【課題】十分な薬品耐性を有しながら良好な剥離性をもち、かつ基材上の金属膜との間で良好な接着性を示すような樹脂パターンを得るための感光性樹脂組成物を提供すること、及びそのような樹脂パターンを使用した被エッチング基体の製造方法を提供する。
【解決手段】酸基含有アクリル系樹脂と脂環式エポキシ基含有不飽和化合物との反応により生成したアルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、３官能以上の多官能モノマー（Ｂ）と、窒素含有単官能モノマー（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）と、を含有する感光性樹脂組成物を使用する。 （もっと読む）

【課題】高密度かつ高テーパ角の微細凹凸形状を形成することができる微細構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】非感熱性の無機レジストを主成分とする感熱層を基材上に形成し、感熱性の無機レジストを主成分とする非感熱層を感熱層上に形成する。感熱層を露光、現像し、感熱層に所定のマスクパターンを形成する。マスクパターンを用いて非感熱層をエッチングすることにより、微細凹凸パターンを基材上に形成する。 （もっと読む）

【課題】解像度、及び密着性に優れ、アルカリ性水溶液によって現像することができ、さらに剥離工程において剥離片が溶解可能な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明に係る感光性樹脂組成物は、（ａ）α，β−不飽和カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む、酸当量で１００〜６００、重量平均分子量が５，０００〜５００，０００の熱可塑性共重合体：２０〜９０質量％、（ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：５〜７５質量％、（ｃ）トリアリールイミダゾリル二量体を含む光重合開始剤：０．０１〜３０質量％を含有する感光性樹脂組成物であって、該感光性樹脂組成物の光硬化部が剥離液に可溶であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性、密着性及びレジスト形状に優れ、且つ剥離特性を十分に満足するレジストパターンを形成し得る感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性基含有バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物であって、水晶振動子上に形成された前記感光性樹脂組成物の硬化膜を、２５℃、１質量％炭酸ナトリウム水溶液に浸漬し、浸漬直後の水晶振動子マイクロバランス（ＱＣＭ）の指示値を０Ｈｚとしたとき、浸漬後６０秒における振動数変化量が、硬化膜の膜厚１μｍあたり−８０Ｈｚ以上−２０Ｈｚ以下である、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】直線性に優れた金属パターンを形成する方法、およびその方法に使用することができる転写フィルムを提供すること。
【解決手段】支持フィルム上に、（Ａ）レジスト層、（Ｂ）圧延により形成された金属箔、および（Ｃ）粘着層がこの順に積層されてなり、前記レジスト層（Ａ）の形成時の流れ方向が、前記金属箔（Ｂ）の圧延方向と略平行であることを特徴とする金属パターン形成用転写フィルム。 （もっと読む）

【課題】薄い膜厚でも優れたフッ酸耐性を示す感光性樹脂組成物及び当該感光性樹脂組成物を用いた被加工ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】上記感光性樹脂組成物は、酸基含有アクリル系樹脂と脂環式エポキシ基含有不飽和化合物との反応により生成したアルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、３官能以上のモノマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、末端に下記式（１）又は（２）で表される基を有するアミノシランカップリング剤（Ｄ）と、を含む。


（ここで、式（１）及び（２）中のＲ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】感度、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー（Ｂ）式（１）の化合物を含む光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物。
【化１】


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^３は水素原子又は一価の有機基を示し、Ｒ^４は置換又は無置換の環式炭化水素基を示し、−（ＸＯ）−及び−（ＯＹ）−は、（ポリ）オキシエチレン鎖、（ポリ）オキシプロピレン鎖、又はエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとのブロック共重合鎖若しくはランダム共重合鎖を示し、−（ＸＯ）−及び−（ＯＹ）−に含まれるオキシエチレン基の総数は２〜４０であり、オキシプロピレン基の総数は０〜４０である。］ （もっと読む）

【課題】耐熱性及び接着性を向上させたフォトレジスト組成物、これを用いた金属パターンの形成方法、及び表示基板の製造方法が開示される。
【解決手段】フォトレジスト組成物は、アルカリ可溶性樹脂約５重量％から約５０重量％、キノンジアジド系化合物約０．５重量％から約３０重量％、硬化剤約０．１重量％から約１５重量％及び有機溶剤を含む。これによって、鮮明なフォトレジストパターンを形成して、下部膜のパターニングの信頼性を向上させることにより、製造工程の信頼性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィを利用した微細加工を行うために使用される新規なフォトレジスト用化合物、それを用いたフォトレジスト液、およびその液を使用するエッチング方法の提供。
【解決手段】一般式(I)で表される化合物またはその塩であるフォトレジスト用化合物。


［Ｒ¹およびＲ²はＨまたは置換基、L¹〜L³は置換基を有していてもよいメチン基を表し、Ｖ¹およびＶ²は少なくとも一方はハメットの置換基定数σｐが０．２〜０．９の範囲の置換基、またはＶ¹およびＶ²が窒素を含有するへテロ環を形成してもよく、ｎは0または１を表す。］ （もっと読む）

【課題】 高分解能のカラーフィルタを製造するための印刷版を、容易にかつ安価に製造することが可能な印刷版の製造方法、印刷版および、これを用いた反転印刷方法を提供する。
【解決手段】 遮光部隔壁、アライメントマークなどの幅が広く、版深さを深くする必要がある低解像度部分においては、印刷版用基板２１の表面を、エッチング処理によってパターン化して形成する。画素、ブラックマトリクスなど幅が小さく高精細な高解像度部分においては、印刷版用基板２１の表面上にネガレジスト４１を塗布し、これを露光、現像することによって細線パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】 ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物に使用される有機溶剤に対する耐性を必要限度で与え、かつアルカリ性エッチング液への溶解性を確保することによって、最終的にネガ像を得る工程をアルカリ性エッチング液によるウエットエッチングで行うポジネガ反転によるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、ポジ型レジスト組成物を塗布してレジスト膜を形成する工程と、該レジスト膜を露光および現像してポジ型パターンを得る工程と、該得られたポジ型レジストパターンに架橋を形成する工程と、反転用膜を形成する工程と、アルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去することでポジ型パターンをネガ型パターンに反転する工程とを含むポジネガ反転を用いたレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】安価かつ簡便に、溝構造または中空構造を有する部材、特に微細な部材を製造する。
【解決手段】パターン形成された硬化性樹脂組成物のある基板上に、当該硬化性樹脂組成物とは違う組成の硬化性樹脂組成物を塗布し、パターンを形成し、その後、最初に形成した硬化性樹脂組成物パターンを溶剤によって除去することで、２番目の硬化性樹脂組成パターンを離型する。 （もっと読む）

【課題】複雑で高価な蒸着法によることなく導電層を形成し、不良品の発生を防ぎながら効率よく導電層の一部を除去することが可能な、導電層を有する三次元構造物及び三次元金属構造物の製造方法を提供すること。
【解決手段】上記製造方法は、（Ａ）基板上にパターン化有機膜を形成する工程と、（Ｂ）無電解メッキにより前記パターン化有機膜表面に導電層を形成する工程と、（Ｃ）エッチング処理により前記導電層の一部を除去する工程と、を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】適正パターンを崩さずにショート欠陥部を修正できると共にコストアップや生産性の低下を招くことなく、所望の高精細パターンを容易に形成することができるパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】第１の露光、現像工程に引き続くの第２露光工程において、照射光Ｒ2の光度を、第２フォトレジスト膜３´の照射光Ｒ2により照射されたエリアにおいて後順の第２現像工程で溶解除去され得る程度に感光した飽和感光領域ｄ´が、図示されるような断面が台形の先窄み形状となるまで低減させる。その結果、第２現像工程を終えた段階においては、(ｃ)に示すように、第２フォトレジスト膜３´で被われていない第２露出エリアは、飽和感光領域ｄ´が先窄み形状に形成されていた為、第１現像工程を終えた段階において第１フォトレジスト膜３で被われずに露出していた第１の露出エリア内に形成されている。 （もっと読む）

【課題】複雑で高価な蒸着法によることなく導電層を形成し、不良品の発生を防ぎながら効率よく導電層の一部を除去することが可能な、導電層を有する三次元構造物及び三次元金属構造物の製造方法を提供すること。
【解決手段】上記製造方法は、（Ａ）基板上にパターン化有機膜を形成する工程と、（Ｂ）無電解メッキにより前記パターン化有機膜表面に導電層を形成する工程と、（Ｃ）ゲル状エッチング組成物と接触させることにより前記導電層の一部を除去する工程と、を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】レジスト被膜の除去性を低下させないで、長期間に渡る剥離液の繰返し再使用が可能であるばかりか、導電性高分子の表面抵抗や導電性高分子と基材との密着性も悪化さず、さらに、経済性や安全性にも優れており、廃棄物が少なくできるため環境にも悪影響を及ぼさない導電性高分子膜上のレジスト被膜の除去方法を提供。
【解決手段】レジスト被膜を除去後の剥離液を、細孔径２〜５ｎｍであって、分画分子量が１０００〜４０００のセラミックフィルターを用いて膜濾過することにより、レジスト被膜を該剥離液から取り除き、導電性高分子膜上のレジスト被膜の除去に再使用する。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は微細な導電性パタンが生産性高く得られる、安価な導電性パタン前駆体および導電性パタンの形成方法を提供することである。本発明の別の課題は、裏面から見て金属光沢を呈さず、パタン太りや欠点の少ない、密着性も優れたフルアディティブ法による導電性パタンの形成方法を提供することである。
【解決手段】絶縁性支持体上の少なくとも片面に、銀錯塩拡散転写法を用いて形成した銀薄膜層を有する材料の銀薄膜層上に感光性レジスト層を有する導電性パタン前駆体、およびそれを用いた導電性パタン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基を持つ繰り返し単位を有し、アルカリ現像液に可溶になる樹脂、光酸発生剤又は光酸発生剤と熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト膜形成用組成物を塗布し、プリベークしてレジスト膜を形成する工程、該レジスト膜に高エネルギー線を照射し、露光後加熱し、露光部の樹脂の酸不安定基に脱離反応を行わせた後、アルカリ現像液で現像してポジ型パターンを得る工程、ポジ型パターンを露光もしくは加熱して上記樹脂の酸不安定基を脱離させてアルカリ溶解性を向上させ、かつ該樹脂に架橋を形成させて、反転用膜形成用組成物に使用される有機溶剤に対する耐性を与える工程、反転用膜形成用組成物を用いて反転用膜を形成する工程、ポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、ポジ型レジストパターンにダメージを与えることなく、その間隙に反転用膜材料を埋め込むことができ、簡易な工程で高精度なポジネガ反転を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】従来の製造方法と比べて、実質的に作業性を向上することができ、金属膜の厚膜形成時でも製造効率の優れたパターンの製造できる転写フィルム、およびパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】支持フィルム上に、（Ａ）レジスト層、（Ｂ）金属層、および（Ｃ）粘着層が積層されていることを特徴とするパターン形成用転写フィルム。 （もっと読む）

【課題】従来では達成できなかった高い顔料濃度のカラーフィルター基板を良好な積層塗布性、現像性、パターン形成性を維持しつつ作成し、さらには表示品位の高い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】ブラックマトリックスがパターン加工された透明基板上に赤、緑、青色の３原色からなる着色層を複数配列したカラーフィルター基板において、少なくとも一色の画素が熱硬化性樹脂層の上に感光性樹脂層が積層されており、熱硬化性樹脂においてポリマー／モノマー比（重量比）が６０／４０以上８０／２０以下であり、感光性樹脂が透明ネガ型材料であることを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルター基板。 （もっと読む）