【課題】機械的な干渉、過度の湿気、及び損傷を及ぼす可能性がある物質からインターフェロメトリックモジュレータを保護するバックプレートを備えたインターフェロメトリックモジュレータアレイを提供する。
【解決手段】ＭＥＭＳを基本にしたディスプレイデバイス６００であり、インターフェロメトリックモジュレータアレイ６０４が透明基板を通じて光を反射させるように構成されている。透明基板は、シール６０６を介してバックプレート６０８に取り付けられており、バックプレートは、インターフェロメトリックモジュレータアレイを制御するための電子回路を内蔵することができる。バックプレートは、ディスプレイの状態を制御するために使用することができるデバイス構成要素（例えば電子構成要素、等）に関する物理的支持物となることができる。さらに、バックプレートは、デバイスに関する構造上の主支持物として利用することもできる。 （もっと読む）

【課題】ブラックマスクが光を吸収し、電力を生成することができる電子装置を提供する。
【解決手段】複数の光学ディスプレイ素子を含む表示領域と、前記表示領域の前記光学ディスプレイ素子間の領域内に堆積され、基板と前記光学ディスプレイ素子との間に配置された光起電性ブラックマスクと、を備えている電子装置であって、前記光起電性ブラックマスクが、光を吸収するように構成された少なくとも１つの層、および電力を生成するように構成された少なくとも１つの層、を備えている電子装置。 （もっと読む）

【課題】応力関連の変形を最小限に抑えるように構成された支持構造を有するＭＥＭＳデバイス、およびその製造方法。
【解決手段】ＭＥＭＳデバイスの実施形態は、上位の支持構造によって支持される移動可能層を含み、更に、下位の支持構造を含むことができる。１つの実施形態では、上位の支持構造内の残留応力と、移動可能層内の残留応力とが、実質的に等しい。別の実施形態では、上位の支持構造内の残留応力と、下位の支持構造内の残留応力とが、実質的に等しい。特定の実施形態では、実質的に等しい残留応力は、同じ厚さを有する同じ材料で形成される層の使用を通じて得られる。更なる実施形態では、実質的に等しい残留応力は、互いの鏡像である支持構造および／または移動可能層の使用を通じて得られる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、表面プラズモン・ポラリトン（ＳＰＰ：ｓｕｒｆａｃｅ ｐｌａｓｍｏｎ ｐｏｌａｒｉｔｏｎ）の噴流を変調するための装置及び方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 装置は、金属性表面を有する基板と、構造物と、金属性上部表面に対向する誘電物体とを含む。構造物は、金属性表面上を伝播する表面プラズモン・ポラリトンを光学的に生成するように構成される。誘電物体は、金属性表面に沿った、及びその近くの異なる位置のアレイにおいて誘電率の値を調節するように制御可能である。 （もっと読む）

【課題】本発明の分野は、微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）に関し、より具体的には、ＭＥＭＳを備えるディスプレイに関する。
【解決手段】映像ディスプレイにピクセルを形成するのに適した光デバイス８００。光デバイス８００は、第１の屈折率を有する第１の層８０２と、第１の屈折率よりも低い第２の屈折率を有する、第１の層８０２の上の第２の層８０４と、第２の屈折率よりも高い第３の屈折率を有する、第２の層８０４の上の第３の層８０６と、少なくとも部分的に光吸収性である第４の層８１０とを含み、光スタック８０８および第４の層８１０は、デバイスが第１の状態のときは互いから第１の距離にあり、デバイスが第２の状態のときは互いから第２の距離にあり、第１の距離は第２の距離とは異なる。 （もっと読む）

【課題】アナモルフィック光学系を利用して低輝度の変調光場を集中させることにより、高い合計光強度がライン画像の全体長さに沿って同時に発生され、これにより、あらゆるドット様ピクセル画像が同時に発生される単一パス高解像度高速印刷用途に使用される画像形成システムを提供する。
【解決手段】アナモルフィック光学系１３０を用いて画像形成面１６２上へ二次元画像の略一次元ライン画像を発生させるために利用される単純化された単一パス画像形成システム１００において、システム１００はさらに、均質光発生器１１０と、均質光発生器１１０から受信される均質光１１８Ａを変調するようにコントローラ１８０により制御される空間光変調器１２０と、変調器１２０により発生される変調光場１１９Ｂを画像化しかつ集中させ、かつ画像形成面１６２上に略一次元ライン画像ＳＬを投影させるように位置合わせされるアナモルフィック光学系１３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】高速、かつ低電圧で駆動されることが可能な、透明基板上に構築された直視型ディスプレイを提供する。
【解決手段】少なくとも二つの位置を有する遮光素子のアレイと、少なくとも一つの光源と、遮光素子の位置を制御するとともに、少なくとも一つの光源の照明を制御し、画像フレームに対応する複数のサブフレームデータセットをメモリから取得し、サブフレームデータセットに示されている位置に遮光素子を移動させるために、出力シーケンスに従ってサブフレームデータセットを処理し、サブフレームデータセットに従って画像を形成するために、少なくとも一つの光源を駆動するコントローラと、画像を変えるために出力シーケンスの変更を決定するためのシーケンスパラメータ計算モジュールと、を備えるように構成する。 （もっと読む）

【課題】高速画像形成のために高エネルギ光源を利用する単一通過の画像形成システムを提供する。
【解決手段】予め決められたスキャンライン画像データに応答して、略一次元スキャンライン画像を１２００ｄｐｉ以上で発生する。略均一な二次元均質光場１１９Ａは空間光変調器１２０を用いて、変調された光が二次元変調光場１１９Ｂを形成するように、予め決められたスキャンライン画像データに従って変調される。変調された光場は、次に、略一次元スキャンライン画像を形成するようにアナモルフィックに画像化されかつ集中される。光変調素子１２５−１１〜１２５−４３は、個々に変調「オン」状態と変調「オフ」状態との間で調整可能であって、これにより、変調「オン」状態において各変調素子がその受け入れた光部分をアナモルフィック光学系の対応する領域上へ方向づけ、かつ「オフ」状態において光部分を阻止または迂回させるように配置される。 （もっと読む）

【課題】 従来のディスプレイは液晶やブラウン管を用いて、画素の色を変化させることは出来たが、画素の材質感、および表面の材質感を変化させることは出来なかった。
【解決手段】 白黒のパターンの回転や液晶によって、個別に制御することのできる「高速点滅する面」を画素としてディスプレイを作る。それは認知効果によってその画素の材質感が変化したように我々に感じさせ、その集合であるディスプレイの表面の材質感を変化させることが出来る。 （もっと読む）

【課題】表示映像に悪影響を与えることなく、微細ミラーが駆動する角度が異なる複数種の反射型表示デバイスに対応可能な映像表示装置を得る。
【解決手段】回路基板３３は駆動角度が異なる２種類のＤＭＤに対して互いに異なる正向き状態及び逆向き状態で設置可能であり、正向き状態時における光検出素子１５の位置と、逆向き状態における光検出素子１５の位置とが、ねじ穴３５，３６間を結ぶ基準線の中心点となる基準点ＳＰに対して距離Ｌ隔てて互いに点対称の関係を有している。そして、オフ光１７ａの光軸中心線とオフ光１７ｂの光軸中心線との中線ＭＬは、上述した基準点ＳＰを通過する位置関係を有する。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性を向上させることができる表示装置を提供すること。
【解決手段】第一の基板２０と、第二の基板３０と、複数の画素ＰＩＸと、複数の画素ＰＩＸの各々に形成されたシャッタ機構部３２と、第一の基板２０と第二の基板３０との間に封入された流体Ｌと、第一の基板２０または第二の基板３０の一方の基板の流体Ｌとは反対側に形成された緩衝部４０とを有する表示装置１であって、シャッタ機構部３２は第二の基板３０に形成され、且つ、可動すると共に画素ＰＩＸの光透過率を制御するシャッタ部３１を有し、緩衝部４０は、一方の基板の流体Ｌとは反対側に対向する第三の基板４１と、一方の基板と第三の基板４１とを貼り合せるシール部４２と、一方の基板と第三の基板４１とシール部４２との間に形成された所定の間隙とを有する。 （もっと読む）

【課題】改良された画像品質と、低減された消費電力の直視型ＭＥＭＳディスプレイを提供する。
【解決手段】ＭＥＭＳ光変調器のアレイ７０２と、ドライバ７０８、７１０、７１４とアレイ内の各光変調器の状態を制御するためのコントローラ７０４とを含む。コントローラ７０４は、表示のために画像フレームを符号化した画像データを受信し、画像データから、複数のサブフレームデータセットを導き出し、サブフレームデータセット内で示された状態にするために、出力シーケンスに従って複数のサブフレームデータセットをドライバ７０８、７１０、７１４に出力する。ドライバ７０８、７１０、７１４は、データおよび作動電圧をアレイ７０２に伝える。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器にて反射された描画に寄与しない光が周辺部材に与える熱的影響を確実に排除して高い描画精度を担保する。
【解決手段】光学ユニットのヘッド部は、レーザ発振器から出射された光を空間変調させて、パターンの描画に寄与させる必要光Ｌ１と、パターンの描画に寄与させない不要光Ｌ０とを、互いに異なる方向に反射させる空間光変調器を備える。光学ユニットは、さらに、必要光Ｌ１を通過させつつ不要光Ｌ０を遮断する第２遮断板２３２と、第２遮断板２３２を冷却する冷却部を備える。第２遮断板２３２における不要光Ｌ０の入射領域を含む対象領域部分には、入射した光を乱反射させる乱反射面４２が形成される。 （もっと読む）

【課題】改良された画像品質と、削減された電力消費とのために、高速に、かつ低電圧で駆動されることが可能な、機械的に作動させられるディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】ＭＥＭＳベースの光変調器（シャッタ組立体１０２ａ〜１０２ｄ）の動きを制御するための制御マトリクス（書き込み許可相互接続１１０と、データ相互接続１１２と、共通相互接続１１４を含む。）を利用して、ディスプレイ装置１００上に画像を形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マスクレス加工装置に関する。
【解決手段】本発明のマスクレス加工装置は、基板に照射される光を提供する照明光学系と、多数の光変換素子で構成され、前記照明光学系から照射された光を加工パターンに応じて選択的に反射または透過するように当該光変換素子を調節して光量を変換する空間光変調器と、前記多数の光変換素子が前記基板の一つのピクセルに対応して集光するように配列され、前記空間光変調器により変換された光が入射されると、当該ピクセルに前記多数の当該光変換素子によって提供された高エネルギーの光を投射する投射光学系と、前記加工パターンの入力を受け、入力された加工パターンに応じて、前記光源から照射された光を前記多数の光変換素子によって選択的に変換されるように前記空間光変調器を制御する制御部と、を含み、デジタルマスクを用いることにより、マスク使用によるコストが低減し、加工しようとする対象のスケール変形に対する能動的な対応が容易であるだけでなく、前記装置の活用度及び利用度が拡大される。 （もっと読む）

【課題】
ＭＥＭＳ基板とＡＰ基板との貼り合わせ作業におけるセルフアライメントが可能であり、外部衝撃に対する信頼性の高い表示装置を提供すること。
【解決手段】
透明基板（ＳＵＢ１）上に可動式のシャッターを備えたＭＥＭＳ基板と、他の透明基板（ＳＵＢ２）上に光を透過するアパーチャを該シャッターの開口に対応して備えたＡＰ基板とを有し、両基板を所定の間隔で対向配置する表示装置において、該ＡＰ基板の面上には、複数の支柱（ＣＯ）が形成され、該ＭＥＭＳ基板の該可動式のシャッターが形成された面上には、該支柱が挿入され、該支柱を保持するコンタクトホール（ＣＨ）が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】機械式のシャッタが配置されたセルを満たすオイルを注入するときにシャッタに与えるダメージを減らすことを目的とする。
【解決手段】表示装置は、切れ目４６を有して空間を囲むシール材４４と、シール材４４の切れ目４６を塞いで封止空間を形成するエンドシール５０と、封止空間に満たされたオイル５２と、一対の光透過性基板１０，１２間の間隔を保持するスペーサ５４と、シャッタ１４と、シャッタ１４を機械的に駆動するための、オイル５２内に配置された駆動部３８と、一対の光透過性基板１０，１２の対向面の少なくとも一方上に形成された壁部６０と、を有する。壁部６０は、シール材４４の切れ目４６と表示領域４８との最短経路を遮る位置に配置された部分を有し、スペーサ５４、シャッタ１４及び駆動部３８を構成する材料から形成されている。 （もっと読む）

【課題】製造プロセスを増やすことなく、オイルに対する耐性の高いバンプを形成することを目的とする。
【解決手段】第３上面６８を囲むように樹脂層５０を貫通する切れ目７６が形成されている。膜５２は、切れ目７６の内側では樹脂層５０の底面を除く全体を覆い、切れ目７６の外側では樹脂層５０の少なくとも一部が露出するように形成する。切れ目７６の内側では膜５２に全体的に覆われた樹脂層５０を残し、切れ目７６の外側では膜５２からの露出面から連続する樹脂層５０の全体を除去する。切れ目７６の内側に樹脂層５０及び膜５２からバンプ４８を形成し、切れ目７６の外側に第１基板１０から浮いた状態で膜５２からシャッタ１４と駆動部４０の少なくとも一部とを形成する。 （もっと読む）

【課題】コントラストの改善を図ることが可能であり、製造が容易なアパーチャープレートを提供すること。
【解決手段】本発明の表示装置においては、（Ａ）透光性の基板１３０上に金属層１３２を形成し、（Ｂ）金属層１３２上に開口パターンが形成されたレジストマスク１３６を設け、この状態で金属層１３２の露出部分をエッチングして開口部１２６を形成し、（Ｃ）その後レジストマスク１３６を除去し、（Ｄ）金属層１３２の表面及び開口部１２６の側壁面を酸化して金属の酸化物層１３４を形成することにより、アパーチャープレートの表裏の反射率を異ならせる。酸化物層１３４は、レジストマスク１３６をアッシングするときに、レジスト除去と同時に形成することができる。 （もっと読む）

【課題】視野角特性の問題を解消することを目的とする。
【解決手段】表示装置は、複数の固定開口３６が形成された遮光膜３４と、光Ｌの透過及び遮断を制御するための複数のシャッタ１４と、複数のシャッタ１４を、固定開口３６の上方の位置と固定開口３６から退避した位置との間を移動するように駆動する駆動部４０と、を有し、複数の固定開口３６は、それぞれ長手方向及び短手方向を有する長尺状であり、長手方向を第１方向Ｙに向けた第１グループの固定開口３６ａと、長手方向を第１方向Ｙに直交する第２方向Ｘに向けた第２グループの固定開口３６ｂと、を含み、複数のシャッタ１４は、第１グループの固定開口３６ａに対応して第２方向Ｘに直線駆動される第１グループのシャッタ１４ａと、第２グループの固定開口３６ｂに対応して第１方向Ｙに直線駆動される第２グループのシャッタ１４ｂと、を含む。 （もっと読む）