【課題】光学機器に用いられる環境を配慮した耐候試験において外部から熱が加えられた場合に光学薄膜にき裂が発生しない、生産性が向上された光学部品素子の製造方法を提供する。
【解決手段】一方の主面から他方の主面まで貫通穴が形成され、前記貫通穴内側を向く面の一方の主面側の縁部に沿って前記貫通穴内側に凸形状となるように環状の凸部が設けられている成膜用ジグに、主面の大きさが前記貫通穴の他方の主面側の開口部と同形状となっているウエハを前記貫通穴の内部に収納しつつ、前記ウエハの主面の縁部と前記凸部とが接触するように前記ウエハを配置する配置工程と、 前記凸部側を向く前記ウエハの面のうち露出している面に光学薄膜を前記ウエハが配置されている前記成膜用ジグの一方の主面側から成膜する成膜工程と、を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】炭酸ガスレーザーのような高出力のレーザー照射に適する炭酸ガスレーザー光を透過させる光学素子および反射防止膜を提供する。
【解決手段】光学素子１は、物理膜厚が２０７５〜２２９３ｎｍのＧｅ基板２と、Ｇｅ基板２上に形成される、物理膜厚が２１〜２３ｎｍのＹ_２Ｏ_３からなる第１層３と、第１層３上に形成される、物理膜厚が２６５〜２９３ｎｍのＺｎＳからなる第２層４と、第２層４上に形成される、物理膜厚が１５７〜１７３ｎｍのＧｅからなる第３層５と、第３層５上に形成される、物理膜厚が５８８〜６５０ｎｍのＺｎＳからなる第４層６と、第４層６上に形成される、物理膜厚が８６１〜９５２ｎｍのＹＦ_３からなる第５層７と、第５層７上に形成される、物理膜厚が１６１〜１７８ｎｍのＺｎＳからなる第６層８と、第６層８上に形成される、物理膜厚が２１〜２３ｎｍのＹ_２Ｏ_３からなる第７層９と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】再現性よく光取り出し効率を向上させることができる半導体発光素子、ウェーハ、および窒化物半導体結晶層の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施態様によれば、第１半導体層と、発光層と、第２半導体層と、低屈折率層と、を備えた半導体発光素子が提供される。前記第１半導体層は、光取り出し面を形成する。前記発光層は、前記第１半導体層の上に設けられ活性層を有する。前記第２半導体層は、前記発光層の上に設けられている。前記低屈折率層は、前記第１半導体層の屈折率よりも低い屈折率を有し、前記光取り出し面を部分的に覆う。 （もっと読む）

【課題】ゲルマニウムレンズを使用する環境は、ゲルマニウムレンズ自身から輻射される赤外線量を低減するために、低温や極低温であることが好ましい。しかしながら、たとえば極低温状態での使用では、ゲルマニウムレンズと反射防止層との熱膨張率の相違や密着力不足のため、反射防止層にクラックや剥離が発生するという問題がある。反射防止層にクラックや剥離が発生すると、ゲルマニウムレンズに部分的な屈折率異常が発生する。
上述の問題に鑑み、反射防止層のクラックおよび剥離の発生を低減可能な、光学部品、その形成方法および赤外線検出装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
ゲルマニウム材料を含む光学部品を、フッ化水素酸と過酸化水素水との混合薬液で処理し、多孔質の反射防止層を形成することにより、光学部品と元々一体であり、クラックや剥離を低減可能な反射防止層を形成する。 （もっと読む）

【課題】 フォーカスの際の色収差変動を良好に補正しつつ、かつレンズ面からの反射によるフレアやゴーストの発生を効果的に軽減することができる光学系を得ること。
【解決手段】 物体側から像側へ順に、正の屈折力の第１レンズ群、開口絞り、第２レンズ群からなり、該第１レンズ群は正の屈折力の第１ａレンズ群とフォーカスの際に光軸上を移動する負の屈折力の第１ｂレンズ群を有し、該第１ｂレンズ群は正の屈折力の第１ｂ正レンズと負の屈折力の第１ｂレンズ負レンズより構成され、該第１ｂ正レンズの材料のアッベ数と部分分散比を各々νｄｂｐ、θｇＦｂｐとするとき、
０．０２＜θｇＦｂｐ−０．６４３８＋０．００１６８２１×νｄｂｐ＜０．１０
を満足し、該第１レンズ群と第２レンズ群には、いずれもウェットプロセスを用いて形成されたレンズ面が含まれること。 （もっと読む）

【課題】幅広い波長範囲において優れた反射防止性能を有する反射防止膜を提供する。
【解決手段】光電変換素子１０は、半導体基板２０と、半導体基板２０に積層された反射防止膜３０とを備える。反射防止膜３０は、第１の膜３２と第２の膜３４とが積層された透明性を有する積層膜である。第１の膜３２と第２の膜３４との界面に、複数の金属ナノ粒子３６が２次元配列されている。複数の金属ナノ粒子３６は、基材との接触面となる第１の膜３２の主表面から５〜８０ｎｍだけ離れている。 （もっと読む）

【課題】カルコゲナイドガラスに対して密着性が良好であり、かつ耐候性が良好な赤外線用の反射防止膜を提供する。
【解決手段】硫黄やセレン，テルルを主成分としたいわゆるカルコゲナイドガラスからなる基材１２の表面に反射防止膜１３を設ける。反射防止膜１３は、基材１２側から順に、第１薄膜１６と第２薄膜１７を備える。第１薄膜１６は、酸化ビスマス（Ｂｉ_２Ｏ_３）からなる。第２薄膜１７は、フッ化イットリウム（ＹＦ_３）からなる。 （もっと読む）

【課題】 ＴｈＦ_４を使用することなく、高い透過率を有し、表面粗さが良好な光学部品を提供すること。
【解決手段】 基材と赤外反射防止膜とからなる光学部品であって、基材はＺｎＳｅからなり、少なくとも一面に赤外反射防止膜が形成されている。また、赤外反射防止膜は、ＢａＦ_２からなる低屈折率層、ＺｎＳｅ、ＺｎＳもしくはＧｅからなる高屈折率層、およびアモルファスもしくは異方性を有する中間層から形成されている。このような構成とすることにより、ＴｈＦ_４を使用しなくとも、高い透過率を有し、表面粗さが良好な光学部品を得ることが出来る。 （もっと読む）

【課題】雨および砂の浸蝕の全期間で耐えることができ、必要な波長帯において透過性であり、かつ高速航空機における使用に耐えうる、２０μｍを超える厚いアルミナコーティングを硫化亜鉛およびセレン化亜鉛物品上に堆積させる方法を提供する。
【解決手段】ａ）硫化亜鉛またはセレン化亜鉛を含む物品を提供し；並びに、ｂ）マイクロ波アシストマグネトロンスパッタリングによって、２０μｍを超える厚みのアルミナの層を硫化亜鉛またはセレン化亜鉛上に、６０Å／分以上の堆積速度で堆積させる；ことを含む方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光波および電磁波工学の分野に属する。屈折率の周期構造体であるフォトニック結晶の等価屈折率を計算する手法を提供する。
【解決手段】ＦＤＴＤ法などの既存の数値解法を利用して、まず有限周期数のフォトニック結晶層の複素反射スペクトルを計算する。次にこの反射スペクトルの包絡線を抽出し、それを用いて等価屈折率を計算する。これにより、一様媒質とフォトニック結晶の境界面における反射現象に直接関係する量であるところの、フォトニック結晶の等価屈折率を、恣意性の入る余地なく求めることができる。 （もっと読む）

【課題】高い耐久力を有し、湿分、酸およびアルカリに対して不感性であり、放射能が低く、広スペクトル範囲において透明かつ非吸収性であり、溶融および蒸発中に最初の組成を変化させず、低い焼結温度しか必要とせず、それを利用して１．７〜１．８の範囲にその屈折率を特定して設定することができる前記特性を有する中程度屈折率の層を得ることができる、中程度屈折率の光学層の製造のための蒸着材料を提供する。
【解決手段】酸化アルミニウム、ならびに、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される少なくとも一つの化合物を含む、中程度の屈折率の光学層を製造するための蒸着材料。 （もっと読む）

【課題】 金属フッ化物エキシマ光学素子の表面形成を改良する。
【解決手段】 ２５０ｎｍ未満の電磁放射線を用いる光学リソグラフィシステムにおいて用いるのに適した、コーティングされたアルカリ土類金属フッ化物単結晶の光学素子は、電磁放射線が入射および出射する素子の表面上に選択されたコーティング材料を有する成形された金属フッ化物単結晶を具備し、かつ０．１〜０．４ｎｍの範囲の表面粗さを有する。コーティングが、そのコーティング材料を施す前に多結晶のＣａＦ_２準ビールビー層が除去された表面上にあり、コーティング材料は、最終研磨前に、そのコーティング材料の下にある、準ビールビー層が除去されたアルカリ土類金属フッ化物単結晶の上面粗さを複製する。 （もっと読む）

【課題】固体撮像素子の受光部以外の箇所に被膜される遮光用金属膜上に設けられる反射防止膜において、近赤外領域の光に対する反射防止効果を向上させる。
【解決手段】反射防止膜１は、遮光用金属膜３の上層にある位相反転用絶縁層４と、この位相反転用絶縁層４の上層にある表層金属層５と、表層金属層５の上層にある保護膜層６と、を備える。また、位相反転用絶縁層４は、その屈折率をｎ、対象波長の波長をλとしたときに、略λ／４ｎとなる膜厚に成膜され、表層金属層５は、シート抵抗が略１００〜４５０Ω／□となる膜厚に成膜される。この構成によれば、遮光用金属膜３の表面に入射した光の一部を、位相反転用絶縁層４の表面と遮光用金属膜３の表面との間で、位相反転させながら繰り返し再反射させて消衰させることにより、高い反射防止効果を実現できる。 （もっと読む）

【課題】光学的性質を劣化させずに長期間に渡って帯電防止効果を保つことができるとともに耐薬品性に優れる光学多層膜フィルターと、該フィルターを簡便に製造する光学多層膜フィルターの製造方法を提供すること。
【解決手段】光学多層膜フィルター１０は、ガラス基板１と、ガラス基板１の上面に複数層の光学薄膜２と、防汚層３と、を備えて構成される。光学薄膜２は、ガラス基板１側から高屈折率層２Ｈ１がまず積層され、積層された高屈折率層２Ｈ１の上面に低屈折率層２Ｌ１が積層され、以下、高屈折率層、低屈折率層が順次、交互に積層され、低屈折率層２Ｌ３０と高屈折率層２Ｈ３０との間にa−Ｓｉ層２１が積層され、高屈折率層と低屈折率層とが各々３０層とa−Ｓｉ層２１との計６１層の光学薄膜２を形成している。 （もっと読む）

【課題】透過率が高く、耐環境性に優れた赤外用の光学部品を提供する。
【解決手段】基板２と赤外反射防止膜３とからなる光学部品１。前記基板２は、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ及びＧａＡｓのいずれかからなる。前記赤外反射防止膜３は、前記基板２の少なくとも一面に形成されているとともに、当該基板側から、内層４、中間層５及び外層６がこの順に積層された積層体からなっている。また、前記内層４はフッ化物膜からなり、前記中間層５は、ＺｎＳｅ膜、ＺｎＳ膜及びＧａＡｓ膜のいずれかからなり、且つ、前記外層６はＤＬＣ膜からなる。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法によって光学面の表面に所定膜厚の反射防止膜を確実に形成することのできる光学素子アレイ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体材料からなる基板２の少なくとも一面に複数の光学面３を形成し、光学面３の形成された基板２を熱酸化または熱酸窒化処理することにより、基板２の両面に酸化膜または酸窒化膜４を形成する。また、基板２の酸化膜または酸窒化膜４は、屈折率をｎ、膜厚をｄ、透過させる光の波長をλとすると、ｎｄ＝λ／４の関係を満たすように形成される。 （もっと読む）

【課題】透過率の高い反射防止膜、及び反射防止膜の製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明にかかる反射防止膜は、基板１上に形成された第１の酸化シリコン膜２と、第１の酸化シリコン膜２上に形成された６ｎｍ乃至１４ｎｍの膜厚を有するポリシリコン膜３と、ポリシリコン膜３上に形成された第２の酸化シリコン膜４と、を有する。
また、本発明にかかる反射防止膜は、基板１上に第１の酸化シリコン膜２を形成し、第１の酸化シリコン膜２上に６ｎｍ乃至１４ｎｍの膜厚を有するポリシリコン膜３を形成し、ポリシリコン膜３上に第２の酸化シリコン膜４を形成することで製造することができる。 （もっと読む）

【課題】接合する光学部品と異なる屈折率を有する接合膜を有し、この接合膜を介して２つの光学部品同士を高い寸法精度で強固に接合したことによって、耐光性および光学特性に優れた光学素子、およびかかる光学素子を容易に製造可能な光学素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】積層光学素子５は、第１の光学部品２および第２の光学部品４を用意し、第１の光学部品２の表面上に、プラズマ重合法により、接合膜３を成膜する第１の工程と、接合膜３をプラズマに曝すことにより、接合膜３にエネルギーを付与し、接着性を発現させる第２の工程と、接合膜３を介して第１の光学部品２と第２の光学部品４とを接合し、積層光学素子５を得る第３の工程とを経て製造されたものであり、プラズマ重合法における成膜条件を調整することにより、接合膜３の屈折率が各光学部品２、４の屈折率と０．０１以上異なる値になるようにすることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は単にファンデルワールス力ではなく、４ｅＶ≦の結合エネルギーによって化学的に結合された気密接着被覆を表面に有する単結晶アルカリ土類金属フッ化物光学素子に関するものである。光学素子に被覆を施す材料はＳｉＯ_２、Ｆ−ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｆ−Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯＮ、ＨｆＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、及びこれ等のうちの（任意の）混合物、例えば、ＳｉＯ_２ＪＨｆＯ_２及びＦ−ＳｉＯ_２/ＺｒＯ_２から成る群より選択される。光学素子に使用される好ましいアルカリ土類金属フッ化物はＣａＦ_２であり、好ましい被覆はＳｉＯ_２、Ｆ−ＳｉＯ_２、ＳｉＯ_２/ＺｒＯ_２及びＦ−ＳｉＯ_２/ＺｒＯ_２である。
（もっと読む）

【課題】光学素子の表面形状に依存することなく、しかも低コスト、小電力でしかも短時間で、光学素子表面に形成されたナノオーダの凹凸をエッチングして平滑化する。
【解決手段】光学素子２の表面を所定の溶質分子を含む液体表面へ向けて近接させつつ、光学素子２に対して溶質分子の吸収端波長以上の光を照射し、光学素子２の表面が液体表面へほぼ接触した時において、照射した光に応じて光学素子２表面に形成された凹凸における少なくとも角部に発生させた近接場光に基づいて溶質分子を解離させてエッチングすることを特徴とする。 （もっと読む）