ホットメルトフォトレジスト混合物を調製する工程、光画像形成性ホットメルト組成物を、スロットダイコーティングシステムを使用してフィルム基板に適用する工程、ホットメルトを十分に冷却して流動を防ぐ工程、及び保護カバーフィルムを、部分的に冷却された組成物の反対側の表面に適用し、それによってフォトレジスト素子を形成する工程を含む、フォトレジスト素子を形成する方法。 （もっと読む）

【課題】 セーフライトなどの光源によるパターン形成材料の感度変化を良好に抑制し、保存安定性に優れ、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体と、該支持体上に少なくとも３５０〜５００ｎｍに感光特性を示す感光層を有し、エネルギー感度が１〜２０ｍｊ／ｃｍ^２であるパターン形成材料を用い、３８０〜５００ｎｍの波長領域を有し、該波長領域での少なくとも一波長のエネルギー強度が１×１０^−２μＷ／ｃｍ^２／ｎｍ以下の光源下で、基材表面への感光層の積層工程と、該積層工程と露光前までの工程のうち少なくとも一工程を行うパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 露光後に得られる硬化膜の現像液中及び剥離液中における各膨潤度を規定して、高精細かつ剥離性が良好なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含むパターン形成材料において、前記感光層を露光した後に得られる硬化膜の、ｐＨ８〜１１の水溶液中における膨潤度が５０％以下であり、かつ、ｐＨ１１を超える水溶液中における膨潤度が２０％以上であることを特徴とするパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及び該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 高電導度と高透光性の導電性膜を提供すること。さらに細線パターン形成された高いＥＭＩシールド性と高い透明性とを同時に有する電磁波シールド膜を提供すること。電磁波シールド能を劣化させることなく膜を安価に大量生産できる透過性電磁波シールド膜及び導電性膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】 黒白ハロゲン化銀写真感光材料に現像処理と定着処理を施して金属銀部を形成し、続いて該金属銀部にめっき処理して導電性を付与する工程を少なくとも含む導電性膜の製造方法に用いる定着液であって、該定着液が処理温度３０℃〜６０℃、かつ、処理時間５秒〜４０秒で用いられることを特徴とする透光性導電性膜形成用定着液。これを用いた透光性導電性膜、透光性電磁波シールド膜。 （もっと読む）

【課題】 簡単なプロセスで必要な部分のみに金属層を析出させるめっき方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るめっき方法は，
基板１０の上方に界面活性剤層２８を形成する工程と、
基板１０を透過する光２４を、光源２６と界面活性剤層２８との間に配置されたマスク３２を介して照射し、界面活性剤層２８をパターニングする工程と、
界面活性剤層２８の上方に触媒層を形成する工程と、
触媒層の上方に金属層を析出させる工程と、を含み、
光２４は，基板１０に対して界面活性剤層２８が形成された側とは反対側から照射される。 （もっと読む）

【課題】 高電導度と高透光性の導電性膜を提供すること。さらに細線パターン形成された高いＥＭＩシールド性と高い透明性とを同時に有する電磁波シールド膜を提供すること。電磁波シールド能を劣化させることなく膜を安価に大量生産できる透過性電磁波シールド膜及び導電性膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】 黒白ハロゲン化銀写真感光材料に現像処理と定着処理を施して金属銀部を形成し、続いて金属銀部にめっき処理して導電性を付与する工程を少なくとも含む導電性膜の製造方法に用いる定着液であって、定着液が特定化合物を１種以上含有することを特徴とする透光性導電性膜の製造方法。これを用いた透光性導電性膜、電磁シールド膜。 （もっと読む）

【課題】 パターン形成において、パターン精度を向上させることができ、生産性を向上させることができるパターン形成方法及び露光装置を提供する。
【解決手段】 被処理部材５（撥液膜６）とフォトマスク７との間を離間させて、被処理部材５上に形成された撥液膜６とフォトマスク７との間に空間を生じさせる。また、被処理部材５上に形成された撥液膜６とフォトマスク７との間の空間には、気体発生装置１６から導入管１５を介して窒素ガス１８を流入させる。さらに、フォトマスク７の光透過部１０を介して、被処理部材５上の配線パターン形成部分に対して紫外線１３を照射することにより、配線パターン形成部分の撥液膜６が分解して揮発成分が発生する。発生した揮発成分は、被処理部材５上に形成された撥液膜６とフォトマスク７との間の空間に放出され、窒素ガス１８とともに該空間から排出管１９を介して外部へ排出される。 （もっと読む）

【課題】 複雑な形状に加工された基体に対しても、加熱による損傷などを与えることなく、所望の部分にめっきを施すことのできる表面処理方法を提供する。
【解決手段】 基体１４の長手状部分７の全表面に電着塗装によってレジスト層１５を形成した後、低濡れ性領域形成予定部２３に形成されたレジスト層１５を長手状部分７の周方向全周にわたって露光して現像することによってレジストパターン１６を形成し、基体１４の長手状部分７のレジスト層１５で覆われていない部分２２にめっきを施す。これによって、複雑な形状に加工された基体１４に対しても、また基体１４のピッチＴが０．１ｍｍ程度と狭い場合であっても、基体１４の長手状部分７の所望の部分に周方向全周にわたってめっきを施すことができるので、長手状部分７の周方向全周にわたって、はんだ接合部とコネクタ嵌合部との間に低濡れ性領域が形成されたコネクタピンなどの接点部品を容易に製造することができる。 （もっと読む）

【課題】 優れた解像度（特に２０μｍ以下）を維持したまま除去性を十分に向上させることが可能な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 ２以上のエチレン性不飽和結合を分子内に有する光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物であって、光重合性化合物の分子内には、１３０〜２５０℃の温度条件で加熱した場合に切断される結合を有する下記一般式（１）で表わされる特性基が更に含まれている。


［式（１）中、Ｒ^１はアルキル基を示し、Ｒ^２は水素又はアルキル基を示す。］ （もっと読む）

【課題】 優れた解像度を有しつつ、レジストパターンの裾引き量を低減し、且つ、レジストパターン側面の形状が良好なレジストパターンを形成することが可能な感光性エレメントを提供すること。
【解決手段】 （Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、及び、（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物からなる感光層１４を、樹脂フィルム１０上に備える感光性エレメントであって、前記（Ａ）成分の酸価が５０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、前記樹脂フィルム１０のヘーズが１％以下であることを特徴とする感光性エレメント。 （もっと読む）

【課題】 露光後の現像時にスラッジ及びスカムの発生を十分に抑制できる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 （Ａ）成分；バインダーポリマーと、（Ｂ）成分；エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、（Ｃ）成分；光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物であって、（Ａ）成分を所定濃度溶解した１質量％炭酸ナトリウム水溶液の２５℃における表面張力Ｔａと、（Ｂ）成分の２５℃における表面張力Ｔｂとが下記式（１）；
（Ｔａ−Ｔｂ）≦１０（単位：ｍＮ／ｍ） （１）
で表される条件を満足する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】基板の表面、特に感光性が低い基板表面、あるいは撥液剤、カップリング剤、プラズマ処理等で表面処理を行なった基板表面にパターニングを行うに際して、より短時間での露光パターニングを可能とし、併せて露光パターニングの精度も向上させることができるパターニング方法を提案する。
【解決手段】露光パターニングしようとする基板１の表面にオゾン水２を接触させながら、紫外線３を露光マスク３０を介して基材１の表面に照射して、基材１の表面をパターニングする。 （もっと読む）

【課題】 互いに対向する長辺および短辺のうち、その長辺の両端において規定される２つの断面角度が互いに異なる四角形状の断面形状を有するパターン膜を可能な限り高精度に形成することが可能なパターン膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 開口１０２Ｋが設けられた基礎膜１０２を形成し、引き続き成膜方向に異方性を有する成膜手法（例えば傾斜スパッタリング法）を使用して斜め方向に成膜処理（成膜角度ω）を施すことにより、開口１０２Ｋ内にパターン形成領域１０５Ｐを画定する内壁１０５ＷＲ，１０５ＷＬが互いに異なる角度（傾斜角度βＲ，βＬ）で傾斜するように被覆膜１０５を形成したのち、そのパターン形成領域１０５Ｐにパターン膜を形成する。２つの断面角度が互いに異なる四角形状の断面形状を有するようにパターン膜を形成する場合に、それらの２つの断面角度の設定精度が向上する。 （もっと読む）

【課題】 感光層に含まれるバインダーのＩ／Ｏ値及びガラス転移温度が、ともに一定の数値範囲内であることにより、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、かつエッジフュージョンの発生が抑制されるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、該バインダーのＩ／Ｏ値が、０．３００〜０．６５０であり、かつ、ガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃以上であることを特徴とするパターン形成材料である。前記バインダーが共重合体を含み、該共重合体が、スチレン及びスチレン誘導体の少なくともいずれかに由来する構造単位を有することが好ましい。前記パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能であり、しかも、高い解像度と基体と感光層との密着性とを高度に両立したパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に感光層を少なくとも有するパターン形成材料における該感光層を、被処理基体上に積層し、プリベーク処理した後、該感光層に対し露光が行われることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 多段構造体の各底面に電極を有する電鋳型とその製造方法を提供すること。
【解決手段】 電鋳法で用いられ、二層以上の多段構造を有する電鋳型において、導電性を有する導電体を有し、導電体上に階段状に形成された樹脂と、樹脂の各層の上に形成された電極とを有し、導電体および電極の少なくとも一部が露出され、電極が樹脂よりも突出した形状を有していることを特徴とする電鋳型とした。 （もっと読む）

【課題】
２０μｍ以上の厚膜でも均一性の高い塗膜を形成することができ、解像性、パターン形状および耐メッキ性に優れ、塗膜のクラック発生を低減することができる感光性樹脂組成物、感光性樹脂膜およびこれらを用いたバンプ形成方法を提供すること。
【解決手段】
本発明に係る感光性樹脂組成物は、（Ａ）ノボラック樹脂３０〜９０重量％、（Ｂ）下記一般式（１）で表されるビニルアルキルエーテル樹脂５〜６０重量％および（Ｃ）アクリル樹脂０〜５０重量％を含む樹脂成分１００重量部に対して、（Ｄ）ナフトキノンジアジド基含有化合物５〜６０重量部および（Ｅ）溶剤を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 フレームめっき法を使用して可能な限り均一な厚さとなるように複数の磁性層パターンを安定に形成することが可能な磁性層パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 フォトレジストパターンのうちのフレーム部の厚さとめっき膜の厚さとの間の相関を表す相関データに基づいて、各フレーム部１０４Ｆ１〜１０４Ｆ３の厚さに各開口部１０４Ｋ１〜１０４Ｋ３ごとに差異を設けることにより、各フレーム部１０４Ｆ１〜１０４Ｆ３の厚さが各開口部１０４Ｋ１〜１０４Ｋ３ごとに異なるようにフォトレジストパターン１０４を形成したのち、そのフォトレジストパターン１０４のうちの各開口部１０４Ｋ１〜１０４Ｋ３に選択的にめっき膜を成長させることにより複数の磁性層パターン１０５を形成する。一連の磁性層パターン１０５の形成厚さがばらつきにくくなり、すなわち一連の磁性層パターン１０５の形成厚さが均一化される。 （もっと読む）

【課題】 短時間でプリント配線板を製造できるプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 ソルダーレジスト層２５０の露光し（図１２（Ａ）、現像して、露光されていない開口形成部に開口２５１を形成する（図１２（Ｂ））。その後、ソルダーレジスト層２５０に電子線を照射して完全に硬化させる（図１２（Ｃ））。電子線によりソルダーレジスト層２５０を硬化させるため、露光による硬化時間を短縮することができ、また、ソルダーレジスト層２５０のヤング率、Ｔｇ点を改善することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】
製造工程のプレスサイクルにおける安定性が向上するとともに、従来技術以上の幅広い抵抗値範囲を有しているニッケル・リン酸メッキ処理抵抗素子を提供する。
【解決手段】
本願発明は、所定粒子と無電解型ニッケル・リン酸系メッキと共メッキするために、無電解型ニッケル・リン酸系メッキ組成物中に、有効量の所定粒子を均一に分散することによって、抵抗範囲を拡張した複合メッキ処理抵抗素子を製造方法に関する。また、好ましい粒子としては、ポリエチレンフルオロテレフタレート、シリコンカーバイド、タングステンカーバイド、および１７０度以下の温度にて完全に焼結させたその他の粒子が挙げられる。 （もっと読む）