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Fターム[3B201CB15]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 本処理 (910) | 多工程 (518) | 複数の洗浄槽(室) (191)

Fターム[3B201CB15]に分類される特許

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【課題】エッチング残渣を良好に除去することが可能なウエットエッチング方法及びウエットエッチング装置を提供する。
【解決手段】本発明のウエットエッチング方法は、基板A上に形成された少なくとも1層の膜をウエットエッチングする処理工程と、処理工程を終えた基板Aを水洗する水洗工程と、水洗工程を終えた基板Aを乾燥する乾燥工程とを含み、処理工程と水洗工程との間に、超音波を印加したエッチング液ELを基板Aに噴射する超音波液噴射工程を実施する。 (もっと読む)


【課題】ワーク表面にシミやムラ等を形成させずに、ワーク表面の処理液をきれいに洗い落とす。
【解決手段】ワーク1の表面を処理する処理液が蓄えられる処理槽10と、表面に処理液が付いているワーク1を洗浄する洗浄液が蓄えられる洗浄槽20と、ワーク1を吊り下げ、処理槽10の上方と洗浄槽20の上方との間で移動すると共に、上下方向に移動するクレーン35を有している移動機構30と、クレーン35に設けられ、クレーン35から吊り下げられているワーク1に対して、洗浄液を噴射するノズル51と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】廃プラスチック類に付着した有機物を、分解し脱臭処理すること。
【解決手段】スラリー槽10に破砕された廃プラスチック類を入れ、過酸化水素12と硫酸第1鉄13と循環水14を加え、かつ酸性に調整して攪拌する。フェントン洗浄タンク20は、上下方向に多数の層20a、20b、20cに分割され、各層を貫いた回転軸22が攪拌羽根23a、23b、23cを回転させる。層を隔てる仕切り板24a、24bには連通孔48が設けられている。フェントン洗浄タンク30も同様な構成であり、夫々の最下層同士が配管40で接続されている。配管18からフェントン洗浄タンク20の最上層に攪拌された廃プラスチック類が投入され、フェントン洗浄タンク30の最上層から廃プラスチック類をオーバーフローさせる。 (もっと読む)


【課題】化石燃料の使用量の削減を図ることができ、ランニングコストおよびCO排出量を抑制することができ、且つ作業者の作業環境の改善を図ることが可能な洗浄システムを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる洗浄システムの構成は、湯を用いて被処理体(番重102)を洗浄する洗浄システム100であって、被処理体を移動させる被処理体移動経路104と、被処理体移動経路の下方に配置され、湯を貯留する貯湯槽110aおよび110bと、貯湯槽に接続され、貯留された湯を被処理体に散水する散水手段120aおよび120bと、空気を熱源として貯湯槽に供給する湯を生成するヒートポンプ130と、ヒートポンプで冷却された空気を被処理体移動経路が設置される室内の所定位置に噴出する冷気噴出器108a〜108cと、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】より簡易な構造で安全性を確保することができる処理装置を提供することである。
【解決手段】発火及び爆発に対する所定の安全対策の施された設備が配置され、引火性のある処理液を用いて所定の処理が行われる処理室と、該処理室とは隔離されつつ一体となり、電気設備及び前記処理室にて用いられる前記処理液の通路が配置された遮蔽室とを備えた処理装置であって、前記遮蔽室内から気体を導出する気体導出手段と、該気体導出手段にて導出された気体のガス濃度を検出するガス濃度検出手段とを有する構成となる。 (もっと読む)


【課題】基板の洗浄処理を効率よく行うことができ、設置スペースを小さくすることができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】供給台30と、回収台36と、供給台30から回収台36までの搬送経路に沿って配置され、基板を洗浄する一連の洗浄処理工程を行う複数個の洗浄処理槽22,24,26と、互いに隣接する洗浄処理槽22,24,26の間に配置された仮置台32,34と、基板が収納されたラック2,4,6,8を搬送する複数の搬送アーム部44,46,48とを備える。搬送アーム部44,46,48は、それぞれ、搬送経路の互いに異なる区間において、基板が収納されたラック2,4,6,8を、供給台30又は仮置台32,34から洗浄処理槽22,24,26に搬送する第1の動作と、洗浄処理槽22,24,26から仮置台32,34又は回収台36に搬送する第2の動作とを繰り返す。 (もっと読む)


【課題】電鋳体の肌荒れを抑制しながら該電鋳体と樹脂層とを安定的に剥離させること。
【解決手段】基板の導電層上に化学増幅型の感光性材料を硬化させた樹脂層3が形成された成形型を利用して電鋳を行い、電鋳体5を形成させた後に、成形型から基板及び樹脂層を除去する電鋳部品の製造方法であって、成形型から基板を除去する第1除去工程と、成形型から樹脂層を除去する第2除去工程と、を備え、第2除去工程が、水酸化ナトリウム31及び水酸化カリウム32を有し、且つ、硫酸基或いは硝酸基を含む化合物、及びハロゲン化合物のうち少なくとも一方を有さない剥離剤30と、成形型とを混合させる混合工程と、該工程後、150℃以上、250℃以下の温度に剥離剤を加熱して融解させる加熱工程と、を備え、加熱工程の際、融解された剥離剤中に成形型を浸漬した状態に保持しておく製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】 パンチング加工後の板金のような薄板を洗浄し、乾燥する小形で簡易な薄板洗浄乾燥装置及び方法を提供する。
【解決手段】 アルカリイオン水製造装置2と、製造されたアルカリイオン水を加温する加温装置4と、洗浄する薄板10を搬送する搬送装置5と、加温されたアルカリイオン水を搬送装置5で搬送されている薄板10の両面に吹き付ける噴射装置6と、搬送装置5の一部を構成し、加温されたアルカリイオン水が付着した薄板の両面を拭き取りながら薄板10を搬送する第1吸水ローラ71、72と第2吸水ローラ73,74を配置した吸水・乾燥装置7とを備える構成とする。 (もっと読む)


【課題】基板洗浄工程中に電析の発生を防止しつつ基板の状態を観察することが可能な基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】発電層が形成された基板12を洗浄する洗浄部と、それらの上流側に設けられて、基板12を基板搬入口から洗浄部に搬入する搬入部と、洗浄された基板12の発電層を乾燥させる乾燥部と、乾燥部の下流側に設けられて乾燥した基板12を基板搬出口へ搬出する搬出部と、基板搬入口を除く搬入部、洗浄部、乾燥部、基板搬出口を除く搬出部内に入射する光を遮断する光遮断手段9と、それに設けられる観察窓10と、観察窓10から入射する光のうち発電層の発電に寄与する波長の少なくとも一部を遮断し、発電層の発電電圧を波長の少なくとも一部を遮光しない場合の発電電圧の1/10以下にする光透過手段と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】微細バブルの洗浄に有効なより多くの性質を利用しつつ効果的な洗浄を可能にする洗浄方法及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】処理液をかけて被洗浄物を洗浄する洗浄方法であって、マイクロナノバブルやナノバブル等の比較的小さいサイズのバブルを含む第1処理液を前記被洗浄物にかける第1ステップ(S3)と、該第1ステップの後に、前記第1処理液に含まれるバブルより大きいサイズのマイクロバブル等のバブルを含む第2処理液を前記第1処理液が付着した状態の前記被洗浄物にかける第2ステップ(S4)とを有し、第1処理液での洗浄の後に、該第1処理液に含まれるバブルより大きいサイズのバブルを含む第2処理液での洗浄がなされるので、比較的小さいバブルの好ましい性質を利用した第1処理液による洗浄の後に、比較的大きいバブルの好ましい性質を利用した第2処理液による洗浄を行うことができるようになる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、煩雑な水切り溶剤の組成管理を必要とせず、かつ水切り性に優れた水切り乾燥方法、および水切り乾燥システムの提供を目的とする。
【解決手段】特定の条件を満たすハイドロフルオロカーボンおよびハイドロフルオロエーテルからなる群から選ばれる1種以上のフッ素系溶剤(A)を含む沸騰状態の水切り溶剤に、水またはアルコール水が付着した物品を浸漬させて該物品に付着した水分を蒸発させ、該物品を乾燥させる水切り乾燥工程を有する水切り乾燥方法。また、該水切り乾燥方法に使用する水切り乾燥システム。 (もっと読む)


【課題】貫通孔内に所望の処理を施すことができる処理方法および処理装置を提供すること。
【解決手段】処理装置1は、内部に液体Lが供給されるとともに、供給された前記液体Lに基板2を浸積させる槽11を備える。処理装置1は、第一供給口111Aから第一排出口111Bに向かって液体Lを流すとともに、第二供給口112Aから第二排出口112Bに向かって液体Lを流すと、液体Lが、鉛直方向上方側から下方側に向かって前記基板2の一方の基板面および他方の基板面に沿って流れるように構成され、基板2の一方の面における液体Lの平均流速と、他方の面における液体Lの平均流速とを異ならせる調整手段を有する。 (もっと読む)


【課題】省スペース化を図ることができ、以って作業者単独によるワーク搬入出作業を軽減することの可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄槽と、洗浄前のワークを収容するワーク搬送治具を略垂直姿勢で滞留させる入口バッファと、洗浄後のワークを収容するワーク搬送治具を略垂直姿勢で滞留させる出口バッファと、前記ワーク搬送治具を略垂直姿勢で入口バッファから洗浄槽へ搬送し、洗浄後に洗浄槽から出口バッファへ搬送する搬送装置とを具備する洗浄装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】水分を十分に除去しながら、IPA(イソプロピルアルコール)あるいはこれに代わる水切り乾燥液の使用量が少ない水切り工程を含む洗浄方法・装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置1(洗浄方法)は、被洗浄物に洗浄溶剤を適用する第1洗浄処理槽2及び第2洗浄処理槽3(薬剤洗浄工程)と、洗浄処理後の被洗浄物を水ですすぐ第1すすぎ槽4及び第2すすぎ槽5(すすぎ工程)と、被洗浄物に付着した水分を除去するための水切り乾燥槽群6(水切り乾燥工程)を備える。水切り乾燥槽群6は、前記被洗浄物を浸漬した後で引き上げる温純水引き上げ槽11(水引き上げ工程)と、水を取り込む乾燥用溶剤の蒸気を当てる溶剤乾燥槽13(溶剤乾燥工程)を含む。 (もっと読む)


【課題】水量不足にならず、かつ無駄な水をなくすことを目的とする。
【解決手段】洗浄装置は、給水手段による給水時に、第1の水位計の測定結果に基づいて第1の洗浄水タンク内の水位が所定水位より低いと認識した場合に、第2の水位計に基づいて第2の洗浄水タンクが満杯になったと認識しても、第1の洗浄水タンクの水位が所定水位より高くなる所定水量をさらに給水手段に給水させる制御手段を具備する。 (もっと読む)


【課題】被洗浄物の洗浄を効率的に行い、洗浄装置の小型化、構成の簡素化を図る。
【解決手段】被洗浄物20を収納する篭18と、前記被洗浄物を収納した篭を収容する貯水ユニット14と、前記篭を収容した貯水ユニットを搬送する搬送手段2と、前記貯水ユニットの搬送方向に沿って複数配置した洗浄水を噴射するノズル10、11と、を備え、前記複数配置したノズルから搬送する貯水ユニットの上方側より被洗浄物に洗浄水を順次噴射するとともに、前記噴射した洗浄水を被洗浄物の略全体が浸漬するように貯水ユニット内に貯水しながら貯水ユニット外に排水して、前記被洗浄物の洗浄を貯水ユニットの搬送方向に沿って順次行うことを特徴とする洗浄方法。 (もっと読む)


【課題】フィルタを搬送して移動させながらフィルタの洗浄、水洗、脱水、乾燥をコンパクトな構成により短時間で連続処理するフィルタ洗浄乾燥システム及びフィルタ洗浄方法を提供する。
【解決手段】フィルタ洗浄乾燥システム1は、フィルタ2を搬入口8から搬出口9に移送するフィルタ搬送装置3と、洗浄液17を噴射する洗浄液噴射ノズル10、及び洗浄液噴射ノズル10の下流側で高圧ガス18のみを噴射する高圧ガス噴射ノズル11を有するフィルタ洗浄装置4と、洗浄水19を噴射する洗浄水噴射ノズル12を有するフィルタ水洗装置5と、吸水手段、及び吸水手段に設けられた吸水材14によりフィルタ2の内部に含まれた水分を吸収させる押し当て機構15を有するフィルタ乾燥装置6と、を備えてフィルタ2を連続的に洗浄乾燥する。 (もっと読む)


【課題】壜を苛性溶液で洗浄した後の濯ぎ用の洗浄水の使用量を削減すると共に、濯ぎ洗浄工程を短縮する。
【解決手段】筐体3内を循環する無端チェン4に取り付けられ、複数の壜Bを保持して搬送するキャリア4aと、筺体3内に設けられ、キャリアによって搬送される壜を浸漬させて洗浄する高温苛性浸漬槽7と、高温苛性浸漬槽の下流側で、高温苛性により洗浄された壜を予備濯ぎするとともに高温の壜を適宜の温度に冷却する温水浸漬槽8と、温水浸漬槽の下流側で、予備濯ぎされた壜を清水で濯ぎ洗浄する濯ぎ洗浄部9と、温水浸漬槽8内の槽水を中和するための酸供給装置30と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、高い洗浄性と高い保存安定性とが両立された硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物、及びそれを用いて行うガラス表面の洗浄方法を提供する。
【解決手段】アルカリ剤(成分A)と、非イオン性界面活性剤(成分B)と、キレート剤(成分C)と、水(成分D)と、一般式(1)および一般式(2)から選ばれる少なくとも1種のカルボン酸化合物(成分E)と、一般式(3)で示される化合物およびその塩から選ばれる少なくとも1種のアニオン性界面活性剤(成分F)とを含有してなり、含有量比〔成分E(重量%)/成分B(重量%)〕が1/1.5〜15/1であり、含有量比〔成分F(重量%)/成分B(重量%)〕が10/1〜1/5であり、25℃でのpHが12以上である、硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】洗浄後の後処理において、コスト高の処理ステップを行うことなく、高品質の破片を得ることができる方法および装置の提供。
【解決手段】粉砕されたPET瓶からPET破片をリサイクルする方法において、破片に対し洗浄処理が行われ、破片は少なくとも1つの洗浄機W内で少なくとも20分間、苛性ソーダを含む洗浄溶液にて70℃以上の高温度で処理されると同時に、機械的に且つ液圧的にも処理される。 (もっと読む)


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