【課題】
切換バルブ装置から合流点までの間に逆流防止弁を設けなくても洗浄時の逆流を確実に阻止して、洗浄不良や塗装不良を起こさないようにする。
【解決手段】
主剤側洗浄工程（Ａ_ｎ）と硬化剤側洗浄工程（Ｂ_ｎ）を交互に繰り返す際に、主剤側洗浄工程（Ａ_ｎ）終了後、硬化剤側洗浄工程（Ｂ_ｎ）開始前に、少なくとも主剤供給管（２Ａ）に主剤用洗浄液を充填する主剤用洗浄液充填工程（Ｃ_ｎ）を行い、硬化剤側洗浄工程（Ｂ_ｎ）終了後、主剤側洗浄工程（Ａ_ｎ＋１）開始前に、少なくとも硬化剤供給管（２Ｂ）に硬化剤用洗浄液を充填する硬化剤用洗浄液充填工程（Ｄ_ｎ）を行なうようにした。
するようにした。 （もっと読む）

【課題】超臨界流体または亜臨界流体から形成された高圧洗浄流体を利用して使用済みフィルタ全域の汚れを落とすことができるフィルタ洗浄容器を提供する。
【解決手段】フィルタ洗浄容器１９Ａでは、フィルタ１１の上面１２全域を覆う被覆材３９と被覆材から延びる管材４０とが洗浄室３２に設置され、被覆材３９がフィルタ１１の周縁部４４に位置する周縁部４５とフィルタ１１の上面１２から離間する中央部４６とを有し、超臨界流体と亜臨界流体との一方から形成された高圧洗浄流体の流路となるスペース４７がフィルタ１１の上面１２と被覆材３９の中央部４６との間に形成されている。この洗浄容器１９Ａは、洗浄流体が洗浄室３２に収容されたフィルタ１１の下面１３から上面１２に向かって通流する。 （もっと読む）

【課題】破砕物の排出効果を高める。
【解決手段】ホッパー３内のハウジングに破砕水が供給される。ハウジングの排出口に接続されたトラップ管４０に洗浄水が供給される。洗浄水の吐出給水部４２がトラップ管に接続される。破砕水は破砕処理が開始される直前から給水される。トラップ管に供給される洗浄水は、破砕処理後だけではなく破砕処理中にも、一定期間だけ供給される。破砕処理中に洗浄水をトラップ管に供給すると、トラップ管を流れる水流でハウジングの排出口まで流下した破砕物を押し出すような吸引力が作用する。この吸引力の作用で破砕物は、破砕処理中は満遍なくトラップ管内を通過して排水管側に排出され、排出効果が高まる。破砕処理が終了してから所定時間経過後に破砕処理後の洗浄水が供給され、トラップ管内の残留物を排出する。 （もっと読む）

【課題】回転ロールを洗浄するための洗浄液の消費量を低減する。
【解決手段】回転ロール９０の最上部の基点Ｐから，回転方向Ｆに２７０°から３００°回転した位置に，第１のブロック１１０が設けられ，その後方側に第２のブロック１３０が設けられる。第１のブロック１１０により，回転ロール９０との間に狭小の隙間Ｄが形成され，その表面１１０ａに洗浄液吐出口１１１と吸引口１１２が形成される。第２のブロック１３０には，排気口１３１が形成される。回転ロール９０の下部側には，滞留部１４１と洗浄液誘導部１４２が形成された第３のブロック１４０が設けられる。洗浄時には，回転ロール９０を回転させた状態で，洗浄液吐出口１１１から隙間Ｄに洗浄液Ｈが吐出され，洗浄液Ｈが回転ロール９０の表面を伝って流れ，滞留部１４１で一旦滞留された後，洗浄液誘導部１４２を通って排出される。 （もっと読む）

【課題】サイズの異なるガラス材料製のハードディスクを効率よく洗浄できるようにしたガラスハードディスクの洗浄装置を提供する。
【解決手段】ローダーカセット（２）から送り出されたハードディスク（１）を第１ウォーターベアリング（６）で搬送する。第１検出間隙（８）を設けて第２ウォーターベアリング（７）を連接し、ハードディスク（１）をスクラブ洗浄部へ送る。このスクラブ洗浄部で、ハードディスク（１）はテーパー付のドライブローラ（１０）の傾斜面に当って回転される。スクラブ洗浄後のハードディスクは第３ウォーターベアリング（２４）及び第２検出間隙（２７）をあけて設けた第４ウォーターベアリング（２６）でアンローダーカセット（３１）に収納される。上記第１検出間隙（８）及び第２検出間隙（２７）には、ハードディスクを横方向から検出するセンサー（９）、（２９）がある。 （もっと読む）

【課題】簡単な開閉弁の切り換えにより供給ラインの洗浄を容易に行うことができ、コンパクトな構成で半導体製造装置内の狭いスペースに設置可能であり、設置における配管及び配線接続が容易であるフラッシング装置を提供する。
【解決手段】少なくとも２つの供給ラインを有する装置の各々の供給ラインの最上流側に配置されるフラッシング装置であって、該フラッシング装置が、各々の前記供給ラインの中の任意の一つの供給ラインの最上流側に接続される開閉弁が設けられた主ラインと、他の供給ラインの最上流側に接続される開閉弁が設けられた少なくとも一つの他のラインと、該主ラインの開閉弁の上流側と少なくとも一つの該他のラインの開閉弁の下流側とが開閉弁を介して連通された連結ラインとを具備することを特徴とするフラッシング装置。 （もっと読む）

【課題】加圧洗浄を行う場合であっても、被洗浄物（特に、薄板状のもの）が破損することなく、かつ、洗浄剤の流速が高められ高い洗浄性を実現するとこができる洗浄用治具を提供すること。
【解決手段】治具Ｊは洗浄剤供給口Ｉと洗浄剤排出口Ｏ以外に連通孔がなく、治具Ｊ内部の収納空間部の壁面には被洗浄物を支持する支持部Ｄを設け、支持部Ｄと対抗する側に被洗浄物を押圧する手段Ｊ３を設けることにより、被洗浄物の両面が洗浄剤と接触可能となるような流路Ｓを形成した状態で被洗浄物を治具Ｊ内部に保持固定する。 （もっと読む）

【課題】マスク基板や半導体ウエーハ等の基板をブラシで洗浄する際、ブラシ自体を劣化させずに清浄な状態で洗浄し、それにより基板を清浄な状態で洗浄することができる基板の洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板８を保持するための基板保持手段３と、基板を洗浄するためのブラシ４と、ブラシを駆動させるためのブラシ駆動手段５と、基板保持手段により保持された基板又はブラシに対して洗浄液を供給するための洗浄液供給手段６と、ブラシを洗浄するためのブラシ洗浄手段９とを備え、ブラシ洗浄手段が、ブラシを収容し、該ブラシを押し当てて洗浄するためのブラシ洗浄板が設けられたブラシ洗浄槽１０と、ブラシ洗浄槽にブラシ用の洗浄液を供給するためのブラシ洗浄液供給手段１３と、ブラシ洗浄槽に対して超音波を印加してブラシ洗浄板を洗浄するための超音波印加手段１６とを有することを特徴とする基板洗浄装置１。 （もっと読む）

【課題】 樹脂や紙により袋状に成形された包装材であっても内部に付着した食品等を有効に洗浄することができる新規な包装材洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】 複数の回転羽根８１・・・８４の少なくとも何れか一つの回転羽根と上記処理槽３１の内側には、複数の凹部９１ｂ・・・９４ｂが並列してなる串状体９１・・・９４と、この串状体９１・・・９４に形成された凹部９１ｂ・・・９４ｂに対応して形成された切断刃１１３ａ・・・１１９ａ，１１３ｂ・・・１１９ｂとが相対的に配置されてなる。 （もっと読む）

【課題】 ミストの飛散を防止しながら基板表面に付着する液体を安定して除去することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 吸引ヘッド３１の対向面３３が基板表面ＷＳに付着する処理液の液面ＬＬよりも下方側に位置するように基板表面ＷＳと対向しながら基板Ｗが移動方向（＋Ｘ）に搬送される。上流辺部３５より下方側に仕切られ、対向面３３と基板表面ＷＳに挟まれた処理液は対向面３３と基板表面ＷＳとの間隔Ｇに応じて厚みが規定され、ヘッド本体３２と基板Ｗとに挟まれる液体量を一定として吸引口６１，６２により液体が吸引除去される。一方で、上流辺部３５より上方側に仕切られ、側面３４によって掻き取られた処理液は吸引口６３に導かれ吸引口６３より吸引除去されるとともに、その一部が吸引しきれない場合に基板表面ＷＳに再付着することなく限定的に基板外に排出される。 （もっと読む）

【課題】 気体の巻き込みを抑制して基板表面から液体を効率良く吸引することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 吸引ノズル３１は基板表面ＷＳの法線方向に対して傾斜されながら移動方向Ｘに沿って上下方向に互いに対向配置された上側先端部位３２と下側先端部位３３とを有する。これら先端部位３２，３３の間に吸引経路３４が形成され、基板Ｗを搬送しながら該吸引経路３４の一方端３４ａより基板表面ＷＳに付着する処理液を吸引除去する。吸引経路３４の一方端３４ａは、Ｘ方向において下側先端部位３３の長さよりも長く形成された上側先端部位３２の延長領域３２１ｂによって上方より覆われるとともに、延長領域３２１ｂの下方側に広がる空間ＳＰが処理液によって満たされる。 （もっと読む）

【課題】 洗浄力が高く、かつ、洗浄後のシート材にシート厚みやシート強度のムラを生じないシート材洗浄装置の提供。
【解決手段】 シート材洗浄装置は、洗浄槽１内に円筒状のバスケット４を回転自在に設け、バスケット４内にドラム体２をバスケット４よりも高速で同方向に回転するように設け、バスケット４の周壁外面に巻き付けられながら搬送されるシート材をバスケット４の周壁の通水孔から出し入れされる洗浄液によって洗浄する装置であって、回転駆動源２３とバスケット４とを、回転駆動源２３からバスケット４への回転力伝達を可能としバスケット４からの回転力伝達を止めるセルフロック機構３６を介して連結した構成にされている。 （もっと読む）

【課題】循環汚泥にカルシウム化合物を混合してフッ化物イオン含有排水に添加するフッ化物イオン含有排水の処理方法において、配管閉塞問題を解決し、長期間の安定した連続運転が出来る様に改良されたフッ化物イオン含有排水の処理方法を提供する。
【解決手段】反応槽（１）と、当該反応槽で生成した不溶物を含有する汚泥を沈降分離処理する沈殿槽（２）と、当該沈殿槽の底部に備えられた汚泥排出配管（２１）に接続する汚泥返送配管（２２）から抜き出された濃縮汚泥とカルシウム化合物とを混合し且つ得られた混合液を上記の反応槽に供給する混合槽（３）と、汚泥返送配管（２２）より上流側の汚泥排出配管（２１）に配置された汚泥抜出し用ポンプ（４）から主として構成される排水処理装置を使用し、且つ配管の洗浄操作を伴ったフッ化物イオン含有排水の処理方法であって、バルブ（Ｖ１）〜（Ｖ４）の操作により各配管の洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】 外周面に保護すべき金属部材、例えば金属製冷却管が設けられた管状の被洗浄体を洗浄するに際して、この金属部材に洗浄液を付着させることなく、管状の被洗浄体の内面を金属汚染させることなく洗浄することができる洗浄保護治具を提供する。
【解決手段】 外周面に保護すべき金属部材２８が設けられている管状の被洗浄体Ｍの内面を洗浄液により洗浄する際に用いる洗浄保護治具において、前記金属部材を覆った状態で前記被洗浄体を内部に収容することができる非金属材料よりなる筒状の保護カバー部材６２と、前記保護カバー部材の両端の内の少なくともいずれか一方の端部に着脱可能に設けられて前記被洗浄体の外周面と前記保護カバー部材の開口端との間に形成されるリング状の開口部を液密に閉じる非金属材料よりなる蓋部材６４とにより構成する。 （もっと読む）

【課題】 超純水製造供給装置の新規立ち上げ時あるいは定期検査等による休止後の再立ち上げ時に、超純水が所望の水質に至るまでの洗浄試運転時間を短縮でき、また、現場で作業するのに適した立ち上げ方法を可能とする超純水製造供給装置の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 一次純水を処理して超純水を製造し使用場所へ供給する超純水製造供給装置の接液部の少なくとも一部に対して、塩基性洗浄液により循環洗浄を行い、純水による塩基性洗浄液の押し出しとリンスとを十分に行い、過酸化水素洗浄液による循環及び／又は浸漬洗浄を行い、更に純水による過酸化水素洗浄液の押し出しとリンスとを行う。 （もっと読む）

【課題】 食品に対して強い洗浄殺菌処理が可能な食品洗浄殺菌装置および食品の洗浄殺菌方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 食品を洗浄するための洗浄消毒槽１０と、洗浄時に洗浄消毒槽１０に収納された食品に対してオゾンを含むオゾン水である洗浄液を噴射するための噴射バルブ切替器５と、オゾン水に対して紫外線を照射してヒドロキシラジカルを生成するための紫外線ランプ１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】 シート状物の汚れを効果的に除去することができるシート状物の洗浄装置を提供する。
【解決手段】 対をなす洗浄ブラシ７，７Ａ，８，８Ａ間を通して洗浄液46によりシート状物101を洗浄する。同一方向に回転する対をなす洗浄ブラシ７，７Ａと、これらと逆方向に回転する対をなす洗浄ブラシ８，８Ａとを備える。対をなす洗浄ブラシ７，７Ａ，８，８Ａが同一方向に回転することにより、シート状物101の表裏の一方には搬送方向でブラシ線材22が当たると共に、他方には搬送方向と逆方向でブラシ線材22が当たり、さらに、他の対をなす洗浄ブラシ８，８Ａにおいては、シート状物101の表裏の一方には搬送方向と逆方向でブラシ線材22Ａが当たると共に、他方には搬送方向でブラシ線材22Ａが当たり、シート状物101の縁などの汚れを効果的に落すことができる。 （もっと読む）

【課題】 槽内の圧力上昇による貯液槽の形状変化を規制して、秤量精度の低下を来たしたり貯液槽の設置状態が不安定となったり貯液槽が損傷したりすることを防止できる装置を提供する。
【解決手段】 可撓性材料で密閉容器状に形成され液供給口部５２ａおよび液排出口部５２ｂを有する貯液槽２０を、剛性材料で形成され一面が開口し貯液槽２０の外形と同等の内部形状を有する外装容器３８内に収納し、貯液槽２０の液供給口部５２ａおよび液排出口部５２ｂに対応する配管用穴５４ａ、５４ｂが形成された蓋部材４４で外装容器３８の開口を閉塞し、外装容器３８に蓋部材４４を固着部材４８、５０によって固着する。貯液槽２０内に貯留された処理液を、処理液による基板の処理が行われる処理部へ供給配管を通して供給する。 （もっと読む）

【課題】浄化処理槽によって排水を浄化することにより得られた浄化水の有効利用を図ることにより、洗浄作業を容易化できるようにする。
【解決手段】トイレから排出された汚水等の汚泥成分を含有する排水を段階的に浄化する複数の浄化処理室４〜８を備えた浄化処理槽１と、この浄化処理槽１とは別体に形成されるとともに、浄化処理槽１から導出された浄化水を貯留する浄化水貯留槽２とを有する排水浄化装置の洗浄方法であって、上記複数の浄化処理室４〜８の内部に収容された排水及び処理水の導出作業を行った後に、上記浄化水貯留槽２内に貯留された浄化水を、浄化処理槽１の最上流部に位置する最上流浄化処理室４の上部から洗浄水として供給することにより、最上流浄化処理室４の内壁面に付着した汚泥成分等を除去するとともに、最上流浄化処理室４およびその下流側の浄化処理室内に上記浄化水からなる洗浄水を充填する。 （もっと読む）

【課題】処理槽に貯留された処理液に基板を浸漬することにより施される基板処理のスループットを、さらに向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理槽１０に貯留される処理液を、純水から硫酸に交換するとともに、交換後の硫酸の液温を所定温度に温調する液交換処理において、まず、処理槽１０および外槽２０から純水を排出する。次に、供給ノズル４０から外槽２０へ硫酸を供給する。続いて、圧力センサ７３の検出結果から求められる硫酸２５の貯留量に基づき、外槽２０から処理槽１０に硫酸を循環させる循環処理、および、処理液の温調処理の開始タイミングを決定する。これにより、供給ノズル４０からの供給が完了する前の時点において温調処理を開始できる。そのため、液交換処理に要する時間を短縮できる （もっと読む）