説明

Fターム[3B116BA13]の内容

清浄化一般 (18,637) | 機械的清浄手段 (3,105) | 摺接方式 (1,091) | 回転式 (681) | 縦回転 (116)

Fターム[3B116BA13]に分類される特許

41 - 60 / 116


【課題】X線センサのX線入射面に付着している又は付着し得る、水滴や塵等の環境を、生産ラインを長時間停止させることなく除去することが可能な、X線検査装置を得る。
【解決手段】X線検査装置1は、検査対象である物品50にX線を照射し、物品を透過したX線を検出することにより、物品50に対する検査を実行するX線検査装置であって、X線照射部4と、ラインセンサ6を有するX線検出部5と、ラインセンサ6に近接して配置され、ラインセンサ6のX線入射面6Aに付着している又は付着し得る環境を、ラインセンサ6の長手方向に関して同時に除去するスクレパー10とを備える。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、水道管路の枝管部内面に付着した錆を、複雑な構成の装置を使用することなく簡単に除去し、かつ外部へ排出することを目的とする。
【解決手段】 先端に除去刃2を一体化したパイプ軸1と、前記パイプ軸1の外面に穿設された排水口3からなる枝管部清掃装置であって、前記パイプ軸1に外嵌する接続部材4によって枝管部pへ止水状態で取り付け、前記パイプ軸1後端部の操作ハンドル5を回転しながら下降することによって枝管部p内面の錆を破砕し、その後、前記排水口3を開いて錆を外部へ排出するものである。従来のような清掃手段と錆排出手段を別体としたものより、著しく操作性が向上する。 (もっと読む)


【課題】この発明は基板の端面を確実に洗浄することができるようにした洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】所定方向に搬送される基板の搬送方向と交差する方向の端面を洗浄する洗浄装置であって、
回転軸線を基板の板面と直交させて配置され基板の端面の厚さ方向全長にわたって接触する第1のブラシ毛23bを有する上部洗浄ブラシ23と、回転軸線を上部洗浄ブラシと同じにして配置され第1のブラシ毛と同じ位置で第1のブラシ毛間に入り込んで基板の端面の厚さ方向全長にわたって接触する第2のブラシ毛24bを有する下部洗浄ブラシ24と、上部洗浄ブラシと下部洗浄ブラシを逆方向に回転駆動させて第1のブラシ毛と第2のブラシ毛とで基板の端面を洗浄させる差動歯車機構34を具備する。 (もっと読む)


【課題】洗浄処理時に外方に飛散する洗浄液によるミストの発生を抑制し、基板への再付着の防止を図れるようにした基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】半導体ウエハWを水平に保持し、鉛直軸回りに回転するスピンチャック20と、鉛直軸回りに回転可能な洗浄部材30と、洗浄部材を鉛直軸回りに回転するサーボモータ39と、洗浄部材をウエハの被洗浄面に沿って移動させる移動機構63と、を具備する基板洗浄装置において、洗浄部材は、ベース部32にスポンジ状の洗浄基部31を接合してなり、ベース部及び洗浄基部の中心部に、洗浄液供給源に接続する吐出口33を設け、洗浄基部の表面に、基端が洗浄液吐出口に連通すると共に、先端が洗浄部材の外周縁部手前まで延びる複数の連通溝35を設け、ベース部における連通溝が位置する部位に、連通溝と連通する排出孔36を設ける。 (もっと読む)


本発明は、溝、接合部、凹凸、及び/又は孔を備えた表面を水平及び/又は垂直洗浄する機械用のブラシ(10)に関する。この機械は前記表面にほぼ平行な面で前記ブラシ(10)を移動させるように設けられている。前記ブラシ(10)は、前記溝、接合部、凹凸、及び/又は孔の間に延びる表面の部分を洗浄又は磨くための少なくとも1組の第1毛部(1)と、前記溝、接合部、凹凸、及び/又は孔を洗浄するための少なくとも1組の第2毛部とを備えている。前記第1、第2毛部(1,2)は洗浄面を形成し、この洗浄面で前記第2毛部(2)は前記第1毛部(1)に対して突出している。前記ブラシ(10)はベース板(4)を有し、前記ベース板(4)は、前記1又は複数組の第2毛部(2)が設けられた1又は複数のブラシ部(5)に、1又は複数のボルト又はねじ接合により解放可能に取り付けられるように設けられている。 (もっと読む)


【課題】能率的に貼付されているラベルを除去できる手段を提供する。
【解決手段】適宜形状のケース上部に天板を設け、該天板上面適所に切除部を設けるとともに、該切除部上縁よりその外周の一部を突出させてフラップホイールを回転可能に位置させ、該フラップホイールを駆動させるための駆動源と該駆動源からの動力をフラップホイールに伝達するための伝達機構を設けたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ブラシの寿命を長くした洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板Wを保持する保持機構10と、基板Wを洗浄可能な洗浄ブラシ21とを備え、保持機構10に保持された基板Wに洗浄ブラシ21を当接させながら相対回転させて基板Wを洗浄するように構成された洗浄装置1において、洗浄ブラシ21を洗浄するブラシ洗浄器50を有し、このブラシ洗浄器50は、洗浄ブラシ21の表面電位を変化させて、洗浄ブラシ21の表面電位および当該洗浄ブラシ21に付着した異物の表面電位を互いに正負が同じ表面電位にすることにより、洗浄ブラシ21から異物を分離して除去するようになっている。 (もっと読む)


【課題】被洗浄面に洗浄残りが発生することがなく、ブラシロールの回転方向に限定されることなく、長期間に亘り、効率よく確実に異物等の対象物を除去する高い洗浄性能を有するブラシロール、及びそのブラシロールを搭載した洗浄装置を提供する。
【解決手段】ブラシロール1は、略棒状又は円筒状の回転軸3と、前記回転軸3の外周に螺旋状に巻き付けられたブラシ部2を有し、前記ブラシ部2は断面略U字状の帯状体6と、前記帯状体6で芯線7と共に挟持されるブラシ毛材8とで構成されたチャンネルブラシ5からなるブラシ体4a、4b、4cが3本以上並列に設けられてあると共に、前記回転軸3の外周に螺旋状に巻き回されて形成されてあり、前記ブラシ体4a、4b、4cは前記回転軸3の軸心C.L.の垂線P.L.にたいして45°以下の傾斜角度θを有すると共に、前記回転軸3の外周に固定手段10にて固定して形成されてあるものである。 (もっと読む)


【課題】搬送路上を移動する対象物の上面をクリーニングする工程を比較的簡易な機構で自動化し、生産性の向上を図る。
【解決手段】ガイド部4a,4bは、搬送路2上の幅方向における湿式充填品3の変位を規制する。クリーニングベルト5cは、主動ローラ5aと、従動ローラ5bとの間に巻回され、搬送路2の幅方向に延在している。クリーニングベルト5cは、搬送路2上を移動する湿式充填品3の上面と当接する凹凸状のクリーニング面5dを有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は上記実情に鑑み、洗浄効率の向上と共に、操作性及び洗浄性能の向上を図り得る洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄対象面72に当接させる二つのブラシ9を各別に有する二つのブラシ駆動機構3を備え、夫々のブラシ駆動機構3が、回転駆動部8と、ブラシ9と、当該ブラシ9が回転駆動部8の回転軸心の周りに自転を伴わず公転のみを行うよう、回転駆動部8の回転運動をブラシ9に伝達する駆動伝達機構とを備えると共に、二つのブラシ駆動機構3を各別に保持する二つの保持部4と、当該二つの保持部4をそれらの相対角度を変更可能に枢支し、作業用のハンドル6を取付けた装置本体2とを備えた。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の表面の洗浄性能が高く、耐久寿命が長いガラス基板用洗浄工具を提供する。
【解決手段】洗浄工具10の砥石片16は、マトリクスとしての母体樹脂24と、その母体樹脂24よりも硬く且つガラス基板42よりも低強度のフィラー( 薄片状シリカ、マイカ)22とを含むことから、洗浄に際して砥石片16によりガラス基板42を傷つけることなく、ガラス基板42の表面に付着した封止樹脂が好適に削除されるとともに、ガラス基板42の表面に付着したガラスカレットが好適に弾き飛ばされるので、ガラス基板42の表面における高い洗浄性能と長い耐久寿命とが得られる。 (もっと読む)


【課題】基板の端部の必要な部分を効果的に清浄にすることが可能な基板洗浄装置およびそれを備えた基板処理装置を提供することである。
【解決手段】洗浄ブラシ531は、鉛直方向に延びるブラシ軸540を有する。ブラシ軸540の外周面を覆うように円筒状の緩衝部材542が取り付けられ、緩衝部材542の外周面を覆うように円筒状の洗浄部材543が取り付けられている。緩衝部材542および洗浄部材543の下端部はブラシプレート541に固定されている。ブラシプレート541上における洗浄部材543の外側の領域には、環状の洗浄部材544が取り付けられている。本実施の形態では、洗浄部材543として比較的硬質で柔軟性が低い材料が用いられ、緩衝部材542および洗浄部材544として比較的軟質で柔軟性が高い材料が用いられる。 (もっと読む)


【課題】装置構成を簡略化しつつ、洗浄性能を向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Wを水平姿勢で保持する基板保持部1と、基板Wに接触して基板Wを洗浄する洗浄ブラシ7と、洗浄ブラシ7の側方に設けられ、処理液の液滴をキャリアガスとともに基板に噴射して基板を洗浄する二流体ノズル9と、洗浄ブラシ7と二流体ノズル9とを保持する保持アーム5と、この保持アーム5に連結して設けられ、基板W面に沿って洗浄ブラシ7と二流体ノズル9とを移動させる単一のアーム移動機構と、を備えている。このように構成される基板処理装置によれば、洗浄ブラシ7と二流体ノズル9を移動させる単一のアーム移動機構を備えているので、装置構成を簡略化しつつ、洗浄性能が一層向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】ガードレール表面を清掃して再塗装する場合に、塗装面を美しく仕上げることのできるガードレール清掃塗装装置を提供する。
【解決手段】ガードレール300に沿って移動しながらガードレール300表面の清掃及び塗装を行うガードレール清掃塗装装置100であって、ガードレール300表面から汚れを剥離させる剥離手段10と、剥離手段10により剥離された汚れを拭き取る拭き取り手段20と、拭き取り手段20により汚れが拭き取られたガードレール300表面を塗装する塗装手段30とを有する。 (もっと読む)


【課題】ブラシの内部に染み込んだ異物を確実に除去できる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、ウエハを洗浄するためのスポンジブラシ18と、このスポンジブラシ18を所定の処理位置と所定の待機位置との間で移動させる移動手段とを備えている。スポンジブラシ18は、前記待機位置で待機ポッド25内に収容される。移動手段は、待機ポッド25内でスポンジブラシ18に洗浄液が供給されている状態で、スポンジブラシ18を受け部43に押し付けてスポンジブラシ18を圧縮させる圧縮動作、およびスポンジブラシ18を受け部43から離反させてスポンジブラシ18を自身の復元力により復元伸長させる伸長動作を交互に行うように制御される。 (もっと読む)


【課題】洗浄槽の洗浄液ミストを効率良く排気し、且つ、洗浄槽のメンテナンススペースを十分確保できる洗浄槽排気装置を提供することにある。
【解決手段】洗浄槽排気装置は、1つ以上の洗浄槽10−1、2を覆う各上蓋20−1、2と、洗浄液のミスト66を誘導する集合ダクト30と、洗浄液のミスト66を吸引、排気する吸引排気部40とを具備し、各上蓋20−1、2は、それぞれ中空箱型の構造を成し、各上蓋20−1、2の下面は複数の吸気口22を有し、側面の1つは集合ダクトと接続される通気口24を有し、集合ダクト30は、各上蓋20−1、2の通気口24と接続される1つ以上のダクト入口32と、吸引排気部40に接続されるダクト出口34とを有する。 (もっと読む)


【課題】耐薬品性があり、軽量で、撓みが極めて少なく、液晶表示パネルなどの基板を好適に洗浄することのできるブラシロールシャフト及び搬送用ロールシャフトを提供する。
【解決手段】炭素繊維強化プラスチックで形成した円筒状の芯材2の軸線方向両端に、金属製の支軸10を取り付け、芯材2の外周面と、芯材2の軸線方向端部に隣接する支軸10の外周面の少なくとも一部を被覆するようにしてPVC熱収縮管3を熱収縮させる。 (もっと読む)


【課題】通過する被清掃体の表裏両面に対して、それぞれ精密に調整された適正な進入量で除電清掃を行える除電清掃装置を提供する。
【解決手段】回転して被清掃材Pの上面を除電清掃するブラシ部材B1の下流側に回転して被清掃材Pの下面を除電清掃するブラシ部材B2を配置する。被清掃材Pは、上流側の搬送ローラ11、13と下流側の搬送ローラ12、14とによって挟持搬送されてブラシB1、B2を通過する。ブラシ部材B1、B2によって被清掃材から分離されたゴミは、ブラシ部材B1、B2を覆って配置したカバー部材D1、D2を通じて吸引される。被清掃材Pに対する摺擦の進入量の調整機構を設けたブラシB1に対向させて、搬送ローラ11、12と同一直径で同一中心高さの支持ローラ17を設けた。 (もっと読む)


【課題】基板の表面のデバイス形成領域に処理液による悪影響を与えることなく、基板の周縁部から汚染を良好に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】ブラシ11に関連して、処理液を吸引するための吸引ノズル70が設けられている。吸引ノズル70の先端部は、第1接触面32と第2接触面33との境界部分34に対向する先端面72と、第1接触面32および第2接触面33と当接する当接面73とを有している。先端面72には、吸引口74が形成されている。吸引ノズル70に接続された吸引管76は、処理室2の外部へ延びており、その先端は、真空発生装置60に接続されている。真空発生装置60が駆動されると、ブラシ11の内部に含まれる処理液は吸引口74に吸引され、ブラシ11の内部に吸引口74に向かう処理液の流れが形成される。 (もっと読む)


【課題】ブラシの交換時期を適切に判断することができる、基板処理装置を提供する。
【解決手段】ウエハWの裏面の周縁領域14および周端面15に対する裏面洗浄処理時には、ブラシ16は、裏面処理時位置に配置され、スピンチャック3に保持されたウエハWの周縁部に対して押し込まれる。そして、その状態が所定時間にわたって維持された後、ブラシ16は、ウエハWから離間される。一方、ブラシに加わる荷重が圧力センサにより検出され、その検出される荷重に基づいて、制御部により、ブラシ16が裏面側処理時位置に配置されたか否かが判断される。そして、ブラシ16が裏面側処理時位置に配置されたと判断された時点からブラシ16がウエハWからの離間のために移動し始めるまでの時間が計測され、その時間がメモリに累積して記憶される。 (もっと読む)


41 - 60 / 116