【課題】ダブルパターニングプロセス中に基板の位置合わせをする方法を説明する。
【解決手段】少なくとも１つのアライメントマークを含む第１のレジスト層を基板上に形成する。この第１のレジスト層を現像した後、第１のレジスト層の上に第２のレジスト層を堆積し、それによって平坦な上部面を残す（すなわちトポグラフィがない）。第２のレジスト層を適切にベークすることによって、対称アライメントマークを第２のレジスト層内に、第１のレジスト層内のアライメントマークからのオフセットエラーなく、またはほとんどなく形成する。第２のレジスト内に形成されるアライメントマークの対称性は、第１および第２のレジスト層のそれぞれの厚さ、被覆プロセスパラメータ、およびベーキングプロセスパラメータを適切に調整することによって向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルム支持体上に、現像処理時に非画像部として作用する親水性層と、現像処理時に画像部として作用する光重合性の感光層とを有する感光性ネガ型平版印刷版において、ケミカルレス現像液による非画像部の除去が可能で、かつ耐刷性の良好な感光性ネガ型平版印刷版を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルム支持体上に、印刷時に非画像部として作用する親水性層と、印刷時にインキ受理部となる光重合性の感光層とを有する感光性ネガ型平版印刷版において、該親水性層が重合開始剤を含有することを特徴とする感光性ネガ型平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】自動製版もしくは自動印刷用に適したポリオレフィン樹脂被覆紙を支持体とする平版印刷版材料であって、印刷物の画質を低下させることなく印刷画像のズレが低減された平版印刷版材料を提供する。
【解決手段】原紙の両面にポリオレフィン樹脂層で被覆された支持体上に印刷画像形成層を有する平版印刷版材料において、該原紙の坪量が１００〜２００ｇ／ｍ^２であり、該原紙に繊維径３〜１０μｍの合成繊維を繊維成分の質量百分率で１０〜３０％を含有させることを特徴とする平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】酸の拡散が被パターン化樹脂膜の全面に均一に十分な精度をもって行うことができ、その結果、被パターン化樹脂膜の全面に均一優れた寸法安定性が得られる酸転写用膜を得ることができる酸転写用組成物、これを用いてなる酸転写用膜、及びこの酸転写用膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）感放射線性酸発生剤、（Ｂ）含窒素基を有する重合体、及び、（Ｃ）ケトン系溶剤、を含有する組成物。（Ｂ）重合体は特定の(メタ)アクリルアミド構成単位を有することが好ましい。この組成物を用いてなる酸転写用膜。酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、前記酸転写用膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】酸の拡散の選択性及び除去性に優れた酸転写樹脂膜が得られる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】イミノスルホネート系感放射線性酸発生剤、及び式（１）に示す構成単位を有する重合体、を含有する組成物。この組成物を用いてなる酸転写樹脂膜。酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、上記酸転写樹脂膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。
【化１】
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【課題】本発明は、ドライ剥離でないと除去することができなかったケイ素含有膜を、剥離液による剥離（以後、ウェット剥）工程で除去できるようにする工程を提供することにある。
【解決手段】リソグラフィーで用いられるケイ素含有膜材料を基板上に塗布して得られた塗布型ケイ素含有膜を、剥離して除去する塗布型ケイ素含有膜剥離方法であって、少なくとも、硫酸イオン及び/またはフッ素イオンを含有する酸性剥離液で処理する第１工程と、窒素化合物を含有するアルカリ性剥離液で処理する第２工程とを含むことを特徴とする塗布型ケイ素含有膜剥離方法。 （もっと読む）

【課題】酸の拡散の選択性及び除去性に優れた酸転写樹脂膜が得られる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】オキシムスルホネート系感放射線性酸発生剤、及び式（１）に示す構成単位を有する重合体、を含有する組成物。この組成物を用いてなる酸転写樹脂膜。酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、上記酸転写樹脂膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。
【化１】
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【課題】インターミキシングを防止できる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する
【解決手段】本酸転写樹脂膜形成用組成物は、（Ａ）感放射線性酸発生剤、及び、（Ｂ）末端にシアノ基を有する重合体、を含有することを特徴とする。本本酸転写樹脂膜は、本酸転写樹脂膜形成用組成物を用いてなることを特徴とする。本パターン形成方法は、（Ｉ）酸解離性基を有する樹脂を含有し、且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、本酸転写樹脂膜形成用組成物からなる第２樹脂膜を形成する工程と、（ＩＩ）マスクを介して第２樹脂膜に露光し、第２樹脂膜に酸を発生させる工程と、（ＩＩＩ）第２樹脂膜に発生した酸を第１樹脂膜に転写する写工程と、（ＩＶ）第２樹脂膜を除去する工程と、をこの順に備える。 （もっと読む）

本発明は、デバイス上に反転トーン像を形成するための方法であって、ａ）基材上に吸光性下層を形成し； ｂ）下層の上にポジ型フォトレジストの被膜を形成し； ｃ）フォトレジストパターンを形成し； ｄ）この第一のフォトレジストパターンを硬化化合物で処理し、それによって硬化したフォトレジストパターンを形成し； ｅ）硬化したフォトレジストパターンの上に、ケイ素コーティング組成物からケイ素被膜を形成し； ｆ）ケイ素被膜をドライエッチングし、ケイ素被膜がフォトレジストパターンと概ね同じ厚さとなるまで、ケイ素被膜を除去し、及びｇ）ドライエッチングを行ってフォトレジスト及び下層を除去し、それによってフォトレジストパターンが元々在った位置の下にトレンチを形成することを含む、前記方法に関する。更に本発明は、上記方法の製造物及び上記方法を用いて製造される微細電子デバイスにも関する。 （もっと読む）

非アブレート性のネガ型画像形成性要素が、架橋型シリコーンゴム層下に第１及び第２のポリマー層を有している。これらの要素は、水なし印刷（ファウンテン溶液なし）に有用なリソグラフィ印刷版を提供するためにシンプルな方法で使用することができる。水、又は有機溶剤を極めて僅かにしか含有しない水溶液を使用して画像形成済領域を除去することにより、画像形成後の処理が比較的シンプルである。架橋型シリコーンゴム層はインク反発性であり、そして基板に最も近い第１層だけが、感熱性を提供するための赤外線吸収化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】デジタル信号に基づいた走査露光による直接製版が可能であり、耐薬品性、耐アルカリ現像液性に優れ、且つ、露光により速やかに耐アルカリ現像液性が解除される現像ラチチュードが良好な赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版用原版を提供する。
【解決手段】Ｓｉ原子付着量が０．５〜８ｍｇ／ｍ^２である陽極酸化されたアルミニウム支持体上に、側鎖にスルホンアミド基を有する構造単位から選択される１種以上を有するアルカリ可溶性樹脂を含有する層と、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂及び赤外線吸収剤を含有し、露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大する層と、をこの順に設けてなる平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】画像再現性、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版原版の提供。
【解決手段】支持体上に、樹脂及び赤外線吸収剤を含み、赤外レーザー露光によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大するポジ型記録層を少なくとも２層以上有し、該２層以上のポジ型記録層のうち支持体に最も近接するポジ型記録層は、一般式（Ｉ）で表される構造単位を有するポリマーを含む２種以上の樹脂を含有する層であり、且つ、該２種以上の樹脂のうち少なくとも１種は層中で分散相を形成していることを特徴とする平版印刷版原版。一般式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、各々独立に、水素原子、又は置換若しくは非置換のアルキル基を表す。Ｒ^４及びＲ^５は、各々独立に、置換若しくは非置換のアルキル基、等を表し、Ｒ^４及びＲ^５は互いに結合して環構造を形成してもよい。
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【課題】耐薬品性及び耐傷性の両方に優れた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、一般式（Ｉ）で示される基を側鎖に有する高分子化合物、及び赤外線吸収剤を含有する下層と、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有する上層と、をこの順に有することを特徴とする赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版。


Ｙは、酸素原子 または −ＮＨ− を表し、Ｘは、酸素原子 または 硫黄原子 を表し、Ｒは、Ｈ または炭素数１〜３のアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】感度が高く、且つ、画像再現性に優れたポジ型平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、樹脂及び赤外吸収剤を含み、赤外線レーザー露光によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大する２層以上のポジ型記録層と、フッ素置換炭化水素基及び／又はシロキサン基を有する高分子化合物を含有する層と、をこの順に有してなり、該２層以上のポジ型記録層のうち支持体に最も近接するポジ型記録層が、少なくとも２種の樹脂を含有し、それらの樹脂の少なくとも１種が分散相を形成していることを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】非画像部の汚れ防止性、及び画像部と支持体との密着性に起因する耐刷性のいずれにも優れた平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、下記一般式（１）で表される構造成分を含む高分子化合物を含有する中間層と、画像形成層とをこの順に有することを特徴とする平版印刷版原版〔一般式（１）中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜３０の置換基、又はハロゲン原子を表す。Ｌ^１は、単結合又は２価の連結基を表す。Ｙは、１つ以上ＯＨ基及び１つ以上ＣＯ_２Ｈ基が導入された芳香族基、又はその塩を表す。〕。
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【課題】感光性樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィーにより、工程が簡便で、工程歩留まりが高く、高精度な中空構造を有する成形体を安価に作成する方法を確立すること。
【解決手段】基板上に、波長が４００ｎｍ以上の光に感光しない第１の感光性樹脂層を形成し、第１のマスクを介して波長が４００ｎｍ未満の光を照射する工程、現像処理を施すこと無く、前記工程により感光処理された第１の感光性樹脂層の上に、波長が４００ｎｍ以上の光に感光する固形分９０重量％以上の固形又は半固形の第２の感光性樹脂層を形成し、第２のマスクを介して波長が４００ｎｍ以上の光を照射する工程、前記第１及び第２の感光性樹脂層に一括で加熱処理を施す工程、及び前記第１及び第２の感光性樹脂層の未感光部を一括で現像する工程を有する、中空構造を有する成形体の製造法。 （もっと読む）

【課題】長期間大量に平版印刷版材料を現像処理した場合でも、処理安定性に優れており、刷り出し性に優れ、汚れ回復性に優れる印刷版を与える処理方法およびこの処理方法に用いられる現像液を提供する。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、それぞれアルカリ可溶性樹脂を含有する少なくとも２層以上の画像層を積層してなる平版印刷版材料を、赤外光にて画像露光後、３個のカルボキシル基含有アミン化合物または４個のカルボキシル基含有エチレンジアミン化合物の少なくとも一種を含有する現像液で現像処理することを特徴とする平版印刷版材料の処理方法。 （もっと読む）

【課題】支持体基板の素材に拘わらず、非画像部の親水性とその持続性及び画像部と支持体との密着性に起因する耐刷性のいずれにも優れた平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、該支持体表面と直接化学結合し得る反応性基、及び、支持体表面と架橋構造を有する構成成分を介して化学結合しうる反応性基のうちの少なくとも１種の反応性基を有し、下記一般式（１）中の構造単位（ｉ）および構造単位（ｉｉ）を含むポリマーが化学結合してなる親水性層と、画像形成層とをこの順で有することを特徴とする。
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【課題】支持体基板の素材に拘わらず、非画像部の親水性とその持続性及び画像部と支持体との密着性に起因する耐刷性のいずれにも優れた平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、該支持体表面と直接化学結合し得る反応性基、及び、支持体表面と架橋構造を有する構成成分を介して化学結合しうる反応性基のうちの少なくとも１種の反応性基を有し、下記一般式（１）中の構造単位（ｉ）および構造単位（ｉｉ）を含むポリマーが化学結合してなる親水性層と、画像形成層とをこの順で有することを特徴とする。
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【課題】画像部のインキ着肉性に優れ、良好な印刷物が得られるだけでなく、現像性にも優れ、さらに多数版連続処理した場合でも現像液中でのカスやヘドロの発生を抑制する赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、単数又は複数の感光層を設けた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版であって、前記感光層の最表面層が、赤外線吸収剤と、(i)炭素数４以上のアルキル基を有するアクリレート又はメタクリレート、(ii)炭素数１〜３のアルキル基を有するアクリレート又はメタクリレート、及び(iii)酸基を有する重合性モノマーを共重合成分として含み、該炭素数４以上のアルキル基を有するアクリレート又はメタクリレートの比率が０．１〜２０モル％である共重合体と、を含有することを特徴とする赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版。 （もっと読む）