フォトリソグラフィー用２層コート基板製造のための多層リソグラフィー工程において使用するためのエッチング耐性の熱硬化性下層組成物であり、該組成物は（ａ）化学式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）の繰り返し単位を含むポリマー、（ｂ）少なくとも１つの架橋剤、（ｃ）少なくとも１つの熱酸発生剤、および（ｄ）少なくとも１つの溶剤の組成物である。
（もっと読む）

【課題】溶湯圧延法を適用してＰＳ版用アルミニウム合金支持体を製造するにあたって、粗面化処理、陽極酸化処理を施した後の表面に黒スジ欠陥が生じることを確実に防止でき、他のストリーク等の外観表面欠陥が生じないような表面外観品質が優れ、及び印刷性能が優れたＰＳ版用アルミニウム合金支持体を得る。
【解決手段】アルミニウム合金板に粗面化処理及び陽極酸化処理を施す平版印刷版用支持体の製造方法である。粗面化処理の前及び／又は粗面化処理の後に、若しくは、陽極酸化処理の前に、アルミニウム合金板を電解質溶液中に浸漬しカソード分極処理を施す。 （もっと読む）

【課題】感光性組成物、特に、二層、あるいは多層レジストに好適な感光性組成物、感光性組成物に好適な樹脂、および該樹脂の製造に好適な化合物、該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解して脱離する基を有する特定のシロキサン単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、および（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物、該樹脂、および該樹脂の製造に好適な化合物、および該組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】一定のレリーフ深度を確保し、レリーフ凸部のエッジのシャープ性を維持しながら、レリーフ強度も低下することのない、高精細印刷用の樹脂凸版を提供すること、或いは、この樹脂凸版を用いて、有機ＥＬ素子の発光層の高精細なパターンを均一に安定して形成できる有機ＥＬディスプレイ用素子パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】基材（１）の上に積層された感光性樹脂層（３０）を露光して現像することでレリーフを形成した樹脂凸版であって、前記感光性樹脂層（３０）が光散乱性の異なる２層（３１、３２）から成り、基材に近い側の層（３２）が表層に近い側の層（３１）よりも光散乱性の高い層であることを特徴とする樹脂凸版。 （もっと読む）

【課題】下層レジストをエッチングする際、サイドエッチの発生しにくい下層レジスト材料を、エッチング前に非破壊で光学的に見分ける方法およびそのための装置、ならびにこの方法を使用する半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板上に成膜したレジスト膜の評価方法であって、
レジストのエッチング耐性と光学特性との相関データをあらかじめ取得するステップと、
前記レジスト膜の光学特性を評価するステップと、
レジスト膜の光学特性を評価する前記ステップで得た前記光学特性と前記相関データとに基づいて、前記レジスト膜のエッチング耐性を評価するステップと、
を含むことを特徴とするレジスト膜の評価方法。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ−１）酸触媒を用いて加水分解性ケイ素化合物を加水分解縮合することにより得られる反応混合物から上記酸触媒を除去して得られるケイ素含有化合物、
（Ａ−２）塩基性触媒を用いて加水分解性ケイ素化合物を加水分解縮合することにより得られる反応混合物から上記塩基性触媒を除去して得られるケイ素含有化合物、
（Ｂ）式（１）又は（２）の化合物、
Ｌ_aＨ_bＸ （１）
（ＬはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ又はＣｓ、ＸはＯＨ又は有機酸基、ａは１以上、ｂは０又は１以上、ａ＋ｂは水酸基又は有機酸基の個数である。）
ＭＡ （２）
（Ｍはスルホニウム、ヨードニウム又はアンモニウム、Ａは非求核性対向イオン。）
（Ｃ）炭素数が１〜３０の有機酸、
（Ｄ）有機溶剤、
を含む熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物。
【効果】本発明の組成物を用いて形成されたケイ素含有中間膜を用いることで、その上に形成したフォトレジスト膜の良好なパターン形成が可能である。 （もっと読む）

基材と少なくとも１つの画像形成性層を有するポジ型要素において、単層及び多層のポジ型の画像形成性組成物の両方を使用できる。これらの要素は、平版印刷版の製造に使用できる。当該画像形成性要素は、輻射線吸収性化合物と、分岐ヒドロキシスチレン反復単位を有するヒドロキシスチレンポリマーを含む。 （もっと読む）

【課題】多層感光性樹脂膜を用いた感光性樹脂膜パターン形成方法及びこの感光性樹脂膜パターンを使用する半導体装置のパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の１態様による感光性樹脂膜パターン形成方法は、半導体基板の上方に被処理膜を形成する工程と、前記被処理膜上に第１の感光性樹脂膜からなる第１のパターンを形成する工程と、前記第１のパターンを形成した第１の感光性樹脂膜に注入するイオンの投影飛程と投影飛程の標準偏差の３倍との和が前記第１の感光性樹脂膜の膜厚より大きくなるようにイオン注入する工程と、前記イオン注入された第１の感光性樹脂膜上に第２の感光性樹脂膜からなる第２のパターンを形成する工程とを具備する。 （もっと読む）

【課題】短波長の露光光の反射率が低く、酸素プラズマ等に対するエッチング耐性にも優れる下層膜を形成するための下層膜用組成物及び多層レジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】フォトレジスト層の下層膜に用いられる下層膜用組成物であって、置換基を有してもよいアダマンチル基を側鎖に有するアクリルモノマーから誘導される構成単位と、ヒドロキシスチレン誘導体から誘導される構成単位とを含む共重合体を含む下層膜用組成物である。 （もっと読む）

【課題】マスクブランク及びマスクの作製工程に使用されるレジスト下層膜形成組成物、それを用いて作製されるマスクブランク及びマスクを提供する。
【解決手段】基板上に転写パターンを形成する薄膜及び化学増幅型レジスト膜の順に含むマスクブランクにおいて、該、転写パターンを形成する薄膜とレジスト膜の間のレジスト下層膜を形成するために用いられ、ハロゲン原子を含有する繰り返し単位構造を有する高分子化合物及び溶媒を含むレジスト下層膜形成組成物である。前記高分子化合物は、少なくとも１０質量％のハロゲン原子を含有する。 （もっと読む）

【課題】パターン形成方法に関し、パターン疎密に依るエッチング形状の差を解消することが可能であり、また、エッチングシフト量の変動などに対して即応性に優れ、且つ、低コストのパターン形成方法を提供しようとする。
【解決手段】パターン密度が異なる回路パターンの形成を必要とする被エッチング膜２のエッチングに於いて、パターン密度にかかわらずエッチング後に所望の寸法をもつ被エッチング膜２を形成する為、所望のエッチングシフト量が得られるレジスト膜厚をそれぞれのパターン密度に応じて決定し、前記パターン密度に対応して膜厚を変化させたレジスト膜４をマスクとしてエッチングを行う。 （もっと読む）

【課題】解像限界を超えるパターン形成を可能にする半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体素子の微細パターンの形成方法において、シリコンが含まれた感光膜を形成した後、酸素プラズマ工程を行なうことにより感光膜を除いたコーティング及び食刻工程を１回のみ行なうようにして工程を単純化させ、時間及び費用を低減させる。 （もっと読む）

【課題】多層レジストプロセス用、特には２層レジストプロセス用又は３層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、即ち透明性が高く、最適なｎ値、ｋ値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、ヒドロキシ基を有するビニルナフタレンとヒドロキシ基を有さない特定のオレフィン類の繰り返し単位とを共重合してなる重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。 （もっと読む）

【課題】原画フィルムを必要としないで凸状のレリーフ像を形成することが可能で、取扱い上で感熱マスク層を傷つけることなく、またレーザー照射による画像マスクの形成が容易な感光性樹脂印刷版原版、およびそれを用いた樹脂凸版印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、水またはアルコールに溶解または分散可能な樹脂および紫外光により硬化可能なモノマーを含有する感光性樹脂層（Ａ）、赤外線吸収物質を含有する感熱マスク層（Ｃ）、剥離補助層（Ｄ）および保護層（Ｅ）をこの順に有する感光性樹脂印刷版原版であって、該剥離補助層（Ｄ）の膜厚が０．３μｍ以下であることを特徴とする感光性樹脂印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】多層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、基板エッチング後に行うアッシングの速度が速く、このため、アッシング中にレジスト下層膜の直下の基板が変質するのを防ぐことのできるレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、水素を１０質量％以上、炭素を７０質量％以上含むモノマーに由来する繰り返し単位（Ａ）とヒドロキシ基又はエポキシ環を有する繰り返し単位（Ｂ）とを有する重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。 （もっと読む）

【課題】原画フィルムを必要としないで凸状のレリーフ像を形成することが可能な、取扱性に優れた感光性樹脂印刷版原版とその製版方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、少なくとも感光性樹脂層（Ａ）、描画された感熱マスク層（Ｂ’）、保護層（Ｃ）をこの順に有することを特徴とする描画済感光性樹脂凸版原版。 （もっと読む）

【課題】ここではリソグラフィシステムの像分解能を向上させるための二重露光方法が提示される。
【解決手段】本発明は、基板上に印刷される所望のパターンを、リソグラフィシステムによって光学的に分解することができる少なくとも二つの成分サブパターンに分解する工程、所望の高密度ラインパターンでパターンを形成させる基板のターゲット層の上に、第一のポジ型レジスト層と比較的薄い第二のポジ型レジスト層とを塗布する工程を含む。第二のレジスト材料は、第一のパターン形成露光の間、および現像後の第二のパターン形成露光の間、露光放射を吸収し、第二のレジスト材料層の露光される部分の下の第一のレジスト材料の少なくとも一部を、第一のレジスト層の限界エネルギー露光ドーズの或る割合より多い露光ドーズに露光させない。 （もっと読む）

【課題】
エッチャントとして特定のガスを使用して、その添加量を厳密に制御することなく、膜の加工両端部を基板から離間するにつれて両端部間の距離が短くなるようなテーパー形状とし、当該テーパーの角度を所望の角度とすることが可能な膜のパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】
本発明に係る一の態様の膜のパターン形成方法は、基板上に膜４、５を形成し、膜４、５の上層に、第１マスキング層１０とその上層の第２マスキング層１１とを、当該第２マスキング層１１が第１マスキング層１０端から突出する庇部を有するようにパターン形成し、膜４、５の上層に第１マスキング層１０及び第２マスキング層１１のパターンが形成されている状態において、膜４、５をエッチングしてパターニングする。
（もっと読む）

【課題】原画フィルムを必要としないで凸状のレリーフ像を形成することが可能な、取り扱い性に優れた感光性樹脂印刷版原版、感熱マスク層にピンホールのない感光性樹脂印刷版原版とその製造方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、水またはアルコールに溶解または分散可能な樹脂および紫外光により硬化可能なモノマーを含有する感光性樹脂層（Ａ）、紫外線吸収能と赤外線吸収能を有し水不溶性である２層以上の感熱マスク層（Ｃ）をこの順に有する感光性樹脂印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、同一システムで複数の工程を実施可能なレリーフ像印刷要素を作製する改良されたシステムを提供することである。
【解決手段】刷版及び印刷スリーブを含むレリーフ像印刷要素の動的画像形成、紫外線露光、及び熱現像方法及びシステムに関する。画像形成工程は、インクジェット印刷を使用して光硬化材料層にその場でマスク層を作製し、次に、マスクを介して化学線で光硬化材料層を露光することで行われる。その後、印刷要素が熱現像システムで現像されて、表面に所望のレリーフ像を作成する。必要であれば、改良されたシステムは、また、印刷要素を後露光／粘着低下する手段も含む。 （もっと読む）