第１のレジスト層（１２）を基板（１０）上にコーティングすることによってマイクロ構造デバイスを製造する方法。レジストの放射線誘導熱除去によって、パターンが基板上に形成される。
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【課題】ガラス基板のフッ酸エッチングでガラス基板との密着性に優れる特性を有する、感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体を提供すること。
【解決手段】（Ａ）カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、かつ、重量平均分子量が５０００〜５０００００であるバインダー用樹脂、（Ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する光重合性モノマー、（Ｃ）光重合開始剤及び、（Ｄ）オルガノシラン化合物を含有してなる感光性樹脂組成物であり、前記（Ｄ）成分が特定のオルガノシラン化合物であることを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

金属電極の製造方法であって、（Ｉ）基材の全面にコーティングまたは積層方式でフォトレジスト層を形成した後、前記基材の中で金属電極が形成される部位を除いた残り部位にだけ前記フォトレジスト層が残るように全面にフォトレジスト層が形成された前記基材に予備熱処理（Ｐｒｅ−ｂａｋｅ）、露光、現像及び後熱処理（Ｐｏｓｔ−ｂａｋｅ）を順次行ってパターンを形成する工程と、（ＩＩ）パターンが形成された前記基材を金属メッキして、基材の中でフォトレジスト層が形成されなかった部分にだけ金属電極を形成する工程と、（ＩＩＩ）基材上に残っているフォトレジスト層を剥離する工程とを含む。従来に比べ、電極形成用金属の損失量を大幅に減らして製造原価を節減し、耐熱性及び密着力に優れたフォトレジスト組成物を利用して基材に直接電極パターンを構成することにより、金属の損失量を減らすとともに高温処理工程を省略して、基材またはパターンの変形を減らし、メッキ触媒の蒸着工程を省略し、選択的メッキが可能でありながらも金属電極パターンを一層堅く形成することができる。
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【課題】フォトレジストパターンを溶解し所望のレジストパターンを形成するリフロー処理において、充分な膜厚均一性を有するレジストパターンを形成することができ、且つ、生産効率の低下を抑制することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板Ｇが載置されると共に、基板載置面の温度を所定温度として基板温度を調整するための温調プレート１１と、チャンバ１０内にフォトレジストの溶剤雰囲気を供給する溶剤雰囲気供給手段１４〜１８と、チャンバ１０内の雰囲気温度を検出する雰囲気温度検出手段２３と、前記温調プレート１１の設定温度を制御すると共に前記雰囲気温度検出手段２３による検出温度が入力される制御手段２４とを備え、前記制御手段２４は、設定している前記温調プレート１１の温度と、前記雰囲気温度検出手段２３により検出された雰囲気温度とを比較し、該比較結果に基づいて温調プレート１１の設定温度を制御する。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、ナノパターンを形成する方法、特に、大面積に連続してナノパターンを形成する方法と、ロール状の基板にナノパターンを形成する方法、およびこれによって形成されたパターンを有する基板に関するものである。本発明は、大面積試片と干渉光の光源を互いに相対的に移動させる方法と、ロール状の基板を回転させながら、干渉光の光源と前記ロール状基板との基板の軸方向への相対運動によって露光する方法を利用することにより、ナノパターンを形成するときに求められる広い設備空間、レーザ出力の制限性、およびパターン自由度の制限性などの従来問題を解決したものである。 （もっと読む）

【課題】圧着時の圧力分布ムラを低減し、シワ及び気泡が発生しにくく、かつ高精細なパターンを形成可能なパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に感光層を少なくとも有するパターン形成材料を、回転軸方向幅が１２０ｃｍ以下の圧着ロールを使用して、基体上に圧着させて、該基体に積層した後、前記感光層に対して露光を行う。パターン形成材料と接する側の圧着ロールを２本以上同軸に並列した態様、パターン形成材料と接しない側の圧着ロールを、２本以上同軸に並列した態様、圧着ロールの回転軸方向幅をＸ、パターン形成材料の搬送方向と略直交する方向の幅をＹとした場合に、Ｙ／Ｘが０．５以上１以下である態様、などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】感度が高く、良好なレジストパターン形状が得られ、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び増感剤を少なくとも含む感光性組成物を用いて形成された感光層を有し、該感光層を露光し現像する場合に、前記感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、０．１〜５０ｍＪ／ｃｍ^２であり、前記光重合開始剤が芳香族オニウム塩を含み、前記増感剤が、縮環系化合物、並びに少なくとも２つの芳香族炭化水素環及び芳香族複素環のいずれかで置換されたアミン系化合物から選択される少なくとも１種を含むことを特徴とするパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト膜に対してエッチング選択比が高く、かつ無機性の緻密な膜を形成することにより上層のフォトレジスト膜が良好なパターンを形成でき、またウエットストリップが可能であり、さらに、保存安定性が高く、下層膜のエッチング時に優れたドライエッチング耐性を示して多層レジスト膜のレジスト中間層膜として好適な反射防止膜材料、及び、この反射防止膜をレジスト中間層膜として有する基板を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト中間層膜として用いる反射防止膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物をキレート化剤と反応させて得られる高分子化合物と、有機溶剤と、酸発生剤とを含有することを特徴とする反射防止膜材料。
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【課題】回路形成済基板上に形成されているパターニングされた表面樹脂層上に硬化物層を形成するために用いられたときに、十分に優れためっき耐性が得られる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマーと、（Ｂ）光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤とを含有し、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量を１００質量部としたときに、（Ｂ）成分は、式（１）で表されるビニルウレタン化合物１０〜２０質量部と、式（２）で表されるエトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート化合物１５〜２５質量部と、式（３）で表されるノニルフェニルポリエチレングリコールアクリレート化合物５〜１５質量部とを含んでいる、感光性樹脂組成物。
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【課題】現像後解像性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、硬化膜柔軟性に優れ、テンティング性、良好なエッチング液耐性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、共重合成分としてベンジル（メタ）アクリレートを含有し、かつ、重量平均分子量が５０００〜５０００００であるバインダー用樹脂：１０〜９０質量％、（ｂ）光重合性不飽和化合物：５〜７０質量％、及び（ｃ）光重合開始剤として特定の化合物：０．１〜２０質量％含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】印刷版、特に、クッション性を有することにより、硬質な被印刷物に対してブランケットロールを用いないダイレクトなグラビア印刷が可能であり、段ボール印刷等、粗面に対するグラビア印刷が良好に行えて、液晶パネル用ガラスへカラーフィルタを構成するためのマトリックス画像をカラー印刷したり、あるいはコンパクトディスク等に画像をカラー印刷するのに好適であるクッション性を有するグラビア版の製造方法を提供する。
【解決手段】ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層１１ｂを表面に設けた中空ロール１１ａと、該クッション層１１ｂの表面に設けられかつ表面に多数のグラビアセル１４が形成された銅メッキ層１２と、該銅メッキ層１２の表面に設けられた金属層１６と、該金属層１６の表面に設けられた当該金属の炭化金属層１８と、該炭化金属層１８の表面を被覆するダイヤモンドライクカーボン被膜２０とを含むようにした。 （もっと読む）

【課題】４０５ｎｍにおける透過率を制御した組成において、波長４０５ｎｍの波長を有する露光光源に対し十分な感度を示し、かつ解像度及び密着性の良好な、アルカリ性水溶液によって現像しうる、感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法、及び該レジストパターンの用途を提供する。
【解決手段】（ａ）α，β−不飽和カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む、酸当量で１００〜６００、重量平均分子量が５０００〜５０００００の熱可塑性共重合体：２０〜９０質量％、（ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：５〜７５質量％、および（ｃ）光重合開始剤：０．０１〜３０質量％を含有してなる感光性樹脂組成物であって、かつ、該感光性樹脂組成物を支持体上に塗布し、乾燥して得られた感光性樹脂層の４０５ｎｍにおける透過率が、膜厚４０μm換算で、１５〜４０％である感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 保存安定性に優れ、高感度、かつ高解像度であり、テント性、パターン形状及び現像性に優れ、エッチング時の剥離性が良好で、高精細なパターンを形成可能であるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体と、該支持体上に感光層とを少なくとも有し、該感光層がバインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び重合禁止剤を少なくとも含んでなり、該重合禁止剤が、Ａ）フェノール性水酸基を有する化合物と、Ｂ）フェノール基を有さない化合物とを含み、その質量比Ａ／Ｂが０．０１〜１００であることを特徴とするパターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成材料及び方法である。重合禁止剤中のフェノール基を有さない化合物が、イミノ基を有する化合物である態様、重合禁止剤の含有量が、６５〜３００ｐｐｍである態様が好ましい。 （もっと読む）

半導体デバイス及びＭＥＭＳデバイス製造時に用いられる新規なフォトレジストを提供する。プライマー層は好ましくは、溶媒系に溶解または分散したシランを含む。フォトレジスト層は、スチレンモノマー、アクリロニトリルモノマー、およびエポキシ含有モノマーから調製されたコポリマーを含む。フォトレジスト層は光酸発生剤を含み、好ましくはネガ型である。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高精度のハーフ露光パターンを得るための二層レジストの構造と、この二層レジストを用いて形成した薄膜トランジスタを具備した表示装置の製造方法を実現する。
【解決手段】 レジスト１２はベースフィルム１１、クッション層１０、上層レジスト８、下層レジスト７、カバーフィルム９の五層で構成される。構造材の厚みは、ベースフィルム１１が５０乃至１００μm、クッション層１０が１０乃至３０μm、上層レジスト８が０．５乃至１．０μm、下層レジスト７が０．５乃至１．０μm、カバーフィルム９が１０乃至３０μmである。 （もっと読む）

【課題】 特定波長の光線に対して高い感度を有するとともに、感光特性を安定に維持可能であり、更に、レジストパターンのライン断面形状を良好とすることができる感光性エレメントを提供すること。
【解決手段】 感光性エレメント１は、支持体１０と、この上に形成された感光層２０とを備えている。感光層は、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物から構成される。Ｃ成分は、特定構造の（Ｃ１）クマリン系化合物、（Ｃ２）イミダゾール二量体及び（Ｃ３）フェニルグリシン化合物を含有している。そして、感光層２０においては、Ａ成分及びＢ成分の総質量１００質量部に対するＣ１成分の含有量Ｐと、感光層の厚さＱμｍとの積Ｒが、１０．０以上２２．０未満であり、また、Ｃ３成分の含有量が、Ａ成分及びＢ成分の総質量１００質量部に対して０．０２〜０．８質量部である。 （もっと読む）

【課題】 マスクの欠陥の有無を確実に検出し、マスクの欠陥により、一連のワークに不具合が発生するのを防止すること。
【解決手段】 レジストが塗布されたワークにマスクを介して露光光を照射して複数ショット露光し現像処理し、エッチング処理を行った後、形成されたパターンの検査を行うパターン形成方法において、露光・現像処理後であって、エッチング処理の前にマスクを検査する工程を設ける。ここでは、レジストパターンを少なくとも２ショット分取り出し、この内の少なくとも１ショット分のレジストパターンと、検査の基準となるマスタパターンとを比較して上記レジストパターンの欠陥の有無を検査し欠陥個所を抽出する。そして他のレジストパターンについて、上記欠陥個所と同一個所に欠陥が存在するかを検査し、同一個所に欠陥が存在する場合、露光に用いたマスクに欠陥があると判定する。 （もっと読む）

【課題】 露光後に得られる硬化膜の現像液中及び剥離液中における各膨潤度を規定して、高精細かつ剥離性が良好なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含むパターン形成材料において、前記感光層を露光した後に得られる硬化膜の、ｐＨ８〜１１の水溶液中における膨潤度が５０％以下であり、かつ、ｐＨ１１を超える水溶液中における膨潤度が２０％以上であることを特徴とするパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及び該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 ａ−Ｃ：Ｈ膜の反射防止効果を損なわず、化学増幅型ネガレジストのみを剥離する方法を提供する。
【解決手段】 アモルファスカーボン膜表面に形成された化学増幅型ネガレジストパターンを、アモルファスカーボンを実質的にエッチングしない酸溶液を用いて該化学増幅型ネガレジストパターンを剥離する。または、アモルファスカーボン膜表面に形成された化学増幅型ネガレジストパターンを、アモルファスカーボンを実質的にエッチングしないアルカリ溶液を用いて該化学増幅型ネガレジストパターンを剥離する。 （もっと読む）

【課題】 ダイレクト・イメージング法によってもパターンを形成できる高感度を有し、作業性に優れ、さらにパターン形状に優れたＰＤＰの構成要素（例えば、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス）を好適に形成することができるＰＤＰの製造方法および当該製造方法に好適に用いられる転写フィルムを提供すること。
【解決手段】 特定の重合体を含有するレジスト膜と、無機粉体含有樹脂層とを用いる。 （もっと読む）