温度よりも高く、沸点よりも低い温度に加熱すると、溶剤保持具３の全面から溶剤が蒸発し、ウエハＷと溶剤保持部３との間に溶剤の飽和蒸気雰囲気が形成される。こうして、ウエハＷの表面全体がほぼ同時に溶剤の飽和蒸気雰囲気に曝されるので、基板に対して面内均一性を確保した状態で溶剤蒸気を供給することができる。 （もっと読む）

【課題】酸素遮断性保護層、とりわけ無機微粒子を含む酸素遮断性保護層が設けられた光重合型平版印刷版原版から製版して得られた平版印刷版において、ブラインディングを発生させずに、良好に版面処理することができる版面洗浄剤を提供する。
【解決手段】酸素遮断性保護層が設けられた光重合型平版印刷版原版から製版して得られた平版印刷版に用いる平版印刷版用乳化型版面洗浄剤であって、該版面洗浄剤の全質量に基づいて含まれる塩の全カチオンの含有量が０．５質量％以上であって、該全カチオンの質量に基づいて３０質量％以上がカリウム、セシウム及びルビジウムから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする、平版印刷版用乳化型版面洗浄剤；酸素遮断性保護層が設けられた光重合型平版印刷版原版から製版して得られた平版印刷版を、上記平版印刷版用乳化型版面洗浄剤にて洗浄することを含む、平版印刷版の版面処理方法。 （もっと読む）

【課題】 1)パターン表面の異物、パターン倒れ、ならびにパターンラフネスの問題を解決することができる、2)レジストパターンを微細化できる、及び3)低塗布量化が可能であるリソグラフィー材料を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される化合物（例えば、旭化成ケミカルズ株式会社製のペリセア（登録商標））を含むことを特徴とする、レジスト基板用材料およびレジストパターン製造方法。
【化１】


（上記一般式（１）において、Ｒ¹、Ｒ²は水素又は炭化水素基を示し、Ｙはカルボキシル基などを示し、Ｚは−ＮＲ'−（Ｒ'は水素又は炭素数１〜１０の炭化水素基）などを示し、ｊ、ｋは０、１、２のいずれかであり、かつｊ、ｋは同時に０ではなく、ｎは２〜２０の整数を示す。Ｘは分子量１００万以下の炭化水素鎖を示す。） （もっと読む）

【課題】表面極性をリソグラフィ的に変え、自己組織化層によるパターン形成方法の提供。
【解決手段】光酸発生剤を含む感光層の一部分を照射し、発生した酸を隣の下層１２０ａの部分に拡散させる工程。前記下層１２０ａは酸分解可能基、アタッチメント基および官能基を含む酸感受性コポリマーを含む。感光層は下層の表面上に配置されており、拡散させる工程は下層１２０ａおよび感光層を加熱することを含み、下層１２０ａ中の酸感受性コポリマーの酸感受性基は拡散した酸と反応して下層の表面に極性領域を形成し、前記極性領域はパターンの形状を有する。感光層は除去され、下層の表面上に自己組織化層１５０ｂを形成する工程。前記自己組織化層１５０ｂは極性領域に対する親和性を有するブロックと、極性領域に対する親和性が低いブロックとを有するブロックコポリマーを含む。第１もしくは第２のドメインのいずれかを除去し下層の部分を露出させる工程。 （もっと読む）

【課題】表面特性をリソグラフィ的に変え、その上の自己組織化層のパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸分解可能基、アタッチメント基、および官能基を含む酸感受性コポリマーと光酸発生剤とを含む下層２２０ａの部分を照射し、前記酸分解可能基は、下層の照射部分において光酸発生剤から生じた酸と反応して、下層２２０ａの表面に極性領域を形成する。前記極性領域はパターンの形状および寸法を有している。下層２２０ａの表面上に自己組織化層２５０ｂを形成する。前記自己組織化層２５０ｂはブロックコポリマーを含み、前記ブロックコポリマーは、極性領域に対して親和性を有し、極性領域に対して整列する第１のドメインを形成する第１のブロックと、前記第１のドメインの隣に整列する第２のドメインを形成する第２のブロックとを有している。次に第１のドメインもしくは第２のドメインのいずれかを除去して、下にある下層２２０ａの部分を露出させる。 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整されたヒドロキシルアミン化合物を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層、特に窒化チタンの腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水と、洗浄剤と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、特定の含窒素非芳香族環状化合物とを含有し、実質的に中性に調整された半導体基板用洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】 煩雑なエッチング工程等を施すことなく、簡便に多層構造が形成できる、絶縁パターン形成方法及び樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 〔Ｉ〕基板上に有機パターンを形成する工程と、
〔II〕前記有機パターンのパターン間に絶縁材料を埋め込む工程と、
〔III〕前記有機パターンを除去し、前記絶縁材料からなる反転パターンを得る工程と、
〔IV〕得られた反転パターンを硬化させる工程と、
を有することを特徴とする、絶縁パターン形成方法と、ダマシンプロセス用絶縁パターン形成材料を提供する。 （もっと読む）

【課題】 ポジ型の化学増幅型レジストからなる多重レジストパターンの形成方法、及びその多重レジストパターンを用いた機能性材料層の加工方法、並びに多重レジストパターン構造体を提供すること。
【解決手段】 光酸発生剤と、酸の作用で溶解性が変化する樹脂成分とを含有するポジ型化学増幅型レジストからなる、第１のレジストパターン４を形成する。次に、その表面に、パターン内に浸透し、酸の作用下でレジスト樹脂成分と架橋反応を行い得る架橋剤と、その浸透を促進する浸透促進剤とを含有する改質材水溶液６を被着させる。次に、架橋剤が浸透した第１のレジストパターン４に紫外光を照射して酸を発生させ、加熱して、樹脂成分と架橋剤とを反応させ、少なくともその表層部７に、硬化層９を形成する。次に、第１のレジストパターン間を埋めるように第２のレジスト層１１を形成し、選択的に露光、現像して、第２のレジストパターン１２を形成する。 （もっと読む）

【課題】 ポジ型の化学増幅型レジストからなるパターンの耐溶剤性や耐露光・現像性などを向上させる、化学増幅型レジストパターンの改質方法、及びその改質工程で用いられる化学増幅型レジストパターンの改質材、並びに改質されたレジストパターン構造体を提供すること。
【解決手段】 まず、光酸発生剤と、酸の作用によって溶解性が変化する樹脂成分とを含有するポジ型化学増幅型レジストからなるレジストパターン２の表面に、レジストパターン２内に浸透し、酸の作用下で樹脂成分と架橋反応を行い得る水溶性架橋剤と、架橋剤の浸透を促進する浸透促進剤とを水に溶解させた改質材水溶液３を被着させ、レジストパターン２に架橋剤を浸透させた後、余剰の架橋剤を除去する。次に、レジストパターン５に紫外光を照射して酸を発生させ、加熱して、酸の作用下で樹脂成分と架橋剤とを反応させ、レジストパターン２の少なくとも表層部４に硬化層６を形成する。 （もっと読む）

【課題】版面のインキ汚れを長期間防止する感光性樹脂凸版印刷版の製造方法、それに適した処理液および感光性樹脂凸版印刷版用組成物の提供。
【解決手段】露光工程、現像工程を含む感光性樹脂凸版印刷版の製造方法において、露光工程後に、版面パーフルオロアルキル基鎖を２つ以上有し、水に不溶な、ノニオン系のフッ素系界面活性剤（Ａ）を付着させる工程を含む感光性樹脂凸版印刷版の製造方法。 （もっと読む）