【課題】洗浄液の消費量を低減しつつ、効率的に被洗浄物の蒸気洗浄を行うことが可能な洗浄装置および洗浄装置の制御方法を提供すること。
【解決手段】洗浄装置１は、被洗浄物２を出し入れするための開口部１５および被洗浄物２が浸漬される洗浄槽３を有する本体部４と、本体部４の内部であって洗浄槽３の上方に形成される蒸気洗浄領域１６に洗浄液の蒸気を供給する蒸気発生槽５と、開口部１５を開放および閉鎖するために開閉する蓋部材１１と、本体部４内を減圧するための吸引手段１２とを備えている。蓋部材１１は、蒸気洗浄領域１６での被洗浄物２の蒸気洗浄時に開口部１５を閉鎖するとともに、被洗浄物２の蒸気洗浄後に開口部１５を開放するために退避する。吸引手段１２は、被洗浄物２の蒸気洗浄後、蓋部材１１が退避する前に本体部４内を減圧する。 （もっと読む）

【課題】低分子有機ＥＬ装置の蒸着マスクに付着した有機物を容易に除去することが可能な、洗浄方法および洗浄装置の提供を目的とする。
【解決手段】低分子有機ＥＬ装置の蒸着マスクに付着した有機物の洗浄装置１であって、蒸着マスク１４０をピロリドンの誘導体で処理する第１ステージ１０と、蒸着マスク１４０を水リンス処理する第２ステージ２０と、蒸着マスク１４０を流水リンス処理する第３ステージ３０と、蒸着マスク１４０をエタノールで処理する第４ステージ４０と、蒸着マスク１４０を乾燥させる第５ステージ５０と、各ステージに対して蒸着マスク１４０を順次搬送する搬送手段５とを有する。ピロリドンの誘導体として、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを採用することが望ましい。 （もっと読む）

【課題】クローズドシステムでの欠点である装置規模が大型になり、これらの装置類の占有面積が大きくなると云う問題を解決する洗浄効果の高い洗浄システムを提供する。
【解決手段】洗浄液貯液槽と洗浄液貯液槽に接続された循環洗浄手段とからなる貯液槽・循環手段の組合せを複数備え、かつ、複数の貯液槽・循環手段の組合せ中から１つの貯液槽・循環手段の組合せを選択して、選択された洗浄液貯液槽にのみ排液口からの洗浄液を供給させるとともに、選択された洗浄液貯液槽に接続された循環洗浄手段のみを稼働させて洗浄を行い、その後、順次他の貯液槽・循環手段の組合せに切替え、以後同様に繰り返す、組合せ選択手段を備えている洗浄装置を備え、かつ、洗浄液貯液槽に容れられた洗浄液のうちの最初に用いられた洗浄液を液相処理工程での処理液として前工程の液相処理工程に送る洗浄液液相処理送液手段を備えた洗浄システム。 （もっと読む）

【課題】 充分な脱脂洗浄を行うことができ、かつ持続的に安全で安価に使用できる脱脂洗浄を行う工程を含む防食管継手の洗浄方法を提供する。
【解決手段】ねじ１２の加工を行なった防食管継手用粗材１１に脱脂洗浄を行い、この脱脂洗浄後に防食管継手用粗材１１の内外両面若しくは内外のいずれか片面に樹脂被覆層１３を形成する為に前工程処理として行う防食管継手の洗浄方法において、前記脱脂洗浄を行う洗浄液として、炭酸カリウム０．０５質量％〜１質量％の水溶液を電気分解してマイナス極側に生成したｐＨ１０〜１２のアルカリ電解水を用い、このアルカリ電解水の洗浄液に防食管継手用粗材１１を浸漬して温度４０〜８０℃で脱脂洗浄を行う。 （もっと読む）

少なくとも対象物の前洗浄、洗浄及び熱消毒を行う洗浄サイクルを実行する洗浄プラントに関する。洗浄プラントは、第１整列軸に沿って互いに連続するように配置された前洗浄ユニットで構成された第１装置群と、該対象物を並行して処理可能するように上記第１整列軸とは異なる第２整列軸に沿って配置され、上記対象物の洗浄及び熱消毒を行う洗浄熱消毒機で構成された第２装置群と、を備えている。第２装置群は、上記第１整列軸に沿って上記第１装置群から退出する前洗浄済みの対象物を、上記第２整列軸に交差した搬送方向に沿って受け入れることができる。上記第２装置群の搬送方向は、上記第１整列軸と交差している。上記洗浄プラントは、上記第１装置群から退出する対象物が上記第２装置群へ向かうように該対象物を方向転換させるために、上記搬送方向に沿って配列される動作機構を更に備えている。 （もっと読む）

【課題】洗浄流体が満たされた洗浄槽に被洗浄物を設置して被洗浄物を洗浄する洗浄装置、洗浄槽および洗浄方法に関し、洗浄流体中の異物を排出し、洗浄流体の清浄度を維持して被洗浄物を洗浄槽より回収する際に異物の再付着を防止することを目的とする。
【解決手段】洗浄流体が満たされた洗浄槽１内に被洗浄物を設置し、洗浄流体により被洗浄物を洗浄して被洗浄物の表面の異物を除去する際に、洗浄槽１内の洗浄流体に対し所定の流れを形成する流れ制御手段５と、洗浄流体の所定の流れの流路上に配置され、かつ、洗浄流体を排出する排出手段３とを備え、排出手段３によって洗浄流体を洗浄槽外に排出するように構成される。 （もっと読む）

【課題】基板上の微細パターンを損傷させることなく、効率の高い基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】単数枚または複数枚の基板を１バッチとし、１バッチの基板をウェットエッチング液に浸漬する工程と、超音波洗浄する工程と、乾燥する工程とを備えるバッチ式ディップ処理方式による基板の洗浄方法であって、超音波洗浄工程は、大気圧下における溶存ガスの飽和度が６０％〜１００％である洗浄水を用い、超音波の周波数が５００ｋＨｚ以上、超音波の出力が０．０２Ｗ／ｃｍ²〜０．５Ｗ／ｃｍ²である。 （もっと読む）

【課題】純水内に浸積され洗浄処理が行われた基板を乾燥させる基板乾燥において、上記基板に微細化されたパターンが存在するような場合であっても、確実に上記基板に付着した純水を除去して基板を乾燥させる基板乾燥装置及び方法を提供する。
【解決手段】純水内に浸積された基板を取り出した後、上記基板の表面に液状のイソプロピルアルコールを供給して、上記基板の表面に付着している上記純水を上記イソプロピルアルコールに置き換え、その後、上記基板の表面から上記イソプロピルアルコールを蒸発させることにより上記基板を乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】フロンを使用せず精密洗浄を行なえ、宇宙機器のような中小物部品から大型内部複雑構造物・配管類に至る迄の、多様な洗浄対象物に対応できる水系洗浄方法および水系洗浄装置。
【解決手段】洗浄対象物に対して脱脂洗浄、アルカリ洗浄、高圧水洗浄、純水仕上げ洗浄、検査、乾燥の各工程を前記順に行なう水系洗浄方法であって、脱脂洗浄工程においては洗浄対象物を溶剤またはアルカリ洗浄剤で予備的な脱脂洗浄を行なった後、純水によるリンスを行い、アルカリ洗浄工程では洗浄対象物をアルカリ洗浄剤で洗浄したのち、純水によるリンスを行い、高圧水洗浄工程では洗浄対象物に高圧の純水をノズルから直接噴射し、純水仕上げ洗浄では洗浄対象物に対し純水超音波洗浄と純水フラッシング洗浄を行い、検査工程では洗浄対象物の清浄度検査のため粒子検査用のサンプリング液と油分検査用のサンプリング液を採取し、乾燥工程では洗浄対象物の付着水分を乾燥させる。 （もっと読む）

洗浄された電極が表面汚染仕様を満たし、かつ製造の歩留まりが向上するように、容量結合プラズマ反応器の電極を洗浄し表面粗さを減少させるための、体系化された効率的な方法。洗浄工程で使用される工具の予備洗浄が、洗浄される電極の汚染を防止するのに役立つ。
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【課題】１つの水洗ブース２内で１つのワークＷに対して少なくとも３回の水洗工程を実施する水洗設備を提供する。
【解決手段】それぞれ給水可能な洗浄水貯蔵タンク３６〜３８が水洗工程ごとに分けて配設され、各水洗工程において対応する１つの洗浄水貯蔵タンク内の洗浄水を水洗ブース２内に送出する洗浄水送出手段が併設され、水洗ブース２の底部からの排水回収配管系には、最終水洗工程を除く各水洗工程での回収排水を実施中の水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３６，３７へ戻すと共に、最終水洗工程での回収排水をその直前水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３７へ戻す切換弁５５ａ，５５ｂが設けられ、最終水洗工程を除く水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３７から直前水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３６へ貯蔵水を流動させる溢水配管５６が設けられ、開始水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３６には溢水配管５７が設けられる。 （もっと読む）

【課題】透明基板の表面にこびりついた粘着剤や接着剤、その他の有機物質や固形異物等を、パネルに対してダメージを与えずに、確実に洗浄し除去する。
【解決手段】パネル１のガラス基板３に貼り付けた偏光膜８を剥離した後に、その表面にこびりついている有機物質を含む汚損物を洗浄により取り除くために、搬送手段１０に搬送されているパネル１は、温水ジェット噴射ステージ１１で温水が噴射された後、スチーム噴射ステージ１３に設けたスチームノズル１４からスチームが噴射されて、有機物質を膨潤化させ、かつ固着強度を低下させ、その後にブラシ洗浄ステージ２０に移行して、スチームを噴射させた面をブラシ２１により擦動する。 （もっと読む）

【課題】グリース、オイル、および汚れを機械部品から除去するために使用される多目的洗浄装置を提供する。
【解決手段】本部品洗浄装置１は、部品に噴霧する第１の清浄チャンバ１０２と、部品を浸漬および攪拌する第２の清浄チャンバ１０１とにより画成された自動清浄部２を有し、更に自動洗浄部２に移動可能に接続された手動清浄部の３つの清浄部を含む。全ての清浄部は、単一のポンプからの清浄液と、洗浄工程からの相当量の清浄液および破砕物を回収および貯蔵するリザーバ部と、ディスプレイから操作される単一の制御装置システムと、清浄液を加熱する熱エネルギー源とを使用する。 （もっと読む）

【課題】石英管が非円管であっても、処理槽内の定位置で均一な洗浄処理を行う。
【解決手段】石英管３の汚れを洗浄する洗浄液５（又は９）を入れた洗浄槽７（又は１１）と、前記洗浄槽７（又は１１）で洗浄された石英管３をリンスするリンス液１３を入れたリンス槽１５と、を備えた石英管洗浄装置１において、前記洗浄槽７（又は１１）内で前記石英管３を回転可能に載置する少なくとも２対のローラ１９と、この２対のローラ１９に載置された石英管３を正転と逆転方向に交互に繰り返して回転せしめる正逆回転駆動装置２１を設けてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の周囲の雰囲気が当該基板の周縁部に巻き込まれることを抑制することができる基板処理装置、基板乾燥方法および基板処理方法を提供する。
【解決手段】ウエハＷの表面に薬液処理が行われた後、遮断板４の対向面１４がスピンチャック２に保持されたウエハＷの表面に近接された状態で、ＤＩＷによるリンス処理がウエハＷの表面に行われる（図４（ｂ）参照）。このとき、ウエハＷの表面の周縁部には、対向面１４からウエハＷ側に突出するように遮断板４の周縁部に取り付けられたスポンジ部材２６の先端縁が対向しており、ウエハＷと遮断板４との間の空間にその周囲の雰囲気が巻き込まれることが抑制されている。リンス処理が行われた後は、前記空間が窒素ガス雰囲気に維持されたまま、所定の高回転速度でウエハＷが回転されて当該ウエハＷが乾燥する（図４（ｃ）参照）。 （もっと読む）

【課題】大きさの異なる基板を、割れや欠け等の不具合を発生させることなく容易に洗浄する。
【解決手段】収納カセット３は、異なる大きさの液晶表示パネル２が収納可能であり、収納カセット３に収納されている液晶表示パネル２の大きさによって、洗浄槽１１における洗浄液１０の循環量および超音波の発振出力量を調整する制御部２７と、収納カセット３に収納されている液晶表示パネル２の大きさを検出する検出センサ１３とを有し、制御部２７は、検出センサ１３により検出された液晶表示パネル２の大きさにしたがって、洗浄液１０の循環量および超音波の発振の出力量を調整する。 （もっと読む）

【課題】脈理発生を抑制可能とする、ガラス型の洗浄方法、および、この洗浄方法を採用したプラスチックレンズの製造方法を提供する。
【手段】本発明のガラス型の洗浄方法は、ガラス型をアルカリ洗浄剤に接触させた後、ガラス型をすすぐ工程を含み、ガラス型をアルカリ洗浄剤に接触させる前に第１の酸の水溶液に接触させる第１酸処理、および、ガラス型をアルカリ洗浄剤に接触させた後ガラス型のすすぎが終了する前にガラス型を第２の酸の水溶液に接触させる第２酸処理、のうちの少なくとも一方の酸処理を行い、第１の酸の水溶液の酸濃度および第２の酸の水溶液の酸濃度は、０．１重量％〜９８重量％であり、アルカリ洗浄剤は、水溶性アルカリ化合物を１重量％〜３０重量％含有する。 （もっと読む）

【課題】薬液処理時に発生する薬液蒸気が処理槽を有するシンク外へ飛散するのを効果的に抑えて高品質の基板処理を可能にした基板処理装置を提供すること。
【解決手段】上方が開口した有底の容器からなる処理槽２Ａ〜２Ｄと、ウェーハＷを把持する把持機構１１と、把持機構が連結されてウェーハの処理槽内に貯留された処理液への浸漬及び処理槽内からの引き上げを行う昇降装置１０と、昇降装置が連結されてウェーハを処理槽へ搬送する搬送装置７と、を備える基板処理装置１において、処理槽から蒸気が平常時よりも多量に発生上昇するときに処理槽の開口部を覆うことができる搬送装置に連結された飛散防止カバー８を備える。 （もっと読む）

【課題】タイヤ加硫モールド12の型付け面13に付着している汚れを効果的に除去する。
【解決手段】タイヤ加硫モールド12の型付け面13に 100度Ｃ以下の湿り飽和蒸気を接触させて汚れを膨潤させているが、このとき、タイヤ加硫モールド12が、カーボンブラックのみからなる充填材、または、少なくともシリカからなる充填材が配合されているゴム組成物を用いた未加硫タイヤを加硫するモールドであると、前者では汚れが比較的膨潤し易いため、型付け面13に湿り飽和蒸気を 100秒以上接触させ、後者では比較的膨潤し難いため、 240秒以上接触させる。 （もっと読む）

【課題】二つの動作を二つのリンクの差動で行うことにより、各リンク長の組み合わせで、浸漬深さを維持したまま設備を小型化することが可能な、湿式表面処理装置を提供する。
【解決手段】搬送機構部１３において、搬送歯車１８が１回転する間に上下動ケース２７が６回転する必要から、内歯歯車１７と遊星歯車２２のギア比が３：１、第１、第２伝達ギア２５，２６のギア比を２：１として、搬送歯車１８：上下動ケース２７の回転比を１：６とする設定とする。
また、前記搬送機構部１３により、差動動作を行うために、上記第１上下動歯車２８と第３上下動歯車３０とのギア比を１：２とする一方、第１揺動歯車３２と第３揺動歯車３４とのギア比を２：１とする設定とする。 （もっと読む）