【課題】偏波無依存化を達成する。
【解決手段】Ｓｉ製の第１直線状光導波路１２と、Ｓｉ製のリング型光導波路１６と、第１直線状光導波路及びリング型光導波路の両者を囲むクラッド１８とを備え、第１直線状光導波路とリング型光導波路とが、第１光結合領域２０において、光結合する間隔を空けて互いに平行に配置された第１方向性結合器２２を構成していて、クラッドの屈折率が１．６〜２．０の間の値であり、第１直線状光導波路とリング型光導波路の光伝播方向に直交する横断面形状を互いに等しい正方形とし、該正方形の１辺の長さを、クラッドの屈折率に依存した値とする。 （もっと読む）

【課題】波長特性が広帯域で可変である波長可変光フィルタ、および広帯域でレーザ光の波長が可変である波長可変レーザを提供すること。
【解決手段】コア部を有するマルチモード干渉型導波路部と、前記マルチモード干渉型導波路部の長さ方向の一端に設けられた第１光入出力部と、前記マルチモード干渉型導波路部の他の一端に設けられた第２光入出力部とを有し、前記マルチモード干渉型導波路部は前記第１光入出力部から入力し第２光入出力部から出力する光に対して損失波長特性を有する光フィルタ部と、前記マルチモード干渉型導波路部のコア部の側部に設けられた、該コア部よりも屈折率または等価屈折率が低い側部クラッド部と、前記側部クラッド部の屈折率または等価屈折率を変化させる屈折率調整機構と、を備える。 （もっと読む）

【課題】電気通信システムなどで使用される光送信及び受信装置を提供する。
【解決手段】１つ又はそれよりも多くのレーザ４と、この１つ又はそれよりも多くのレーザ４の各々によって出力された放射線を強度変調する変調手段１０と、変調手段によって生成された変調放射線を例えば光ファイバ２２の中に出力するための出力手段とを含む送信装置２。装置は、使用時に１つ又はそれよりも多くのレーザ４から変調手段１０まで及び変調手段１０から出力手段まで放射線を案内する基板に形成された中空コア光導波路２０を含む。また、基板に形成された少なくとも１つの中空コア光導波路により、放射線が１つ又はそれよりも多くの光ファイバから１つ又はそれよりも多くの検出器まで案内されることを特徴とする受信器。組合せ受信器／送信器装置も示される。 （もっと読む）

【課題】光導波路共振器又は共振器回路を製造する過程で、光導波路共振器又は共振器回路の共振特性を予測することを目的とする。
【解決手段】本願発明の光導波路共振器又は共振器回路の製造方法では、半導体で構成される光導波路共振器に前記半導体のバンドギャップに相当する波長よりも短い波長の光を照射し、前記光導波路共振器から発生するフォトルミネセンス光のスペクトラムから、前記半導体のバンドギャップに相当する波長以上の波長域での前記光導波路共振器の共振特性を予測する。 （もっと読む）

【課題】従来よりも小型で低損失であり、設計の自由度の高い光導波路を提供すること。
【解決手段】複合光導波路１は、シリカ系コアを有する第１光導波路９と第１光導波路に接合され、Ｓｉ系コアを有する第２光導波路１１とを有し、第１光導波路９は、第２光導波路１１において許容される伝播損失に対応した導波路長を有し、第２光導波路１１は、第１光導波路９の最小曲げ半径よりも小さい半径を有する急峻曲がり部１３を有する。 （もっと読む）

【課題】選択的に可変である、共鳴波長の光線を反射することの出来るチューナブル共鳴格子フィルタを提供する。
【解決手段】フィルタは、回折格子３と、平面状導波路４と、フィルタをチューニングすることを許容し得るよう選択的に可変の屈折率を有する光透過性材料とを備え、該光透過性材料は、導波路に対するチューナブルクラッディング層５、好ましくは、液晶ＬＣ材料で形成する。回折格子３が平面状導波路４に対してチューナブル層５の反対側部に配置され、これによりフィルタのチューニング可能性に顕著に影響を与えずに、格子パラメータを所望のフィルタの帯域幅に特に合わせることができる。共鳴構造体１内にて、コア層４をチューナブル層と直接接触するか又はコアとチューナブル層との間に介在された相対的に薄い中間層と直接接触するチューナブル層５に近接する位置に配置することで、コア層４の有効屈折率を効率的に変化させることができる。 （もっと読む）

【課題】ロール・トゥ・ロール方式で作製可能なタックフリーと硬化感度を両立する、光導波路形成用液状樹脂組成物およびそれを用いた光導波路、ならびにその光導波路の製法を提供する。
【解決手段】下記の（Ａ）を主成分とし、下記の（Ｂ）および（Ｃ）成分を含有する光導波路形成用液状樹脂組成物である。
（Ａ）１分子中に複数の（メタ）アクリル基を有する（メタ）アクリレートポリマー。
（Ｂ）１分子中に複数のチオール基を有する液状チオールモノマー。
（Ｃ）光重合開始剤。 （もっと読む）

【課題】半導体製造プロセスを用いてフォトニック結晶構造を有する各種光デバイスを容易に形成することができるフォトニック結晶半導体デバイスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】ｎ−ＩｎＰ基板１１上に下部ＤＢＲ層１、コア層２、上部ＤＢＲ層３、誘電体多層膜６が順次積層される。コア層２及び上部ＤＢＲ層３には膜厚方向に延びる複数の空孔９が形成され、これによりフォトニック結晶構造が実現される。このフォトニック結晶構造は、複数の空孔９に挟まれて空孔９が存在しない線欠陥部１０を有し、線欠陥部１０が光導波路として機能する。 （もっと読む）

【課題】 熱光学位相シフタ等の光素子の製造時に光素子自身や製造装置に悪影響を与えずに、高い歩留まりで光素子を製造できるエッチング終点検出パターンを提供する。
【解決手段】 基板４上に少なくとも光素子用膜（第１膜）と犠牲層５が積層形成されていて、基板４と前記光素子用膜の間にある犠牲層５を選択的にエッチングする際に使用されるエッチング終点検出パターンは、前記光素子用膜で形成され、それぞれが異なる幅を持つ細線パターン３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄを含む細線パターン部３と、細線パターン部３を基板４に接続して保持する保持パターン部２とを備える。犠牲層５のエッチングにより細線パターン３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄに生じる構造的・光学的変化を利用してそのエッチング量を判別する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、回路による応力複屈折差を減少させ、オーバーエッチングで全ての干渉計を同時に偏波無依存化することを可能とする平面光波回路及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る平面光波回路は、複数の光導波路からなる少なくとも２つの干渉計と、前記干渉計のうち、最大の光導波路密度より小さい光導波路密度をもつ前記干渉計の前記光導波路の両側に配置されたダミーパターンと、を備える。干渉計Ａ１の光導波路密度は干渉計Ａ２の光導波路密度より大きい。このため、平面光波回路１０１は、干渉計Ａ１の光導波路１３の両側にダミーパターン１７を備える。 （もっと読む）

【課題】ＦＳＲの大小にかかわらず、フォトニック結晶導波路に挿入される共振器の導波路方向の長さを調整できるようにする。
【解決手段】直線状に配列された第１柱状構造体１０１、および第１柱状構造体１０１の列の周囲に配列された第２柱状構造体１０２からなるピラー型フォトニック結晶による第１導波路１１１を備える。また、直線状に配列された複数の第５柱状構造体１０５および第５柱状構造体１０５の列の周囲に配列された第２柱状構造体１０２からなるピラー型フォトニック結晶による第２導波路１１４を備える。第２導波路１１４は、第１導波路１１１に接続して第１導波路１１１に対してスタブとして機能する。 （もっと読む）

【課題】 従来の導波路型光フィルターと比較して、小型化及び低コスト化を図ることができる導波路型光フィルターを提供するものである。
【解決手段】 導波路型光フィルターは、１×３型マルチモード干渉導波路４ａと、３×１型マルチモード干渉導波路５ａの入力ポートに一端が接続される１本の入射光導波路１ａからなる第１の光導波路群１と、１×３型マルチモード干渉導波路４ａの出力ポートに一端が接続される３本の光導波路（直線導波路２ａ、第１の曲線導波路２ｂ、第２の曲線導波路２ｃ）からなる第２の光導波路群２と、を備え、第２の光導波路群２のうち、一の光導波路の長さが、他の光導波路の長さと異なる。 （もっと読む）

【課題】 費用効率が高く、ＣＭＯＳ技術とも適合する電磁波アイソレータ及び集積光学デバイスを提供する。
【解決手段】 本発明は、伝搬の２つの円形方向（Ｄ１、Ｄ２）を定めるボディ（２９）を含む電磁波アイソレータ（１０）に向けられる。ボディは、波動伝搬が、方向のうちの一方（Ｄ１）において、反対方向（Ｄ２）におけるよりも実質的に多くサポートされるように、アイソレータの対称性を低下させる１つ又は複数の構造部（２１、２２）によってさらに補強される。 （もっと読む）

【課題】安定した温度特性を有する光回路を実現する。
【解決手段】光リング共振器は、第１リングと第２リングと第３リングとを備えた平面導波路型光リング共振器であって、第２リングの光路上に配置された第１熱光学位相シフタと、第３リングの光路上に配置された第２熱光学位相シフタとを備える。第２リングの光路長は第１リングの光路長よりも長い。第３リングの光路長は第１リングの光路長よりも短い。 （もっと読む）

【課題】
ＤＱＰＳＫ変調などに用いられる複数のマッハ・ツェンダー型導波路を薄型の基板上に集積化した光導波路素子において、ｏｎ／ｏｆｆ消光比を改善した光導波路素子を提供すること。
【解決手段】
電気光学効果を有する材料で形成された厚みが２０μｍ以下の薄板と、該薄板の表面又は裏面に形成された光導波路を有する光導波路素子において、該光導波路が複数のマッハツェンダー型導波路部を有すると共に、少なくとも２つ以上のマッハツェンダー型導波路部から出力される光波を合波する構成をし、該マッハツェンダー型導波路部（ＭＺＡ）内の合波部には、出力用導波路（ｃ１）と該出力用導波路を挟むように配置される２本の放射光用導波路（ｂ１，ｂ２）から構成される３分岐導波路が形成され、該３分岐導波路の該出力用導波路と該放射光用導波路との間には、高次モード光吸収領域（ｄ１，ｄ２）が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高度な機能性を達成しつつ、長さを短縮し小型化することも可能であり、しかも製造工程における加工精度の管理を容易化できるグレーティング構造を有する基板型光導波路デバイスの設計方法を提供する。
【解決手段】フォトリソグラフィー工程及びエッチング工程によって加工してなるグレーティング構造を有する基板型光導波路デバイスの設計方法であって、所望の光学特性を入力し逆散乱問題を解くことによって、ｚ軸（光導波路の長手方向）に沿ったコア幅を間隔Δｚごとに算出して、グレーティングピッチＰ_ＧがΔｚの整数倍となるグレーティング構造を設計し、Ｐを設計中心波長／（参照実効屈折率×２）とするとき、Ｐ−Δｚがフォトリソグラフィー工程及びエッチング工程の適用可能な最小ピッチＰ_ｍｉｎ以上となるように、Δｚを設定する。 （もっと読む）

光導波路のコアの上面に、該コアより屈折率の低い低屈折率材料からなる溝部充填体で充填された溝部を有する基板型光導波路デバイスの製造方法であって、高屈折率材料層を形成する第１の高屈折率材料層形成工程と、前記高屈折率材料層の上に、前記低屈折率材料からなる低屈折率材料層を形成する低屈折率材料層形成工程と、前記低屈折率材料層の両側方を除去して前記溝部充填体を形成する溝部充填体形成工程と、前記溝部充填体の両側方を充填するように、高屈折率材料層を形成する第２の高屈折率材料層形成工程と、を有する基板型光導波路デバイスの製造方法。
（もっと読む）

【課題】偏波依存性をなくすること。
【解決手段】単結晶Ｓｉ製であり、臨み合う第１及び第２側面１６_１及び１６_２と、臨み合う第３及び第４側面１６_３及び１６_４と、臨み合う上面及び下面１６_ｕ及び１６_ｄとで囲まれた直方体であって、１．２〜１．６μｍの波長の異なる第１及び第２光の混合光を偏波無依存で波長分離する多モード干渉光導波路１６と、第１側面に接続され、混合光が入力される第１光導波路１８と、第２側面に接続され、波長分離された第１及び第２光をそれぞれ出力する第２及び第３光導波路２０及び２２とが、クラッド１４に埋設されて形成されており、クラッドの屈折率ｎが１〜１．６の値であり、多モード干渉光導波路の厚みｔが０．２〜０．４μｍの値であり、及び多モード干渉光導波路の幅Ｗが１．０〜３．７μｍの値であり、クラッドの屈折率が大きくなると共に幅が大きくなり、かつ、厚みが大きくなると共に幅が大きくなる関係を有する。 （もっと読む）

【課題】厳しい温度制御が必要なＥＡ／ＬＤを使うことなく、簡便な温度制御でＧＥ−ＰＯＮと１０ＧＥ−ＰＯＮとにおいて高速光信号を送受信可能な、小型で低消費電力の双方向光通信モジュールを提供する。
【解決手段】双方向光通信モジュール１は、波長λ１の信号光を送信する第１ＬＤ素子３と、波長λ１の信号光より伝送速度が高い波長λ２の信号光を送信する第２ＬＤ素子４と、波長λ３の信号光を受信するＰＤ素子２を備えるものであって、第１ＬＤ素子３の信号光の光強度をモニタする第１モニタＰＤ素子５と、第２ＬＤ素子４の信号光の光強度をモニタする第２モニタＰＤ素子６と、第２ＬＤ素子４の信号光を「１」レベルの波長光と「０」レベルの波長光とに分波する分波フィルタ１１と、「０」レベルの波長光の光強度をモニタする第３モニタＰＤ素子７と、を備え、分波フィルタ１１の分波特性が調整可能とされている。 （もっと読む）

【課題】スポットサイズを変換する光導波路を用い、より効率的に光結合ができるようにする。
【解決手段】この光導波路は、第２コア１０３を、スポットサイズ変換領域１１２の開始端（導波領域１１１の側）にかけて先細りに形成したところに特徴がある。このように、第２コア１０３が、スポットサイズ変換領域１１２の開始端にかけて先細りに形成されているので、導波領域１１１かとスポットサイズ変換領域１１２との界面で生じる、導波光の反射および損失をより小さくすることができるようになる。この結果、より効率的に光結合ができるようになる。 （もっと読む）