【課題】ＣＭＰ装置を用いずに塗布膜を平坦化する。
【解決手段】基板処理システム１には，加熱炉において硬化される前に塗布絶縁膜Ａを硬化する平坦化装置１８が設けられる。平坦化装置１８には，ウェハＷを保持して回転させるスピンチャック７１や，ウェハＷ上の塗布絶縁膜Ａに押し付けて塗布絶縁膜Ａの表面を削るブラシ１０１，ブラシ１０１をウェハＷの表面に沿って移動させる第１のアーム８１，ウェハＷの表面に加工液を供給する加工液供給ノズル１１０などが設けられる。硬化前の柔らかい状態の塗布絶縁膜Ａを有するウェハＷが平坦化装置１８に搬送され，ブラシ１０１を塗布絶縁膜Ａに押し当てて当該塗布絶縁膜Ａの表面に沿って移動させることにより，塗布絶縁膜Ａを所定の膜厚に平坦化できる。 （もっと読む）

【課題】基板の裏面の汚染に起因するパターン不良を防止できる基板処理装置を提供することである。
【解決手段】基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を備える。インターフェースブロック１５に隣接するように露光装置１６が配置される。インターフェースブロック１５は、裏面洗浄処理ユニットＲＳＷを含む。裏面洗浄処理ユニットＲＳＷにおいて、露光処理前に基板Ｗの裏面が洗浄される。 （もっと読む）

円筒部材の保守装置は、網状のスチールケーブル等の円筒部材（１３）の周囲を閉じるための２つのヒンジで連結されている半ハウジング（１１、１２）から成るハウジング（１０）を備えている。回転螺旋ブラシアセンブリ（２１）及び回転縦ブラシアセンブリ（２２）がハウジング内に配置されており、ハウジングの軸を中心として回転可能である。各回転ブラシアセンブリは、同軸の分割リング（２３、２６）を備え、分割リングの間には、回転円筒ワイヤブラシ（２５、２８）が接続され、それ自体の軸を中心として独立して回転可能である。ノズル（２９）は、円筒部材に洗浄液又はペンキを吹き付けるために、ハウジング内部に配置されている。ハウジングの開口部（３２）は、環境汚染を避けるために、破片、洗浄液、及びペンキを除去するための吸引装置に接続するためのものである。ハウジング上のループ（１８）は、ハウジングを円筒部材に沿って動かすためにケーブルに取り付けるためのものである。
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【課題】口部に付着した錆の除去に適した容器の口部洗浄装置を提供する。
【解決手段】壜１００をその壜軸線ＣＬ１の回りに回転駆動する壜回転機構１０と、壜回転機構１０にて回転駆動される壜１００の壜軸線ＣＬ１と平行なブラシ軸線ＣＬ２を有し、砥粒を含んだ外周部が壜１００の口部１０１と対向するように配置された円盤状のブラシ１１、１２と、ブラシ１１、１２をブラシ軸線ＣＬ２の回りに回転駆動するブラシ回転機構１３と、口部１０１に対してブラシ１１、１２の外周部を押し付けるブラシ押し付け機構１４とを口部洗浄装置１に設ける。 （もっと読む）

【課題】マスク基板や半導体ウエーハ等の基板をブラシで洗浄する際、ブラシ自体を劣化させずに清浄な状態で洗浄し、それにより基板を清浄な状態で洗浄することができる基板の洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板８を保持するための基板保持手段３と、基板を洗浄するためのブラシ４と、ブラシを駆動させるためのブラシ駆動手段５と、基板保持手段により保持された基板又はブラシに対して洗浄液を供給するための洗浄液供給手段６と、ブラシを洗浄するためのブラシ洗浄手段９とを備え、ブラシ洗浄手段が、ブラシを収容し、該ブラシを押し当てて洗浄するためのブラシ洗浄板が設けられたブラシ洗浄槽１０と、ブラシ洗浄槽にブラシ用の洗浄液を供給するためのブラシ洗浄液供給手段１３と、ブラシ洗浄槽に対して超音波を印加してブラシ洗浄板を洗浄するための超音波印加手段１６とを有することを特徴とする基板洗浄装置１。 （もっと読む）

【課題】ワークに付着したゴミを確実に除去でき、設置場所を選ばないコンパクトな清掃装置を提供する。
【解決手段】対向的に配置される清掃ローラ４ａ〜４ｃを有する清掃ユニット３をベース２に回動自在に取り付け、ワークＷを垂直方向に搬送して、ワークＷに付着したゴミを除去する。 （もっと読む）

【課題】 基板を回転させながら該基板を洗浄処理する際に、基板を汚染させることなく良好に洗浄処理することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 保持ピンの当接部１０２の高さ位置を第２高さ位置Ｐ２に位置決めして、保持ピンにより未処理基板Ｗの表面Ｗｆを下方に向けたフェースダウン姿勢で保持しながら、基板Ｗの裏面Ｗｂを上面洗浄ブラシ３１で基板Ｗを回転させながら洗浄処理する。続いて、保持ピンの当接部１０２の高さ位置を第３高さ位置Ｐ３に位置決めして、基板Ｗを第１高さ位置Ｐ１で支持ピン６により支持するとともに、遮断板５を処理位置ＰＬに位置決めして遮断板５の対向面５ａと基板Ｗとの間に形成される空間ＳＰに窒素ガスを供給することで基板Ｗを支持ピン６に押圧保持させる。このように基板Ｗを保持した状態で基板Ｗを回転させて基板Ｗの端面を端面洗浄ブラシ４１で洗浄処理する。 （もっと読む）

【課題】ブラシ洗浄部材を用いて洗浄ブラシのブラシ部を確実に洗浄処理できるとともに、ブラシ洗浄部材からブラシ部への異物の再付着を、容易に軽減する構成を有する電気光学装置の製造装置を提供する。
【解決手段】ＴＦＴ基板１１０を洗浄処理後の洗浄ブラシ１３のブラシ部１６に付着、蓄積した異物を、ブラシ洗浄部材３０を用いてブラシ部１６から除去することにより、ブラシ部１６を洗浄処理する製造装置１であって、ブラシ洗浄部材３０は、ブラシ部１６が接触される、台座３１から起立するとともに、台座３１の台座面の面方向に延在する棒状部材から形成された突起部３２を有し、該突起部３２のみにブラシ部１６が接触されることにより、異物がブラシ部１６から除去されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】同じチャンバー内で、特に、マスク基板の端面全体、及び、ペリクルが貼り付けられていた領域も確実に洗浄することができるマスク基板用の洗浄装置を提供する。
【解決手段】チャンバー２と、該チャンバー内に、少なくとも、前記マスク基板５を支持して回転可能な基板支持手段３と、該基板支持手段により支持された基板に対して洗浄液を供給する基板洗浄液供給手段６，７と、前記基板支持手段により支持された基板の上面５ａ及び端面５ｂに対して回転しながら又は回転せずに摺接可能な洗浄ブラシ８と、前記チャンバーから洗浄液の廃液を排出するための廃液口１０とを備え、前記基板支持手段は、前記マスク基板５の周囲を支持する複数の支持ピン４を有し、該支持ピンにより支持されている基板を該支持ピンに対して相対的に回転させ、該基板の周囲を他の位置で支持し直すことができるものであることを特徴とするマスク基板用の洗浄装置１。 （もっと読む）

【課題】交換を要することなく洗浄範囲を変更することができ、洗浄強さの設定も容易な基板洗浄ブラシ、ならびにこれを用いた基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板洗浄ブラシ１０ａは、基板Ｗの端面８に押し当てられる端面洗浄面１５を含む端面洗浄部１６と、この端面洗浄部１６に結合され、基板Ｗの主面１７の周縁部９に押し当てられる周縁洗浄面１８を含む周縁洗浄部１９とを備える。周縁洗浄部１９は、端面洗浄面１５から第１の距離Ｄ１だけ張り出した第１周縁洗浄面２１を有する第１部分２２と、端面洗浄面１５から第１の距離Ｄ１とは異なる第２の距離Ｄ２だけ張り出した第２周縁洗浄面２３を有する第２部分２４とを含む。
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【課題】デジタルカメラのセンサ表面などの繊細な表面の清掃において、ごみの粒子を取り除くために使用する清掃用具を提供する。
【解決手段】選択的に作動される清掃用アクチュエータと、清掃用アクチュエータと結合した、複数の毛を有する清掃用部材とを備える清掃用具である。複数の毛は、高い静電気蓄積能力を備えるものである。清掃用アクチュエータは、清掃用部材を動作させるために作動させることができ、それにより毛を静電的に帯電させるのと同時に、ごみが毛から除去されるようにする。 （もっと読む）

【課題】基板洗浄用部材のクリーニング効果を向上させるクリーニング方法及び基板洗浄装置の提供。
【解決手段】洗浄液は，多孔部材７２の細孔，及び，基板洗浄用スポンジ６２の細孔を通過して，接触面６２ａに染み出，基板洗浄用スポンジ６２の内側から外側に洗浄液が流出して，基板洗浄用スポンジ６２が洗浄液を含んで濡らされると共に，洗浄液がウェハＷに供給される。基板洗浄用スポンジ６２の下面部分の厚さを薄く形成すると，基板洗浄用スポンジ６２のクリーニング時に，下面部分を通過する洗浄液の流速を効果的に速くすることができ，クリーニング効果が向上する。基板洗浄用スポンジ６２の下面部分は硬質の多孔部材７２によって補強されているので，下面部分を薄くしても，下面部分が過剰に変形したり破損したりすることを防止でき，ウェハＷに対して適度な接触圧を与え，ウェハＷを好適に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】 簡単な機構で押圧荷重を精密に制御可能な基板洗浄装置の実現。
【解決手段】 基板を保持して回転する基板保持・回転機構11-18と、洗浄ブラシ21を保持して回転するブラシ保持・回転機構22-26と、ブラシ保持・回転機構を、基板保持・回転機構に保持された基板に押圧すると共に垂直な方向に変位させる押圧機構27-32とを備える基板洗浄装置において、押圧機構はエアバッグ31を備え、エアバッグを介して押圧する。 （もっと読む）

【課題】基板の表面や裏面だけでなくベベルも良好に洗浄することができて、基板のベベル部に付着したパーティクルや汚染物質を除去し汚染を低減する。
【解決手段】本発明は、外周領域にベベルが形成された基板１を保持する最低３つ以上のブラシ２Ａ，２Ｂ、３Ａ，３Ｂ、４Ａ，４Ｂからなる保持部と、少なくとも一つ以上の保持部を自転させる駆動部５、６、７とを備えている。ブラシ２Ａ，２Ｂ、３Ａ，３Ｂ、４Ａ，４Ｂの表面にはベベルの幅より大きい深さの溝が形成されており、基板１を脱落させること無く保持することができる。更に、基板１を保持した状態で保持部を自転させることにより基板１を自転させることが可能となり、そこへ純水や薬液を供給する事によって、保持部のブラシ２Ａ，２Ｂ、３Ａ，３Ｂ、４Ａ，４Ｂによりベベルを均一且つ清浄に洗浄することができる基板洗浄装置及び基板洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】ねじ孔の清掃を的確に行うことができるものとする。
【解決手段】軸回りに毛束を螺旋状に配したブラシ体３３と、このブラシ体３３を軸回りに回転させるとともに軸方向に送る駆動手段とからなり、ブラシ体が差し込まれるねじ孔の雌ねじのピッチと上記ブラシ体３３の螺旋ピッチとが異なるものとされ、上記駆動手段によるブラシ体の１回転中の軸方向送り量が上記雌ねじのピッチと一致している。雌ねじの谷部に位置する切り粉や粉塵を雌ねじの螺旋に添ってブラシ体３３が掻き出す。 （もっと読む）

【課題】本発明は、接着剤を用いずにスポンジブラシ部をホルダもしくはシャフトに取付け固定して、接着剤による影響を無くし、高純度で高精度の洗浄を可能としたスポンジブラシ洗浄具を提供する。
【解決手段】フランジ部３にボス部４を一体に連設してなるホルダ１と、このホルダのフランジ部に取付けられるスポンジブラシ部２とを備えたディスクブラシ状のスポンジブラシ洗浄具Ｓａにおいて、上記ホルダを構成するフランジ部に、埋設部材５である複数本のハンドルバー８が溶接等の、接着を除く手段で取付け固定され、上記ハンドルバーはスポンジブラシ部内に埋設される。 （もっと読む）

【課題】 簡単に容器側面に付着した液体や粉体を除去し、清浄化するための装置を提供すること。
【解決手段】 容器を搬送する平面状コンベア、当該コンベア面の上に僅かな空間を開けて設けられた、同方向に回転し、かつ平面状コンベアの移動方向と直交する方向に相対して移動し、容器を挟み込む２つの挟込縦型回転体、当該挟込縦型回転体の移動と連動して容器と接触するように移動し、容器周囲を擦る擦過縦型回転体を含む容器側面の清浄化装置。 （もっと読む）

【課題】基板表面の異物をより確実に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】この基板処理装置は、ウエハＷを保持して回転させるスピンチャック１と、ウエハＷに処理液を供給する処理液ノズル２と、ウエハＷをスクラブするスクラブブラシ３と、このスクラブブラシ３を移動させるノズル移動機構４と、待機ポット５とを備えている。スクラブブラシ３によってウエハＷの異物を除去するためのスクラブ処理をしていない待機時には、スクラブブラシ３は待機ポット５で待機させられる。待機ポット５には、アルカリ性液体としてのアンモニア水が供給されており、その内部にはアルカリ性液体貯留部が設けられている。このアルカリ性液体貯留部に貯留されたアンモニア水の揮発によりアンモニアガスが発生し、このアンモニアガスが待機状態のスクラブブラシ３に供給される。 （もっと読む）

【課題】様々な構造の電池ケースの−電極端子と＋電極端子とを清掃し、錆（酸化）、又は埃の付着などによる接触不良を防止する乾電池型クリーナを提供する。
【解決手段】−電極対応部１９、つまりケーシング１０の底面は、弾性体で形成されている。乾電池型クリーナ１を電池ケース２にセットすると、電池ケース２の＋電極端子４および−電極端子５に乾電池型クリーナ１の＋電極対応部１８および−電極対応部１９が接触することにより、ケーシング１０の−電極対応部１９が図３において下方から押圧される。−電極対応部１９が押下し凹んだ形状となると、導体部２０と接点部２１とが当接し、スイッチ部２２は電源回路１５をオンする。電源回路１５がオンされると、モータ１２が駆動し、硬質スポンジ１１が回転する。 （もっと読む）

【課題】基板の表裏両面の好適な洗浄を可能とする。
【解決手段】ベース部材２に設けられた保持部材６によってベース部材２と基板Ｗとが離間された状態で基板Ｗの周縁部が保持され、保持部材６に保持された基板Ｗの面のうち、ベース部材２に向く側の第１洗浄面ＷＦ１を洗浄するための第１洗浄ブラシ２１は、第１洗浄具支持アーム２２によって、基板Ｗとベース部材２との間に第１洗浄面ＷＦ１に沿って移動可能に配置支持される。回転モーター１１によってベース部材２に連結された中空状の回転軸９を介して基板保持機構１及びそれに保持された基板Ｗを回転させながら、回転モーター１６による移動動力によって、第１洗浄面ＷＦ１に沿って第１洗浄ブラシ２１を移動させ、第１洗浄ブラシ２１により基板Ｗの第１洗浄面ＷＦ１を洗浄する。 （もっと読む）