【課題】有機溶剤蒸気の捕集を確実にし周囲の作業環境の悪化を未然に防止するとともに、処理装置をコンパクトで安価に製作できるシステムを提供することを目的としている。
【解決手段】有機溶剤１０４を貯留し上方が開放である洗浄槽１０１の上端縁１１３周囲に配設され、有機溶剤蒸気を吸引するための吸引口２として上方向開口部４と横方向開口部６を有し、上方向開口部４の外周に隔壁７を立設した吸引ダクト１と、有機溶剤蒸気を回収または分解するために吸引ダクト１に接続された処理装置１１とを備える。 （もっと読む）

【課題】気相成膜法により成膜する際に用いられるマスクに付着したアルカリ金属、アルカリ土類金属またはランタノイド系金属のフッ化物のうちの少なくとも１種を、容易かつ確実に除去し得るマスクの再生方法を提供すること。
【解決手段】本発明のマスクの再生方法は、シリコンで構成される部位を有し、アルカリ金属、アルカリ土類金属またはランタノイド系金属のフッ化物のうちの少なくとも１種を気相成膜法により成膜するのに使用されるマスクから、使用後に付着した前記フッ化物を除去してマスクを再生する方法であり、前記フッ化物を、ｐＨ７以下の除去液に接触させることにより除去する除去工程と、マスクを洗浄する洗浄工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】帯鋼の１槽式洗浄工程において、低温においても高い洗浄性耐久性、抑泡性を発現し、廃液時の洗浄液固化を抑制しうる洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ剤（ａ）、非イオン界面活性剤（ｂ）、キレート剤（ｃ）、分岐鎖アルコール（ｄ）及び水を含有する１槽式鋼帯洗浄用洗浄剤組成物であって、（ａ）／（ｂ）／（ｃ）／（ｄ）重量比が２５〜４５／０．１〜１０／０．１〜１２／０．１〜１０である１槽式鋼帯洗浄用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽を限界的に小型化できると共に、バスケットを洗浄槽に収容する必要がなく、且つ、密閉状態の洗浄槽を実現することもできる洗浄装置を提供する。
【解決手段】搬送レールＲＬに沿って洗浄槽ＷＡＳ１〜ＷＡＳ３の上部に搬送されるバスケットＢＫと、降下動作によってバスケットＢＫを下方に押圧する密閉装置ＳＬと、密閉装置ＳＬの更なる降下動作に応じて降下したバスケットを受け止める洗浄槽ＷＡＳ１〜ｗＡＳ３とを備える。密閉装置ＳＬが限界位置まで降下した状態では、バスケットの上面と下面とが、密閉装置ＳＬと洗浄槽ＷＡＳとによって封止される。 （もっと読む）

【課題】物品を洗浄する工程において、洗浄剤中に汚れ成分の増加により発生する洗浄不良の抑制効果に優れ、洗浄剤の液寿命を飛躍的に改善する洗浄方法および洗浄装置を提供することを課題とする。
【解決手段】物品を洗浄する工程において、洗浄に先立って、汚れに対する溶解能が乏しく比重の大きい（ａ）２０℃における蒸気圧が１．３３×１０³Ｐａ以上の非塩素系フッ素化合物を含有する組成物（ｂ）によりプレ洗浄する。成分（ａ）としては、ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）及び／またはハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）を用い、組成物（ｂ）は成分（ａ）を９０容量％以上１００容量％以下含有する。 （もっと読む）

【課題】バレルに付着した処理液による次工程の汚染を防止するとともに、大がかりな移動・搬送装置を不要とし、かつ、設備稼働効率を上昇させることができる連続式部品処理装置を提供する。
【解決手段】各々一つ以上の、処理槽２と、処理槽中で回転するドラムであって、ドラム内周に螺旋状のスパイラルリード１１を備え、かつスパイラルリードの最終部にポケット１４を有するリードドラム３と、リードドラムの回転に伴って該スパイラルリード最終ポケット１４から落下する被処理品４を受け、次工程のリードドラム３１に投入するための乗り移りシュート１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の処理不良を防止しつつ、機能水を用いた基板の処理を行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【解決手段】機能水生成部４１０には、洗浄処理部５ａ〜５ｄが接続されている。制御部４は、ＣＰＵ７０１およびメモリ７０２を含む。ＣＰＵ７０１には、操作パネル７１０が接続されている。作業者が操作パネル７１０を操作することにより、処理レシピがＣＰＵ７０１に設定される。制御部４のＣＰＵ７０１は、処理レシピに基づいて、機能水生成部４１０の抵抗制御バルブおよび気体調整バルブの開度を制御する。抵抗制御バルブの開度および気体調整バルブの開度を調整することにより、機能水生成部４１０で生成される炭酸水の濃度を調整することができる。機能水生成部４１０で生成された炭酸水は、リンス処理用供給管７４を通して洗浄処理部５ａ〜５ｄの各々へ導かれる。 （もっと読む）

【課題】 ウェットユニットからの液体の防止できる搬送処理装置を提供する。
【解決手段】 減圧チャンバー２０の搬出口２３の上下方向の寸法は、上縁部が基板Wの表面に供給された液体（現像液）に接触しない範囲で低く設定されている。その結果、基板Wが搬出口２３を通過する際には基板W上面と搬出口２３の上縁との間の隙間が小さくなり、且つ減圧チャンバー２０内は陰圧なので、外気が基板W上面を伝って減圧チャンバー２０内に勢いよく入り込み、基板Wの表面に盛られている現像液は、気流によって基板の長辺から流れ落ち、流れ落ちた現像液は回収口２４を介して回収される。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、イオン注入時にマスクとして用いられたレジストを良好に剥離（除去）することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】イオン注入処理の後の基板からレジストを剥離するために、その基板は、まず、蒸気処理部１に搬入される。蒸気処理部１では、基板の表面にＩＰＡベーパが供給されて、基板の表面上のレジストの表面に形成されている硬化層が溶かされる。その後、基板は、蒸気処理部１からレジスト剥離処理部２へ搬送される。レジスト剥離処理部２では、基板の表面にレジスト剥離液が供給される。レジスト表面の硬化層は、蒸気処理部１における処理により溶かされているので、基板の表面にレジスト剥離液が供給されると、その基板の表面からレジストが良好に除去される。 （もっと読む）

【課題】基板洗浄装置及び基板洗浄方法並びに基板洗浄プログラムにおいて、基板洗浄工程のスループットを向上させること。
【解決手段】本発明では、複数の洗浄手段を有するとともに、各洗浄手段を駆動レシピに基づいて駆動制御することとし、複数の洗浄手段に優先順位を設定し（優先順位設定ステップＳ１３）、駆動レシピから上位の洗浄手段と下位の洗浄手段との間で干渉が生じ得る時間を待機時間として設定し（待機時間設定ステップＳ１４）、上位の洗浄手段によって所定の洗浄開始位置から基板の外周部へ向けて洗浄を開始するとともに（上位洗浄手段開始ステップＳ１５）、下位の洗浄手段を待機位置で待機させ（下位洗浄手段待機ステップＳ１６）、その後、待機時間の経過後に下位の洗浄手段によって所定の洗浄開始位置から基板の外周部へ向けて洗浄を開始する（下位洗浄手段開始ステップＳ１７）ことにした。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク用ガラス基板を製造し磁気ディスクを製造するときに、所期の性能が得られ、磁気ヘッドのグライドハイトを十分に狭隘化することができ、また、磁性層に良好な磁気異方性が付与された磁気ディスクの製造を可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供し、また、良好な特性を有する磁気ディスクを製造することができる磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】 研磨工程後の乾燥処理において、水よりも沸点の低い水溶性溶剤を主成分とする液体（ＩＰＡ）の蒸気と磁気ディスク用ガラス基板とを接触させる脱水処理を含み、水溶性溶剤を主成分とする液体に含まれる水分量を、１．０重量％以下とする。 （もっと読む）

【課題】 有機溶剤を使用せず、金属から成る被洗浄物にも適用可能な、環境への負荷が少ない洗浄装置及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】 被洗浄物の油汚れを落とすための洗浄装置は、処理液としてメタケイ酸塩を含むアルカリイオン水を収容し、気泡発生手段を有する少なくとも１つの処理槽と、前記処理液を加熱する手段を具備する。被洗浄物の油汚れを落とすための洗浄方法は、気泡が生じている、加熱された、メタケイ酸塩を含むアルカリイオン水中に被洗浄物を浸漬することを含む。 （もっと読む）

【課題】設置環境にかかわらずチャンバ内を効率よく所定の圧力に制御することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】この基板処理装置１は、薬液処理を行うときには、スライドドア１５ｂを閉鎖して薬液処理室１２内を密閉する。そして、薬液処理室１２内の圧力を計測し、その計測結果に基づいて薬液処理室１２内の圧力を調節する。このため、基板処理装置１の設置環境にかかわらず、薬液処理室１２内を所定の圧力に制御できる。また、薬液処理室１２は、チャンバ１０内に部分的に形成された領域である。このため、最小限の領域を対象として、効率よく圧力を制御できる。 （もっと読む）

【課題】 シール外側の基板間に付着している液晶材料を効率よく、かつ廃液の汚染度を低くして洗浄することが可能な液晶パネルの洗浄装置、及びそのような洗浄装置を用いた洗浄工程を含む液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 液晶パネルの洗浄装置に、内部に洗浄剤が収容された予備浸漬槽と、内部に洗浄剤が収容された超音波洗浄槽と、内部に純水が収容されたリンス槽と、内部に純水が収容された超音波リンス槽と、内部に当該超音波リンス槽における純水よりも高温の純水が収容された高温リンス槽と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 超音波洗浄によるスペーサの凝集を防止して、表示ムラの発生を抑えた電気光学装置を効率的に製造することができる電気光学装置の製造方法、及びそのような超音波洗浄を行うことができる電気光学パネルの洗浄装置を提供する。
【解決手段】 一対の基板のうちの少なくともいずれか一方の基板上に、スペーサを散布する工程と、一対の基板を貼り合わせて電気光学パネルを形成する工程と、電気光学パネルを洗浄液中に投入するとともに、当該洗浄液に対して、周波数を変動させつつ超音波振動を与えながら、電気光学パネルを洗浄する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 少量のシート状材料を洗浄する場合であっても、均一に効率よく洗浄できるシート状材料の洗浄治具およびその洗浄治具を用いた洗浄方法を提供すること。
【解決手段】 洗浄治具１は、シート状材料６の上辺部をクランプしてシート状材料６を吊下げるハンガー３と、このハンガー３により吊下げられるシート状材料６に隣合い、シート状材料６の水平方向の移動を制限するとともに液体が流通する開口部４ａを有するセパレータ４とをラック２に組み込んで構成されている。この洗浄治具１を、洗浄液を充填した洗浄槽に浸漬してシート状材料６を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】変色防止剤を含まない水を洗浄水とし、低速運転やライン停止時にも良好な洗浄効果が得られる酸洗鋼帯の洗浄方法及び装置を提供する。
【解決手段】スプレーノズル(4_１,4_２,4_３,4_４)を有する複数段のリンス槽(8_１,8_２,8_３,8_４)に堰(9_１,9_２,9_３)で仕切られた洗浄水貯留ピット(10_１,10_２10_３,10_４)を設け、循環スプレー洗浄回路(13_１,13_２,13_３,13_４)を配置する。
定常運転時は循環スプレー洗浄回路で前記貯留ピットの洗浄水（循環洗浄水）を鋼帯に吹付ける(循環スプレー洗浄)。循環洗浄水の汚染は、最終段のリンス槽の給水ノズル(12)から新洗浄水を補給 (最終段のピット10_４に受容され、堰9_１,9_２,9_３を溢流するカスケード流として各ピット10_３,10_２10_１に流入) することにより希釈され所要の清澄度に保持される。低速運転又はライン停止時は、循環スプレー洗浄に代え、新水スプレー洗浄回路(15_１,15_２,15_３,15_４)で新洗浄水によるスプレー洗浄を行なう。
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【課題】少量の液体によって基板を洗浄することが可能な、電気光学装置用基板の洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】電気光学用基板の洗浄装置１は、洗浄に用いる液体を液滴として吐出して基板上に塗布するインクジェットヘッド４と、インクジェットヘッド４と基板１２とを相対的に移動させる移動手段と、予め入力された基板１２上における被洗浄領域についての位置情報に基づいて、被洗浄領域上に液体１２を塗布するように、インクジェットヘッド４と移動手段とを制御する洗浄装置制御部２とを具備する構成とした。 （もっと読む）

【課題】基板の薬液処理をむらなく均一に行う。
【解決手段】薬液処理室２０ａ，２０ｂにおいて、薬液ノズル３から供給された薬液により、基板１の薬液処理が行われる。薬液処理後、基板１は、ローラ２により、水置換／冷却室３０へ送られる。水置換／冷却室３０において、アクアナイフ６から吹き付けられた純水により、基板１の表面の薬液が、洗い流されて、純水と置換される。そして、冷却液ノズル７から供給された冷却液により、基板１の表面に残存する薬液が常温より低い温度に冷却される。従来に比べて、迅速かつ均一に薬液処理の進行が押さえられるので、処理時間が均一化され、処理がむらなく均一に行われる。冷却液として、例えば、ドライアイスを混ぜた純水を用い、基板上の液体を凍結させる。この場合、基板上の液体は、凍結により体積が膨張するので、基板の表面から浮いて剥がれ易くなる。 （もっと読む）

【課題】 基板にダメージを与えることなく該基板に付着する粒子を除去することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】 洗浄処理ユニット１に装備された処理槽内の純水中に浸漬されることで水洗処理された基板は、その表面に水膜を付着させた状態で基板搬送機構３によりスピン処理ユニット２に搬送される。スピン処理ユニット２にて、基板が回転されることで基板表面の水膜の厚みが調整された後、水膜が凍結されることで水膜の体積が膨張し、基板表面に付着する粒子と基板との間の付着力が弱まり、さらには粒子が基板表面から脱離する。そして、凍結処理された基板は、基板搬送機構３によりスピン処理ユニット２から洗浄処理ユニット１に搬送され、処理槽内の処理液中に浸漬される。オーバーフローされる処理液によって水膜が解凍除去されるとともに基板表面の粒子が基板外に排出される。 （もっと読む）