【課題】フォトマスクの大型化に伴う撓みによる洗浄ムラを解消した、とくにフォトマスクの中心部付近と外周部において均一な洗浄効果が得られる洗浄ブラシを用いた回転式フォトマスク洗浄装置の提供。
【解決手段】フォトマスクを洗浄する装置であって、少なくともフォトマスク保持部と、フォトマスクを保持しつつ回転させる回転機構と、回転機構制御部と、アームに取り付けられた回転ブラシ部と、回転ブラシ位置制御部を具備していることを特徴とするフォトマスク洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】 浴槽の内壁を手作業で洗浄する時、洗浄機本体の移動時における移動操作を自在なものとして、その自由度を向上させることができる。また、洗浄機本体の支持アームを簡単な構造で形成して簡素化すると共に、この支持アームを湾曲鋼帯により形成することで、支持強度を増強させることができる浴槽洗浄機を提供する。
【解決手段】 洗浄機本体１のハウジング６の前面外部に突出させて浴槽の内壁を洗浄する回転自在な回転ブラシ２と、この回転ブラシ２を前記ハウジング６の内部に固設して回転駆動するモータ３と、前記ハウジング２の背面後方に突出させて洗浄機本体１を把持移動させる把持柄４と、前記ハウジング２の下端面より下方に突出させて洗浄機本体１の重さを支持する支持アーム５とを有する浴槽洗浄機において、前記支持アーム５は、長手縦方向を湾曲する湾曲鋼帯により屈曲補強して形成すると共に、前記把持柄４の内部に収納するように構成されていることを特徴とする浴槽洗浄機。 （もっと読む）

【課題】 基板の周端部の傾斜部を含めて確実に洗浄や研磨の処理を実施することができるばかりか支持手段も複雑でなく自身の耐久性にも優れた処理手段を有する基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板を支持する基板支持手段と、所定の径を有するとともに先端に形成した中心に凹部を形成する平面を処理部としたＰＶＡスポンジからなる処理手段と、基板支持手段に支持させた基板の軸線に対してその処理手段をその軸線が直角になるように処理部を基板の周縁部に向けて所定位置に支持する処理手段の支持手段と、処理手段の支持手段に付設されて処理手段の回転手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】 バケツやこれに近似した容器に付着している汚れをブラシローラにより洗浄する際に、効率よく洗浄液を供給する洗浄装置を提供すること。
【解決手段】 洗浄装置１は、一円筒形状の周囲と頭頂部にブラシを有し、鉛直方向に配置された回転軸の軸中に頭頂部へ水を案内する通路を有する内周洗浄用のブラシローラ２０と、鉛直な回転軸を有する一対の外周洗浄用ブラシローラ３０、４０を有している。ブラシローラ３０、４０を相反する方向へ回転され、ブラシローラ２０の回転軸をブラシローラ３０、４０に対して近接離間可能に支持する腕部材２７とが設けられている。 （もっと読む）

【課題】タンクから供給ローラ、回転軸及び軸受けを介して洗浄液が漏れることがない洗浄機を提供する。
【解決手段】洗浄液が注入された有底無蓋のタンクと、回転軸が水平で洗浄液に浸るように配置された供給ローラと、供給ローラの真上に平行、かつ接触するように配置され、回転軸が回転駆動される洗浄ローラと、を備え、供給ローラと洗浄ローラとの間で板状部材を洗浄する洗浄機において、洗浄ローラの回転軸の洗浄ローラの両端近傍に設けられた円盤状の洗浄ローラ側仕切り板と、供給ローラの回転軸の供給ローラの両端近傍に洗浄ローラ側仕切り板の外側と洗浄液に接触するように設けられた円盤状の供給ローラ側仕切り板と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 浴槽の内壁を洗浄する時、装置本体を浴槽内の何れの位置に配置しても、装置本体の移動時における移動操作を自在なものとして、その作業性を向上することができる。また、保持アームの構成を簡素化して、コスト面で抑制するとともに、その構成の耐久性を向上させることができる浴槽洗浄機を提供する。
【解決手段】 装置本体１を浴槽の内壁に押圧して洗浄する洗浄ブラシ２と、この洗浄ブラシ２を回転駆動する駆動手段３と、装置本体１を定荷重で保持する保持アーム４と、装置本体１を把持して移動させる把持柄５とを有する浴槽洗浄機において、前記保持アームを前記装置本体の下端面に突設して設け、この装置本体を定荷重バネの付勢力で押し出して保持させている。 （もっと読む）

【課題】サイドブラシが壁面等の障害物に接触してもサイドブラシ装置等の破損を招くことなく円滑な床面清掃が得られるサイドブラシ装置を備えた自走式清掃ロボットを提供する。
【解決手段】走行装置を備えたロボット本体２に設けられるサイドブラシ装置３０Ｌ、３０Ｒが、基端が揺動自在にロボット本体２の下面に支持されて前方に延在すると共に先端部にサイドブラシモータによって回転駆動されるサイドブラシ４７Ｌ、４７Ｒを支持するサイドブラシ支持装置３１Ｌ、３１Ｒを備え、サイドブラシ４７Ｌ、４７Ｒと同軸上の環状の回転バンパ６２を設ける。清掃作業中に回転バンパ６２が障害物に接触した際に、回転バンパ６２が障害物に押圧付与されて回転バンパ６２がサイドブラシ装置３０Ｌ、３０Ｒを障害物から離反する方向に誘導する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、材料、粒子、または化学物質を基板から除去するためのブラシまたはパッドを作製する方法および材料を提供する。
【解決手段】ブラシまたはパッドは、多孔性パッド材料を支持するための回転可能ベースを含む。ベースは、内表面および外表面を含み、かつ多孔性パッド材料をベースと互いにかみ合わせるための複数のチャネルをベースに含む。多孔性パッド材料は、ベースの外表面の少なくとも一部を覆い、材料を様々な基板から除去するために使用される。多孔性パッド材料は、ベースのチャネルの１つまたは複数を充填し、多孔性パッド材料をベースと互いにかみ合わせる。チャネルは、ベースの前記内表面を外表面と流体接続し、多孔性パッド内における多孔性パッドノードの位置合わせおよび流体の分布を補助することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】清掃体の重力と清掃面の摩擦力により、回動軸を介して清掃体の向きを変更させ、堆積物を片側のみに摺り寄せて清掃面上を走行する清掃装置を提供する。
【解決手段】レール上を走行する走行体に取り付けられてレールの上面を移動して清掃するレール清掃装置であって、走行体に設けられた取り付け金具に固着される取付部材１と、取付部材１と回動可能に連結される回動部材２と、回動部材２に取り付けられる台座部材３と、台座部材３に連結される清掃部材４とを備え、取付部材１は板状取り付け台座１１と取り付け台座１１から突出した二股状ブロック部材１２からなり、二股状ブロック部材１２を貫通する回動軸２５を介して回動部材２と連結してなり、回動軸２５の回動により清掃部材４をレール施設方向に対して斜め方向に回動させ、レール上面に押圧してレール上面の付着物或いは堆積物を除去する。 （もっと読む）

【課題】被清掃面の全域に亘って良好なクリーニング能力を得ることができる表面処理装置及を提供する。
【解決手段】芯部１１２の直径は、被清掃面２ａの半径よりも大きく設定され、ワークＷと芯部１１２とを相対移動させる移動機構８３を備え、移動機構８３は、回転可能に支持され、駆動力が付与されるシャフト８７を備え、パッドシャフト９５の中心軸Ｏ２と、シャフト８７の中心軸Ｏ１とをオフセットさせた状態で、中心軸Ｏ１回りにパッドシャフト９５を公転させるとともに、公転に連動してパッドシャフト９５を中心軸Ｏ２回りに回動させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】種々のワークに対応できると共に、製造コストを抑えつつ、メンテナンス性の向上を図ること。
【解決手段】ワーク２を搬送しながらワーク２の表面に付着した塵埃を除去する除塵装置１において、本体４と、本体４に対して縦方向に沿って引き出し可能なロールユニット５と、を備え、ロールユニット５はカートリッジ式に構成されており、ワーク２の表面に付着している塵埃を吸着する粘着ロール４０，４１と、粘着ロール４０，４１に付着した塵埃を転写する粘着テープロール４２，４３を保持するテープ保持部５０，５２とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】粘着ラバーローラにワークが接触しても、ワークの温度を所定以上に維持可能なクリーンローラ装置を提供すること。
【解決手段】ワークＷを搬送しつつ、当該ワークＷに付着している塵埃を除去するためのクリーンローラ装置１０であって、駆動源３１の作動によりワークＷを搬送する搬送機構３０と、ワークＷの少なくとも一方の面に、ワークＷの移動に伴って転動しつつ接触して、当該ワークＷの一方の面に付着している塵埃を吸着保持すると共に、ヒータ５１２を内蔵する塵埃吸着ローラ体５１と、粘着テープが巻回されている粘着テープロール５３２を保持する粘着テープ保持部５３１を有する粘着テープ保持ユニットと、
を備えている。 （もっと読む）

【課題】鏡や窓ガラス等の透明板が湿気の多い箇所に取付けられている場合でも、これらの表面に生じた水分の曇りを確実に除去し、長時間に至って鮮明な像や景色を見れるようにする。
【解決手段】板状に形成された基台２と、鏡面を有し、無端帯状に形成され、基台２にその表側面２ａ及び裏側面２ｂに沿って回転移動自在に取付けられたフィルムミラー材３と、フィルムミラー材３を回転移動させる一対の回転ローラ４，４と、基台２の裏側及び側部２ｃに設けられ、フィルムミラー材３の表面に付着している水分を除去するブラシ等からなる拭取り部材５とを備えた。 （もっと読む）

【課題】基板を良好に洗浄することができる基板洗浄ブラシ及び同基板洗浄ブラシを用いた基板処理装置並びに基板洗浄方法を提供すること。
【解決手段】本発明では、基板洗浄ブラシ（３２）を用いて基板（２）の洗浄を行う基板処理装置（１）において、基板洗浄ブラシ（３２）は、弾性を有するブラシベース部（３３）と、ブラシベース部（３３）の表面に形成した疎水性を有するベース表層部（３４）と、ベース表層部（３４）に間隔をあけて植毛した洗浄刷毛部（３５）とを有することにした。また、前記ブラシベース部（３３）を吸水素材で形成するとともに、前記ブラシベース部（３３）に洗浄液を供給する洗浄液供給手段（３９）を設けることにした。 （もっと読む）

【課題】嵩が低くて持ち運びに便利であると共に、洗浄効果や洗浄効率に優れたボール洗浄具を提供する。
【解決手段】ボールＢの表面を被うことができるようにした中空体１の内周部に、ボールＢの表面に均等に接触可能とした洗浄体２を設けたものとしている。 （もっと読む）

【課題】水中点検ロボットによる内部点検を効率的に実施するため、表面の付着物を綺麗に洗浄できるとともに、簡易な構造でより汎用性の高い水中洗浄装置を提供する。
【解決手段】水中洗浄装置１は、水中点検ロボットＲへの取付機構を有する懸架装置２と、この懸架装置２に取り付けられ、水中点検ロボットＲの接地面を洗浄する洗浄装置本体３と、前記洗浄装置本体３に取り付けられる浮体４とから構成する。前記洗浄装置本体３は、接地面に対して少なくとも垂直方向に移動可能に設けるとともに、前記懸架装置２に取り付けた状態で前記浮体４の浮力により略中性浮力に保持し、かつ接地面に摺接する洗浄ブラシ３４…を備えた回転円盤３３が設けられ、この回転円盤３３を回転駆動することにより、前記回転円盤３３と接地面との間の液体が外側に押し出されて負圧となり、接地面に押し付けられるように構成する。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス性に優れ、フィルムなどの薄い被クリーニング材上に付着する異物を除去するような場合でも、被クリーニング材がローラ表面に張り付くのを回避する。
【解決手段】被クリーニング材Ｓの表面Ｓ１にクリーニングローラ１１を接触させ、被クリーニング材Ｓの表面Ｓ１上に付着する塵埃などの異物Ｔを静電気を利用して取り除く。クリーニングローラ１１は、芯金１１ａと、芯金１１ａの外側に設けられる円筒状の円筒状の内層部１１ｂと、その内層部１１ｂの外側に設けられる円筒状の外層部１１ｃとを備え、外層部１１ｃは５０°以上の硬度（ＪＩＳ−Ａ）を有しかつ内層部１１ｂよりも高抵抗である。クリーニングローラ１１の外層部１１ｃを形成する材料としては、被クリーニング材Ｓの表面上に付着する異物Ｔを静電気により吸着する電荷を帯電し得るものが選択される。 （もっと読む）

【課題】保持ローラから異物が移って基板が汚染されることを抑制または防止することができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置１は、ほぼ円形の基板Ｗの周端面にその外周面を当接させることにより当該基板Ｗを挟持して保持する複数の保持ローラ２と、複数の保持ローラ２を回転させることによって、当該保持ローラ２に保持された基板Ｗを回転させる基板回転機構１５と、保持ローラ２を洗浄するためのローラ洗浄ブラシ４９と、複数の保持ローラ６に保持された基板Ｗの周縁部に複数の保持ローラ６とは異なる位置で当接し、当該基板Ｗの周縁部を洗浄するための周縁洗浄ブラシ３９とを含む。 （もっと読む）

【課題】ガラス板の面に傷が付くこと及びガラス板が蛇行して搬送されることを抑制しつつ、ガラス板の面に付着している液体を効率良く且つ充分に除去することが可能な装置及び方法を提供する。
【解決手段】ガラス板搬送経路を表側及び裏側から挟むように一対または複数対の絞りローラ６、７を配設し、液体が付着したガラス板２の表面及び裏面に各絞りローラ６、７が接触してガラス板搬送方向Ａに倣うように回転することにより該液体を除去するように構成すると共に、搬送手段３、４により表側と裏側の各絞りローラ間に送り込まれるガラス板２の搬送速度に対して、表側と裏側のうちの少なくとも一方の絞りローラ６（７）の周速度を低速に設定する。 （もっと読む）

【課題】装置を複雑化、大型化させることなく、ウエハのエッジに付着した異物をていねいに洗い落とす。
【解決手段】洗浄ブラシ７と９の駆動機構は、プッシュピン５、プッシュリング６、回転アーム８などから構成され、共通化されている。プッシュリング６が下降して、最下点に位置しているときには、バランスウエイト１０は、ケーシング２の傾斜面１６に当接しているため、回転アーム８の回転が抑止されている。プッシュリング６が上昇すると、バランスウェイト１０はケーシング２の傾斜面１６から離れるようになる。すると、バランスウエイト１０に加えられる重力により、回転アーム８が紙面時計回りに回転する。この結果、洗浄ブラシ７がウエハＷの下面の周縁部に接触するとともに、洗浄ブラシ９がウエハＷの端面部に接触するようになる。 （もっと読む）