説明

Fターム[2H147FA06]の内容

光集積回路 (45,729) | 膜形成、結晶成長 (3,006) | 膜形成方法、結晶成長方法 (2,523) | 気相成長 (1,163) | 物理的気相成長、蒸着 (696)

Fターム[2H147FA06]の下位に属するFターム

Fターム[2H147FA06]に分類される特許

41 - 60 / 245


【課題】光デバイスの製造工程を簡略化し、且つ光導波路と光素子との位置決めを高精度で行えるようにする。
【解決手段】 基板11上に光導波性材料からなる第1の層を形成し、その第1の層上に金属材料からなる第2の層を形成する。その第2の層を、光導波路12に応じた形状の第1の金属パターンと、位置決めマーク14a,14bに応じた形状の第2の金属パターンと、接合部13に応じた形状の第3の金属パターンとに加工し、その加工された第2の層をマスクとして、第1の層を光導波路12および位置決めマーク14a,14bと接合部13に応じた形状にエッチング加工し、その後、第1の金属パターンを除去して第1層による光導波路12を完成し、第2、第3の金属パターンによる位置決めマーク14a,14bと接合部13とを用いて、光素子2を基板1に搭載する。 (もっと読む)


【課題】パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部(光路)を簡単な方法で形成することができ、また、耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体および電子機器を提供すること。
【解決手段】光導波路構造体1は、コア層93の両面にクラッド層91、92を積層してなる光導波路9と、その両面にそれぞれ接合された導体層51、52と、光導波路9の光路をほぼ直角に屈曲させる光路変換部96と、発光素子10と電気素子12とを備えている。コア層93は、コア部94とクラッド部95とを有し、コア部94は、(A)環状オレフィン樹脂と、(B)前記(A)とは屈折率が異なり、かつ環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーのうちの少なくとも一方と、(C)光酸発生剤と、を含む組成物で構成された層に対し光を選択的に照射することにより所望の形状に形成されたものである。 (もっと読む)


【課題】 作製までの工程数を低減させた光電気配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 表面に導電層を有する電気基板上に、内部に光信号の伝送が可能な光伝送部を有する光導波路を作製する工程1と、前記光導波路に、前記導電層が露出する底面を有する第一の貫通孔と、前記光伝送部の光軸方向に対して前記電気基板に向くように傾斜して前記光導波路の光伝送部が露出した斜面を有する第二の貫通孔と、を作製する工程2と、前記第一の貫通孔の内壁面および前記第二の貫通孔の前記斜面に金属膜を同時に形成させて、それぞれ貫通導体および光反射面を作製する工程3と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】反射膜をグレーティングカプラ直下にのみ形成し、グレーティングカプラの結合効率を高めるとともに、その他の領域部分には、反射膜を設けずに迷光による雑音を抑制する、光学素子を提供する。
【解決手段】支持シリコン層30、BOX層40及びSOI層50がこの順に積層されたSOI基板20と、SOI層に形成されたグレーティングカプラ54と、SOI層上に形成されたオーバークラッド層60とを備えて構成される。ここで、グレーティングカプラが形成された領域の支持シリコン層には、BOX層を露出する窓31が形成されており、窓内に露出したBOX層上に反射膜80が形成されている。 (もっと読む)


【課題】半導体MZ光変調器を備えた光伝送装置であって、消光比が高く、かつ、チャープが少ない形で光を変調できる光伝送装置を提供する。
【解決手段】光伝送装置は、一方のアーム11に、その光吸収係数が他の部分に比べて大きな、出力光の強度が最小となる電圧を各電極15に印加した場合におけるアーム11の伝搬損失とアーム11の伝搬損失とが一致するように、その形状が定められた損失調整部14が設けられている半導体MZ光変調器10と、半導体MZ光変調器10の各電極15に、同時刻における時間変化率の正負が逆の,振幅が等しい変調電圧を印加する駆動回路18とを、備える。 (もっと読む)


【課題】光回路のパターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高い光路を簡単な方法で形成することができ、耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。
【解決手段】光導波路構造体1は、凸部21および凹部22が形成された基板2と、基板2の上面に形成された金属層5と、凹部22内に形成され、コア層93の両面にクラッド層91、92を積層してなる光導波路9と、凸部21の外周の傾斜面に形成され、伝送光18を反射する反射面961と、基板3と、発光素子10と、受光素子11と、電子回路素子12とを備えている。コア層93は、コア部94とクラッド部95とを有し、コア部94は、活性放射線の照射と加熱とにより屈折率が変化する材料で構成されたコア層93に対し活性放射線を選択的に照射して所望形状に形成したものである。 (もっと読む)


【課題】光ファイバからプレーナ導波路に伝搬する光を高密度で高効率に結合する方法及び装置を提供する。
【解決手段】光ファイバ10とプレーナ導波路11をデバイス9により結合する。デバイス9はセグメント化された導波路部分14、テーパ化された部分15及び導波路コア13より構成される。セグメント化された導波路部分14とテーパー化された部分15の組み合わせにより、従来の断熱的結合で必要とされていたよりも大幅に短縮された長さで効率的に結合できる。 (もっと読む)


【課題】複数の受発光部が高密度に配置されていても、電気配線の導電性や電気配線同士の絶縁性を十分に確保しつつ、光導波路に対して良好な光学的接続を可能にする光素子搭載基板を提供すること。
【解決手段】 本発明の光素子搭載基板は、絶縁性基板と、前記絶縁性基板の第1の面側に設けられた受発光する複数の受発光部と、前記絶縁性基板の第1の面に設けられた第1の配線と、前記絶縁性基板の前記第1の面と反対側の第2の面に設けられた第2の配線とを有し、前記第2の面側において、複数のチャンネルを有する光導波路と積層されることにより、前記受発光部と前記複数のチャンネルとがそれぞれ光学的に接続されるよう用いられる光素子搭載基板であって、前記複数の受発光部は、平面視において、2列以上の並列する列状に配置され、前記受発光部は、前記第1の配線と前記第2の配線の両方に電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】選択的に可変である、共鳴波長の光線を反射することの出来るチューナブル共鳴格子フィルタを提供する。
【解決手段】フィルタは、回折格子3と、平面状導波路4と、フィルタをチューニングすることを許容し得るよう選択的に可変の屈折率を有する光透過性材料とを備え、該光透過性材料は、導波路に対するチューナブルクラッディング層5、好ましくは、液晶LC材料で形成する。回折格子3が平面状導波路4に対してチューナブル層5の反対側部に配置され、これによりフィルタのチューニング可能性に顕著に影響を与えずに、格子パラメータを所望のフィルタの帯域幅に特に合わせることができる。共鳴構造体1内にて、コア層4をチューナブル層と直接接触するか又はコアとチューナブル層との間に介在された相対的に薄い中間層と直接接触するチューナブル層5に近接する位置に配置することで、コア層4の有効屈折率を効率的に変化させることができる。 (もっと読む)


【課題】例えば作製プロセスなどにおいて位相シフタ領域の導波路の幅や角度などが所望の値からずれてしまった場合であっても、特性が劣化してしまうのを抑制し、大きな作製トレランスが得られるようにする。
【解決手段】光デバイス1を、光信号を分岐する第1カプラ2と、光信号を干渉させる第2カプラ3と、第1カプラ2と第2カプラ3とを接続する第1導波路4と、第1カプラ2と第2カプラ3とを接続する第2導波路5とを備え、第1導波路4が、端部よりも幅が狭い部分を有する第1位相シフタ領域6を備え、第2導波路5が、端部よりも幅が広い部分を有する第2位相シフタ領域7を備えるものとする。 (もっと読む)


【課題】導波路型デバイスにおいて余剰光パワーを適切に終端する方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施例によれば、導波路型デバイスは、導波路端部からの光を終端するために遮光材が充填された終端構造を備える。この終端構造は、クラッドおよびコアを除去することによって光導波路上に溝を形成し、その溝内を光の強度を減衰させる材料(遮光材)で満たすことで形成することができる。これにより、終端構造に入射する光が遮光材によって減衰され、クロストーク成分となって他の光デバイスに与える影響を抑制することができる。このような終端構造により、同一基板内に集積される光デバイス同士での影響だけではなく、その基板に直接接続される他の光デバイスなどに対する影響も抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】低コストで安定した品質の薄膜を製造することができる薄膜製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜製造方法であって、基板20上に形成させる薄膜の原料溶液中に、基板20を配置する配置工程と、基板20の第1主面20aに光を照射することにより、第1主面20a上に薄膜を形成する形成工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】所定の角度をなす傾斜面を有する光導波路コアを効率的に製造することができ、前記傾斜面に選択的に金属膜を形成させることができる光導波路コアの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板11上に形成されたクラッド層12の表面に、コア部13を形成するコア部形成工程と、コア部13に、クラッド層12に対して略垂直な垂直面15aと、垂直面15aに対向し、クラッド層12の反対側から入射される光をコア部13内に誘導又はコア部13から出射される光をクラッド層12の反対側に導出するように、光を反射させるための傾斜面15bとを有する凹部15を形成する凹部形成工程と、凹部15に金属層16を形成する金属層形成工程と、垂直面15aに形成された金属層16aを選択的に除去することによって、少なくとも傾斜面15b上に金属層16bを残存させる金属層除去工程とを備える光導波路コアの製造方法を用いる。 (もっと読む)


【課題】 光導波路のコアとクラッドとの剥離を低減させた光電気配線基板および光モジュールを提供する。
【解決手段】 光電気配線基板は、基板と、前記基板上に設けられ、上面に第1の凹凸部を有する下部導体層と、前記下部導体層上の前記第1の凹凸部上に設けられ、下部クラッドとコアと上部クラッドとから構成される光導波路と、前記光導波路に設けられ、前記第1の凹凸部とともに前記光導波路を挟むように下面に第2の凹凸部を有する上部導体層と、前記下部クラッドおよび前記上部クラッドを貫通するように前記下部導体層から前記上部導体層まで連続して設けられた貫通電極と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】複数の受発光部が高密度に配置されていても、電気配線の導電性や電気配線同士の絶縁性を十分に確保しつつ、光導波路に対して良好な光学的接続を可能にする光素子搭載基板、および、かかる光素子搭載基板を備えた光電気混載基板および電子機器を提供すること。
【解決手段】光電気混載基板1は、貫通孔110を有する絶縁性基板11と、2つの受発光素子71、72と、半導体素子8と、絶縁性基板11の上面に設けられた第1の配線15と、下面に設けられた第2の配線16とを有する。受発光素子71は、図2の紙面厚さ方向に沿って配列した複数の受発光部711を備えている。そして、受発光素子71は、絶縁性基板11の上面に設けられ、第1の配線15と電気的に接続されている。一方、受発光素子72も同様に複数の受発光部721を備えている。そして、受発光素子72は、貫通孔110内に設けられ、第2の配線16と電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】出力側でのクロストークを低減し、分光された光がそれぞれ単一波長の光として、固有の出力側端面から出力することができる平面導波路素子を提供する。
【解決手段】それぞれの光導波路アレイにおける光導波路5,6においては、光導波路5,6の並ぶ方向において一方向に向かって、等価屈折率分布に勾配が形成されている。第1光導波路アレイおよび第2光導波路アレイの連結部は、光が第1光導波路アレイから第2光導波路アレイに伝搬する際に、mを整数として、この光が起こす光学的ブロッホ振動の位相が(2m−1)×π変化するように形成されている。それぞれの光導波路アレイの光導波路の長さの平均値は、それぞれの光導波路アレイを伝搬する光が、光学的ブロッホ振動において1/2周期の振動する間に、光導波路5,6を伝搬する長さに略一致している。 (もっと読む)


【課題】他の光学部品への集光特性を向上させることが可能な面発光レーザ装置を提供する。
【解決手段】面発光レーザ素子110の光出射面110Aに直接、光導波路120を設けて、そのコア層121の径を、面発光レーザ素子110のニアフィールドパターンと同等またはニアフィールドパターンよりも小さくする。面発光レーザ素子110で発生した光は、出射して広がってしまう前に、すなわちニアフィールドパターンでまだ広がらない状態で、光導波路120のコア層121に入る。コア層121に入った光は、ニアフィールドパターンから広がらない状態のまま、コア層121を導かれ、次の光学部品へ光結合される。よって、出射光の拡大が抑えられ、次の光学部品への集光特性が向上する。 (もっと読む)


【課題】
DQPSK変調などに用いられる複数のマッハ・ツェンダー型導波路を薄型の基板上に集積化した光導波路素子において、on/off消光比を改善した光導波路素子を提供すること。
【解決手段】
電気光学効果を有する材料で形成された厚みが20μm以下の薄板と、該薄板の表面又は裏面に形成された光導波路を有する光導波路素子において、該光導波路が複数のマッハツェンダー型導波路部を有すると共に、少なくとも2つ以上のマッハツェンダー型導波路部から出力される光波を合波する構成をし、該マッハツェンダー型導波路部(MZA)内の合波部には、出力用導波路(c1)と該出力用導波路を挟むように配置される2本の放射光用導波路(b1,b2)から構成される3分岐導波路が形成され、該3分岐導波路の該出力用導波路と該放射光用導波路との間には、高次モード光吸収領域(d1,d2)が形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】光素子を外力が確実に保護するとともに、光導波路と積層した際には、光素子と光導波路との間を低損失で接続しつつ、光電気混載基板の薄型化を実現可能な光素子搭載基板、および、かかる光素子搭載基板を備えた光電気混載基板および電子機器を提供すること。
【解決手段】光電気混載基板1は、光導波路21が形成された光回路層2と、その上方に設けられ、受発光素子(光素子)7を内蔵する光素子搭載基板(光電気複合モジュール)10とを有する。光素子搭載基板10は、平板状の第1の基板11と、第1の基板11上に設けられ、四角形の枠状をなす第2の基板12と、第2の基板12の内側に設けられた受発光素子7および半導体素子8とを有している。第1の基板11は、可撓性を有し、第2の基板12は、第1の基板11よりも剛性が高いものである。 (もっと読む)


【課題】光偏波回転素子を簡易な形状とする。
【解決手段】光偏波回転素子30の断面を、矩形断面32から矩形断面40,44を削除した形状になるよう形成し、点38と点42との距離Wを回転パラメータが値1になる距離にし、光偏波回転素子30の光の伝搬方向の長さを半ビート長にした。これにより、光導波路内で直交する2つの導波モードを励起して、励起された2つの導波モード間の位相が180度異なる位置で光を出射することができ、TE偏波光を光導波路に入射すると、偏波方向が90度回転したTM偏波光を出射するきことができ、光偏波回転素子30を簡易な形状とすることができる。 (もっと読む)


41 - 60 / 245