【課題】簡単な構成でスペックルノイズの低減が可能な走査型表示装置を提供する。
【解決手段】走査素子１１０、走査素子１１２、位相分布変化素子１１１で構成される位相分布変化装置１０９を光ビームの光路に挿入する。走査素子１１０は、位相分布変化素子１１１上に光ビームを走査する。位相分布変化素子１１１は、光ビームが入射する位置によって異なる位相分布を光ビームに付加する。走査素子１１２を走査素子１１０と同期制御させ、光ビームの進行方向の変化を相殺する。即ち、位相分布変化装置１０９は、光ビームの進行方向を保持したまま、その位相分布を動的に変化させる。その結果、レーザ光ビームの干渉現象に起因するスペックルノイズパターンを動的に変化させ、時間的平均化効果により、スペックルノイズを低減する。 （もっと読む）

【課題】透過型偏光素子が利用できない真空紫外領域においても円偏光もしくは直線偏光の利用ならびにそれら偏光状態の変調が放射光源を用いずとも可能とする反射型偏光変調素子を提供すること。
【解決手段】光源からの光を略直線偏光状態にする偏光子部と、偏光子部からの略直線偏光を略円偏光または略直線偏光状態にする位相子部とを備えた反射型偏光変調素子において、前記偏光子部は、金属鏡を備え、当該金属鏡による反射で入射光を略直線偏光状態にして位相子部に入射させ、前記位相子部は、位相子部への入射光と透過光の光軸が一致するように配置された平面鏡の組とを備える。 （もっと読む）

【課題】複雑な制御が不要で低コストに任意のＰＭＤを発生させることができるようにする。
【解決手段】光入射部２１に入射された光信号を偏波分離手段２３により二つの直交偏波成分に分離し、その一方を第１可変遅延手段２５に与え、他方を第２可変遅延手段２６に与え、第１可変遅延手段２５によって遅延された一方の直交偏波成分と、第２可変遅延手段２６によって遅延された他方の直交偏波成分とを偏波合波手段２８によって合波し、光出射部２９から出射させる。制御部３０は、第１可変遅延手段２５と第２可変遅延手段２６の遅延量を互いに異なる周期で変動させて、その周期差により、偏波合波手段２８で合波された光の偏波成分の群遅延時間差を変化させる。 （もっと読む）

【課題】複数チャンネルのＷＤＭ光から所望のチャンネルの所望の波長を選択することができる光可変フィルタアレイ装置を提供すること。
【解決手段】光ファイバ１１−１〜１１−ｍからの波長λ１〜λｎから成るｍチャンネルのＷＤＭ信号光を波長分散素子１７に入射する。波長分散素子１７は入射光をその波長に応じて異なった方向に分散させレンズ１８に加える。レンズ１８では光の各チャンネルの光を帯状に平行とすることによりチャンネルと波長に応じてｘｙ平面に展開する。波長選択素子１９は格子状に形成された画素構造であり、選択すべき各チャンネルと波長に応じた位置の画素を反射状態とする。波長選択素子１９で反射した光は同一の経路を介して光ファイバ１５−１〜１５−ｍより出射される。波長選択素子１９の反射特性を各画素毎に変化させることによって、光フィルタの特性を変化させ、任意のＷＤＭ光の任意の波長を選択することができる。 （もっと読む）

【課題】偏光状態を高精度に測定すること。
【解決手段】偏光状態取得装置は、入射光に含まれる複数の偏光成分のそれぞれの受光量を複数の画素毎に取得する受光量取得部と、入射光に含まれる複数の偏光成分のそれぞれの受光量が、予め定められた受光量の範囲内にあるか否かを判定する受光量判定部と、受光量取得部が取得した受光量のうち範囲内にあると判定された受光量を用いて、入射光の偏光状態を複数の画素毎に取得する偏光状態取得部とを備える。 （もっと読む）

【課題】透過光により発熱することなく、画素に応じて第１の偏光光又は第２の偏光光を目的の方向へ導くことができる光偏向装置を提供する。
【解決手段】基板と、基板の複数の端部にそれぞれ設けられ、各上部にストッパを有する複数の規制部材と、頂部を有して基板の上面に設けられる支点部材と、光反射領域を有し、かつ固定端を持たず、かつ少なくとも一部に導電性を有する部材からなる導電体層を有し、かつ基板と支点部材とストッパの間の空間内で可動的に配置される板状部材と、基板上にそれぞれ設けられ、板状部材の導電体層とほぼ対向している複数の電極と、を備えており、板状部材が支点部材を中心として静電引力により傾斜変位することにより、光反射領域に入射する光が反射方向を変えて光偏向する光偏向装置において、ストッパ上に直接又はストッパ上部に立体的に接続して偏光素子を具備し、偏光素子がワイヤグリッド型偏光素子であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】２つのレーザ光による加工跡が均一になるように２つのレーザ光の強度を調整することができ、２つのレーザスポットの位置が設定された値になるように調整できるレーザ加工装置及びレーザ加工方法の提供。
【解決手段】レーザ光源と、固定手段と、回転手段と、照射位置移動手段と、レーザ光の偏光方向を出射されたレーザ光の光軸に対して変化させる偏光方向変化手段と、偏光方向変化手段により偏光方向が変化されたレーザ光を２つのレーザ光に分離させる偏光ビームスプリッタと、２つのレーザ光の光軸を平行からずらして合成する光学系と、光学系で合成された２つのレーザ光を集光させる対物レンズと、加工対象物に形成された加工跡に非加工強度のレーザ光を照射したときの反射光の特性を加工跡の特性として検出する特性取得手段とを有するレーザ加工装置である。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成で、光量の低下を抑制しつつ、無偏光状態と偏光状態とを切り換える。
【解決手段】偏光板ホイール２は、入射光に対向する面上に、入射光のうち第１偏光成分を透過する第１偏光領域、入射光のうち第２偏光成分を透過する第２偏光領域、入射光のすべての偏光成分を透過する無偏光領域が形成される。偏光板ホイール２は、入射方向を回転軸方向として回転する。第１偏光成分と第２偏光成分とは互いに直交する成分であってもよい。 （もっと読む）

【課題】レーザー光源で得られたレーザーを導いて、右偏光又は左偏光のどちらか一方に共振させると共に左右どちらにも切り替え可能な光発振器を提供する。
【解決手段】立体的に配置された１対の平面鏡と１対の凹面鏡とを備え、入射光学系から出射されるレーザーを取り込み、当該レーザーを圧電素子によって長さが調整された光路上を周回させながら前記光路の光路長に応じて右円偏光又は左円偏光を選択することによってレーザーを共振させる。 （もっと読む）

【課題】 抗折強度の高いデバイスを得ることのできるレーザ加工装置を提供することである。
【解決手段】 レーザ加工装置のレーザビーム照射ユニットは、レーザビーム発生ユニットと、集光器と、レーザビーム発生ユニットが発生したレーザビームを集光器に導く光学系とを含んでいる。光学系は、レーザビーム発生ユニットが発生したレーザビームを第１のレーザビームと第２のレーザビームとに分岐する第１の偏光ビームスプリッタと、レーザビーム発生ユニットと第１の偏光ビームスプリッタとの間に挿入された１／２波長板と、第１の偏光ビームスプリッタを透過した第１のレーザビームを第２のレーザビームの光路と平行な光路に反射する第１のミラーと、第２のレーザビームを直角方向に反射する第２のミラーと、第１のミラーで反射された第１のレーザビームと第２のミラーで反射された第２のレーザビームが交差する位置に配置された第２の偏光ビームスプリッタとを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】偏光方向調整の作業が容易な偏光制御装置を提供すること。
【解決手段】らせん状に巻かれたらせん部分を有するホールアシストファイバと、ホールアシストファイバのらせん長さを変化させる長さ制御手段と、を有する偏光制御装置とする。なおこの場合において、長さ制御手段は、らせん部分の端部を保持する一対の保持手段と、一対の保持手段の間の距離を増減させる距離制御手段と、を有することが好ましい。またこの手段において、距離制御手段は、マイクロメーターを用いてなることも好ましい。 （もっと読む）

【課題】光ファイバに対して安定的に圧力を付与し、光ファイバを通過する光の偏光状態の経時的変動を抑える。
【解決手段】偏光コントローラ１０００は、回転部１０２０の平面部１０２１とブロック１０３０の平面部１０３２とを光ファイバ２０００に当接させ、調整ネジ１１００によって回転部１０２０とブロック１０３０とを相対的に移動させることにより、平面部１０２１と平面部１０３２との間隔を変更して光ファイバ２０００に圧力を印加する。更に、偏光コントローラ１０００は、サブファイバ３０００を有している。サブファイバ３０００は、平面部１０２１と平面部１０３２との間に配置され、光ファイバ２０００と略等しい径を有する。 （もっと読む）

【課題】 特殊な光学素子を用いることなく消光比の低下を抑制することができる復調器およびそれを備えた受信装置を提供する。
【解決手段】 復調器（５０）は、差動位相変調光信号を、第１光路を経由する第１分岐光と第２光路を経由する第２分岐光とに分岐する分岐手段（５１）と、第１光路を経由した第１分岐光と第２光路を経由した第２分岐光とを合波干渉させる合波干渉手段（５５）と、合波干渉手段で合波干渉する第１分岐光と第２分岐光との間の各偏波の位相差の差を緩和する複屈折媒体（５４）を備える。 （もっと読む）

二つの位置の間で速く並進するミラーを備えた、様々な実施形態に従った、エタンデュを維持する偏光を切り替えることは、起こる。均一な偏光を有する光は、ミラーへ透過させられる。二つの位置の他方のものにおいてミラーのものから離れて反射させられた光が、維持されたそれの偏光を有するのに対して、二つの位置の一方においてミラーのものから離れて反射させられた光は、変化させられたそれの偏光を有する。それの後に、偏光が変化させられた光及び偏光が維持された光は、簡単にエタンデュを維持する様式において再結合させられることがある。再結合させられた光が、二つの異なる偏光の状態を包含するために、立体視的なイメージは、発生させられることがある。
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【目的】PMD補償動作中であってもPMD補償装置から出力される出力光のSOPが常に一定に保たれる。
【解決手段】第1偏波面コントローラ210、可変DGD調整部220、第2偏波面コントローラ232、偏波解析器236、及び制御信号生成器240を具えて構成される。第1偏波面コントローラは、入力される被PMD補償信号209に対して、偏波状態を調整して偏波面調整信号211を生成する。可変DGD調整部は、偏波面調整信号の直交固有偏波モードの一方の偏波モード成分に対してDGDを付与して、PMD補償信号215を生成する。第2偏波面コントローラは、PMD補償信号の偏波状態を調整して出力信号233を生成して出力する、この出力信号は、光分岐器234によって一部タップされてモニター信号235が取り出され、出力信号251として外部に出力される。第1偏波面コントローラ、可変DGD調整部、第2偏波面コントローラのそれぞれは、偏波解析器及び制御信号生成器によって制御される。 （もっと読む）

【課題】従来の測定方法ではポラライザの偏光軸に直交する直線偏光を入力する必要があり、偏波コントローラの制御に時間を要し、短時間での測定が困難という課題がある。本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、偏波コントローラの調整が容易であり、高精度かつ高速にＯＳＮＲを測定できる光信号対雑音比測定装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る光信号対雑音比測定装置は、信号光がポラライザを通過した後に信号成分とＡＳＥノイズとの光強度差を小さくなるような偏光状態を偏波コントローラで作り出し、偏波スクランブラを介した後の光のストークスパラメータからＡＳＥノイズを算出することとした。 （もっと読む）

【課題】本発明は、波長選択的な偏光制御技術に関し、カラーセレクト装置による高速な偏光方向を回転させる波長成分の切り替えと偏光性能を両立した偏光制御技術を提供する。
【解決手段】特定の偏光方向を有する照明光３０が、それぞれ異なる波長成分の偏光方向を回転させるカラーセレクト１１１とカラーセレクト１１２を照明光３０の偏光方向に対して最良の偏光特性を有する方向にそろえて配置したカラーセレクト部１１０を透過する前に、照明光３０の光軸を中心に回転する第１の光路変更手段１２０により経時的に光路を変更する。これにより、高速な偏光方向を回転させる波長成分の切り替えと偏光性能を両立が図られる。 （もっと読む）

【課題】レーザ光源装置において、スペックル低減を視認レベルで安価に実現する。
【解決手段】光源７と第１光導波路２を有するレーザモジュール３において、光源７からの光Ｌを第１光導波路２の出射端２ａからを射出させる。光Ｌを第１光導波路２に接続された第２光導波路５に入射させ、第２光導波路５に導波させる。強度変調手段６により第２光導波路５に強度変調を加える。この際、第２光導波路５の入射端５ｂのコア径が、第１光導波路２の出射端２ａのコア径よりも大きいものとする。 （もっと読む）

【課題】ホイール回転に伴う、入射する光の偏光方向に対する色光別の偏光変換領域における偏光変換基準軸方向のずれ量を低減できる波長選択性偏光素子を提供する。
【解決手段】光の偏光方向を波長選択的に変換する色光別の偏光変換領域Ｂ−ＣＳ，Ｇ−ＣＳが、回転中心Ｏを対称軸として放射線状に分割形成されたホイール形状の波長選択性偏光素子１２であって、各偏光変換領域Ｂ−ＣＳ，Ｇ−ＣＳは、回転中心Ｏを対称軸として放射状に細分割されて同一の変換特性を持つ複数の細分割領域からなる。端部細分割領域Ｅ１，Ｅ３の偏光変換基準軸は、該端部細分割領域Ｅ１，Ｅ３の中心より当該偏光変換領域Ｂ−ＣＳの中心寄りに偏心させた位置に設定され、かつ、端部細分割領域Ｅ１，Ｅ３の分割角度γ_１，γ_３が中間細分割領域Ｅ２の分割角度γ_２よりも大きくなるように不均等に細分割されている。 （もっと読む）