基板洗浄装置
【課題】基板洗浄工程中に電析の発生を防止しつつ基板の状態を観察することが可能な基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】発電層が形成された基板１２を洗浄する洗浄部と、それらの上流側に設けられて、基板１２を基板搬入口から洗浄部に搬入する搬入部と、洗浄された基板１２の発電層を乾燥させる乾燥部と、乾燥部の下流側に設けられて乾燥した基板１２を基板搬出口へ搬出する搬出部と、基板搬入口を除く搬入部、洗浄部、乾燥部、基板搬出口を除く搬出部内に入射する光を遮断する光遮断手段９と、それに設けられる観察窓１０と、観察窓１０から入射する光のうち発電層の発電に寄与する波長の少なくとも一部を遮断し、発電層の発電電圧を波長の少なくとも一部を遮光しない場合の発電電圧の１／１０以下にする光透過手段と、を備えることを特徴とする。
【解決手段】発電層が形成された基板１２を洗浄する洗浄部と、それらの上流側に設けられて、基板１２を基板搬入口から洗浄部に搬入する搬入部と、洗浄された基板１２の発電層を乾燥させる乾燥部と、乾燥部の下流側に設けられて乾燥した基板１２を基板搬出口へ搬出する搬出部と、基板搬入口を除く搬入部、洗浄部、乾燥部、基板搬出口を除く搬出部内に入射する光を遮断する光遮断手段９と、それに設けられる観察窓１０と、観察窓１０から入射する光のうち発電層の発電に寄与する波長の少なくとも一部を遮断し、発電層の発電電圧を波長の少なくとも一部を遮光しない場合の発電電圧の１／１０以下にする光透過手段と、を備えることを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発電層を形成した基板の洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、太陽電池等の光電変換装置として、シリコン系薄膜光電変換装置が知られている。この光電変換装置は、一般に、透光性基板上に、透明電極、シリコン系半導体層（光電変換層）および裏面電極を順次積層したものである。半導体層は、ｐ型、ｉ型及びｎ型の半導体材料によって形成されるｐｉｎ接合を有している。光電変換装置が太陽電池とされた場合では、このｐｉｎ接合がエネルギー変換部となって、太陽光の光エネルギーを電気エネルギーに変換する。
【０００３】
この光電変換装置の光電変換層が形成された後の基板洗浄工程、特にシリコン系薄膜光電変換装置として太陽電池モジュールが形成されて、透明電極と裏面電極との間で光起電力を発生可能な状態となった後の基板洗浄工程においては、光から完全に遮蔽された基板洗浄装置内で基板の洗浄が行なわれることにより、基板洗浄工程中に太陽電池が光起電力を生じないようにしてイオンマイグレーションによる短絡を防止することが提案されている。
【０００４】
特許文献１には、電気的に直列接続された複数の光電変換セルのうち正極と負極のセルまたはそれらに近いセルと周縁領域との間を周縁分離溝によって完全に分離せずに電気的にショートさせ、基板洗浄工程を完了した後に完全な周縁分離溝を形成することによって電気的ショートを除去し、イオンマイグレーションによる周縁分離溝中での光電変換セル集積領域と周縁領域との短絡を防止することが開示されている。
【０００５】
また、正極および負極のセルと周縁分離溝によって完全に正極および負極のセルから分離した周縁領域との間をリード線といった導電体を用いて電気的にショートさせ、基板洗浄工程を完了した後に導電体を取り除くことによって電気的ショートを除去し、イオンマイグレーションによる光電変換セル集積領域と周縁領域との短絡を防止するようになっている。
【０００６】
特許文献２には、基板洗浄装置内に赤色照明を設置して、光電変換層が主として発電する波長の光を除外することにより、イオンマイグレーションによる短絡を防止することが開示さている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−２０９４７７号公報
【特許文献２】国際公開第２００９／０２２４１４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、特許文献１に記載の発明では、基板洗浄工程を完了した後に完全な周縁分離溝を形成したり、導電体を基板洗浄工程後に完全に切り離したり除去する工程を追加する必要があり、量産工程には煩雑さが増加して適していないという欠点がある。
【０００９】
さらに、特許文献１に記載の発明では、太陽電池の基板洗浄工程を光遮蔽ガードで包囲された基板洗浄装置内で光起電力が生じないようにして行っているため、基板洗浄装置内を観察することができず連続的な工程処理において基板の破損や基板洗浄装置の不具合の発見が遅れてしまい稼働率の低下の要因になる恐れがある。また、完全な光遮蔽ガードで基板洗浄装置を包囲することは、装置のコストアップをまねき、好ましくない。
【００１０】
また、特許文献２に記載の発明では、屋内照明や屋外光が入射する窓部や隙間に赤色フィルタを設けることについて開示されているが、具体的な赤色フィルタの設置場所などについては開示されておらず、効果的なイオンマイグレーションの防止には十分ではない。
【００１１】
本発明は、基板洗浄工程中に電析の発生を防止しつつ基板の状態を観察することが可能な基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために、本発明の基板洗浄装置は、以下の手段を採用する。
すなわち、本発明に係る基板洗浄装置によれば、発電層が形成された基板を洗浄する洗浄部と、該洗浄部の上流側に設けられて、前記基板を基板搬入口から前記洗浄部に搬入する搬入部と、前記洗浄部の下流側に設けられて、該洗浄部によって洗浄された前記基板の前記発電層を乾燥させる乾燥部と、該乾燥部の下流側に設けられて乾燥した前記基板を基板搬出口へ搬出する搬出部と、前記基板搬入口を除く前記搬入部、前記洗浄部、前記乾燥部、前記基板搬出口を除く前記搬出部内に入射する光を遮断する光遮断手段と、該光遮断手段に設けられる観察窓と、該観察窓に設けられて、該観察窓から入射する光のうち、前記発電層の発電に寄与する波長の少なくとも一部を遮断し、前記発電層の発電電圧を、前記波長の少なくとも一部を遮光しない場合の前記発電電圧の１／１０以下にする光透過手段と、を備えることを特徴とする。
【００１３】
イオンマイグレーション（電析）による太陽電池の一部のセルでの短絡は、発電層に接続する各電極に電位差があり、発電層が水洗された際の水の存在により主として裏面電極層の金属が分離溝部分に電析することで発生し、太陽電池の性能が低下する。そのため、イオンマイグレーションを抑制するために、基板洗浄装置の搬入部から搬出部に至るまでの光の入射を完全に遮断する光遮断手段を設けることによって、基板に形成された発電層が発電することを抑制する場合がある。しかし、搬入部から搬出部に至るまでに光遮断手段を設けているため、基板洗浄装置内の基板の流動状態や基板洗浄装置の内部の様子を把握することが困難となる。さらに、連続して基板が搬送される基板の搬入・搬出部分においては、光遮断手段は大掛かりなものとなり、洗浄装置のコストアップが危惧される。
【００１４】
そこで、基板洗浄装置の内部を観察することが可能な観察窓を光遮断手段に設けることとした。さらに、観察窓には、観察窓から基板洗浄装置内に入射される光のうち発電層の発電に主に寄与する波長領域を遮断し、それ以外の波長を透過する光透過手段を設けることとした。これらにより、基板に形成された発電層が発電するのに適した波長の光が観察窓から基板洗浄装置内に入射することを抑制することができる。したがって、発電層の発電を抑制してイオンマイグレーションの発生を防止しつつ、発電層の発電に寄与が少ない波長領域光により、基板洗浄装置内の基板の流動状態や基板洗浄装置の内部の様子を把握することが可能となる。
なお、光透過手段によって遮断する波長は、発電に寄与する全ての波長域でなくても良く、例えば、主として発電に寄与する波長域のみを選択的に遮断し、発電に寄与する波長域のもとで発生する光電層の電圧に比べて、１／１０以下に電圧が低下できれば良い。
また、光電変換層の電圧が上記１／１０以上であっても、光電変換層の周囲に水分が無く乾燥していれば良い。
【００１５】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記観察窓は、前記搬入部および前記搬出部に設けられることを特徴とする。
【００１６】
基板濡領域である洗浄部や乾燥部を避けて搬入部と搬出部とに観察窓を設けることとした。そのため、乾燥した基板が通過する搬入部と搬出部とにおいて発電層が多少の発電を生じた場合であっても、水による導通の発生を防止することができる。したがって、イオンマイグレーションの発生を防止しつつ、基板の流動状態や基板洗浄装置の内部の様子を把握することが可能となる。
【００１７】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記基板に対して前記発電層を形成された製膜面側に設けることを特徴とする。
【００１８】
発電層が形成された基板は、光を受光して、発電に寄与する面である受光面と、受光面と反対側の面であって、光を受光しても発電しない面である製膜面と、を有することとなる。
そこで、基板に設けられた発電層となる製膜面側に観察窓を設けることにした。すなわち、発電層には、受光面となる基板面側とは逆方向に観測窓が設けられる。これにより、発電層の受光面側へと入射する光量を低減し、発電層が発電することを抑制することができる。したがって、イオンマイグレーションの発生を防止することができる。
【００１９】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記基板は、斜め鉛直方向に設けることを特徴とする。
【００２０】
斜め鉛直方向になるように基板を基板洗浄装置内に設けることにした。そのため、設置床面積において基板洗浄装置のコンパクト化を図ることができる。したがって、基板洗浄装置の設置スペースを低減することができる。
【００２１】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記基板は、水平方向に設けることを特徴とする。
【００２２】
水平方向になるように基板を基板洗浄装置内に設けることにした。そのため、基板に反り等の変形がある場合であっても、全ての基板自重が基板支持部分に作用して、基板支持部分からの基板浮きが抑制される。また、基板の反りが大きい場合には、基板を鉛直方向に設けた場合に生じ易くなる基板搬送中の基板転倒を防止することができる。したがって、基板の破損を低減することができる。
【００２３】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記基板洗浄装置内で水平方向になるように設けた前記基板は、前記発電層の製膜面側を鉛直上方に向かって設けることを特徴とする。
【００２４】
基板洗浄装置内に基板を水平方向になるように設け、さらに発電層の製膜面側を鉛直方向上方に向かうように基板洗浄装置内に基板を設けるので、発電層の受光面となる基板面側は基板洗浄装置の下方向（床面側）に設けられる。そのため、基板洗浄装置の遮光が不十分な箇所からの室内照明などが発電層の受光面側へと入射する光量を低減し、発電層が発電することを抑制することができる。したがって、イオンマイグレーションの発生を防止することができる。
【００２５】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記基板洗浄装置内で水平方向になるように設けた前記基板は、前記発電層の製膜面側を鉛直下方に向かって設け、該発電層の下方には、前記観測窓と前記基板との間に、鏡を設けることを特徴とする。
【００２６】
基板洗浄装置内に基板を水平方向になるように設け、さらに発電層の製膜面側を鉛直方向下方に向かうように基板洗浄装置内に基板を設け、観測窓と基板との間の空間にて基板の下方には鏡を設けることにした。そのため、発電層の製膜面側の状況を鏡を介して観察窓から確認することができる。
【００２７】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記観察窓には、その鉛直上方に外部に突出する遮蔽板を設けることを特徴とする。
【００２８】
観察窓の鉛直上方には、外部に突出する遮蔽板を設けることとした。そのため、基板洗浄装置が設けられる室内の天井照明灯から基板洗浄装置内への入射光を減光することができる。したがって、発電層が発電することをより抑制することができる。
【００２９】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記観察窓および前記光透過手段は、略同径かつ同心円状に設けられており、該光透過手段は、透過する光量を調整する光量調整手段を有し、該光量調整手段は、前記光透過手段と略同径かつ同心円状の光量調整手段用遮蔽板と、該光量調整手段用遮蔽板に設けられる複数の開口と、前記光量調整手段用遮蔽板を円周方向に回動する回動手段と、を備えることを特徴とする。
【００３０】
観察窓には、観察窓と略同径かつ同心円状の光透過手段を備え、光透過手段には、光透過手段と略同径かつ同心円状であり複数の開口を有する光量調整手段用遮蔽板と光量調整手段用遮蔽板を回動させる回動手段とを備える光量調整手段を設けることとした。これにより、観察窓から基板洗浄装置内に入射する光量を減光することができる。また、回動手段によって光量調整手段用遮蔽板に設けられた開口を回動させることができるので、基板上に入射される光の位置を変えることができるので、実質の入射光量を減光することができる。したがって、基板の同じ位置に光が入射することを防止しつつ、発電層の発電を一層抑制することができる。
【００３１】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記光透過手段は、前記光量調整手段に設けられる開口と略同形状であることを特徴とする。
【００３２】
光量調整手段に設けられる開口と略同形状の光透過手段を用いることとした。これにより、光透過手段が光量調整手段の開口していない光量調整手段用遮蔽板によって遮蔽される時間が生じることとなる。そのため、基板の流動状態や基板洗浄装置の内部の様子を把握するための観察を行なえる時間は連続している必要がなく、断続的な観察を確保しながら、基板洗浄装置内に入射する光量を一層減光して、基板の同じ位置に光が入射することを防止することができる。したがって、発電層の発電をより一層抑制することができる。
【００３３】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記光透過手段は、前記発電層の発電に寄与する波長域のすくなくとも一部の波長域を除いた波長の光を局所的に照射する局所照射手段を備えることを特徴とする。
【００３４】
局所的に発電層の発電に寄与する波長域の少なくとも一部を除いた波長の光を照射する局所照射手段を備える光透過手段を用いることとした。そのため、発電層の発電を抑制しながら、基板洗浄装置の内部観察が困難な箇所の視認性を向上させることができる。
【００３５】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記局所照射手段は、光源と、該光源の照射位置を変えることが可能な保持手段と、を有することを特徴とする。
【００３６】
光源と光源が照射する位置を変えることが可能な保持手段とを有する局所照射手段を用いることとした。そのため、任意の位置に更に局所的に限定して照射することができる。したがって、発電層の発電をより抑制しながら、基板洗浄装置の内部観察が困難な箇所をより限定して、視認性を向上させることができる。
【００３７】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記光透過手段は、６５０ｎｍ以上の波長を透過するロングパスフィルタであることを特徴とする。
【００３８】
６５０ｎｍ以上の波長を透過するロングパスフィルタの光透過手段を用いることとした。これにより、基板洗浄装置内を非晶質シリコンの発電量が少ない長波長の赤色光にすることができる。そのため、非晶質シリコンを含む発電層における発電を抑制することができる。したがって、イオンマグレーションの発生を防止することができる。
なお、６５０ｎｍ以上のロングパスフィルタとは、略６５０ｎｍ以上の波長を透過し、６５０ｎｍ以下の波長を７０％以上反射や吸収して遮断する。ロングパスフィルタは、略７００ｎｍ以上の波長を透過し、７００ｎｍ以下の波長を７０％以上反射や吸収して遮断するとさらに好ましい。
【００３９】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記光透過手段は、４５０ｎｍ以下の波長を透過するショートパスフィルタであることを特徴とする。
【００４０】
青色フィルタの光透過手段を用いることとした。これにより、基板洗浄装置内を結晶質シリコンが発電しない短波長の青色光にすることができる。そのため、発電層における発電を抑制することができる。したがって、イオンマグレーションの発生を防止することができる。
なお、４５０ｎｍ以下のショートパスフィルタとは、略４５０ｎｍ以下の波長を透過し、４５０ｎｍ以上の波長を７０％以上反射や吸収し遮断する。ショートパスフィルタは、略４００ｎｍ以下の波長を透過し、４００ｎｍ以上の波長を７０％以上反射や吸収し遮断するとさらに好ましい。
【００４１】
さらに、本発明に係る基板の洗浄方法によれば、前記基板の前記発電層を洗浄する洗浄部と、該洗浄部の上流側に設けられて、前記基板を基板搬入口から前記洗浄部に搬入する搬入部と、前記洗浄部の下流側に設けられて、該洗浄部によって洗浄された前記基板の前記発電層を乾燥させる乾燥部と、該乾燥部の下流側に設けられて乾燥した前記基板を基板搬出口へ搬出する搬出部と、前記基板搬入口を除く前記搬入部、前記洗浄部、前記乾燥部、前記基板搬出口を除く前記搬出部内に入射する光を遮断する光遮断手段と、該光遮断手段に設けられる観察窓と、該観察窓に設けられて、該観察窓から入射する光のうち、前記発電層の発電に寄与する波長の少なくとも一部を遮断し、前記発電層の発電電圧を、前記波長の少なくとも一部を遮光しない場合の前記発電電圧の１／１０以下にする光透過手段と、を備える基板洗浄装置によって前記基板を洗浄することを特徴とする。
【００４２】
基板に形成された発電層が発電するのに適した波長の光が観察窓から基板洗浄装置内に入射することが抑制可能な基板洗浄装置によって基板を洗浄することとして。したがって、発電層の発電に寄与が少ない波長領域光により、基板洗浄装置内の基板の流動状態や基板洗浄装置の内部の様子を把握しつつ基板を洗浄を行うことができる。
【発明の効果】
【００４３】
基板洗浄装置の内部を観察することが可能な観察窓を光遮断手段に設けることとした。さらに、観察窓には、観察窓から基板洗浄装置内に入射される光のうち特に発電層の発電に寄与する波長を遮断し、それ以外の波長を透過する光透過手段を設けることとした。これらにより、基板に形成された発電層が主として発電する波長の光が観察窓から基板洗浄装置内に入射することを抑制することができる。したがって、発電層の発電を抑制してイオンマイグレーションの発生を防止しつつ、基板洗浄装置内の基板の流動状態や基板洗浄装置の内部の様子を把握することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の第１実施形態に係る縦型の基板洗浄器の平面図である。
【図２】図１に示す縦型の基板洗浄器のＡ−Ａ部における横断面図である。
【図３】図１に示した基板洗浄器内通過時における基板の電位発生状況の推移と、基板の濡れ状態とを示すグラフである。
【図４】本発明の第２実施形態に係る横型の基板洗浄器の側面図である。
【図５】図４に示す横型の基板洗浄器のＢ−Ｂ部における縦断面図である。
【図６】図４に示す横型の基板洗浄器のＣ−Ｃ部における横断面図である。
【図７】本発明の第３実施形態に係る横型の基板洗浄器の横断面図である。
【図８】本発明の第４実施形態に係る基板洗浄器に設けられる観察窓と赤色フィルタとを示す図である。
【図９】本発明の第５実施形態に係る基板洗浄器に設けられる観察窓と赤色フィルタとを示す図である。
【図１０】本発明の第６実施形態に係る縦型の基板洗浄器の横断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４５】
［第１実施形態］
以下、本発明の第１実施形態について、図１から図３を用いて説明する。
太陽電池に用いられる発電層が形成された基板１２は、図１および図２に示すように、基板１２に発電層が形成された後に、本実施形態に係る基板洗浄器（基板洗浄装置）１によって基板１２の洗浄が行われる。
【００４６】
基板洗浄器１は、基板洗浄器１の外周を覆っている本体カバー（光遮断手段）９の内部に、面積が１ｍ２を超える大型の基板１２を搬送する搬送ローラ４を有している。基板洗浄器１は、その外周を本体カバー９によって覆われている。本体カバー９によって覆われている基板洗浄器１の内部には、基板搬送方向上流側から、上流側助走部（搬入部）３１、粗洗浄部（洗浄部）３２、ブラシ洗浄部（洗浄部）３３、リンス洗浄部（洗浄部）３４、乾燥部３５、下流側助走部（搬出部）３６が設けられている。上流側助走部３１、粗洗浄部３２、ブラシ洗浄部３３、リンス洗浄部３４、乾燥部３５、下流側助走部３６があり、これらは、洗浄器架台１６（図２参照）の上部に設けられている。
【００４７】
本体カバー９は、基板搬入口２を除く上流側助走部３１、粗洗浄部３２、ブラシ洗浄部３３、リンス洗浄部３４、乾燥部３５、基板搬出口３を除く下流側助走部３６内に入射する屋内照明（光）や屋外光（光）を遮断している。本体カバー９としては、例えば、非光透過板や暗幕などが用いられる。基板洗浄器１の外周を本体カバー９が覆っても良いが、基板洗浄器１の外周自体が本体カバーと一体化して、光を透過しない非光透過板で構成した構造となっていて光を遮断していても良い。
【００４８】
上流側助走部３１は、粗洗浄部３２の上流側に設けられている。上流側助走部３１は、基板搬入口２から搬入された基板１２を粗洗浄部３２へと搬送する。上流側助走部３１には、基板搬入口２から漏れ入る屋内照明や屋外光が入射する。そのため、上流側助走部３１は、基板搬入口２から粗洗浄部３２に近づくにしたがって入射する光が遮断されるような長さを有している。
【００４９】
粗洗浄部３２は、上流側助走部３１の下流側に設けられている。粗洗浄部３２には、高圧の純水を噴射するための純水スプレーノズル６が設けられている。純水スプレーノズル６は、基板１２に対して−Ｘ側および＋Ｘ側の両側に設けられている。この純水スプレーノズル６から、高圧の純水（例えば、０．２ＭＰａ〜１．０ＭＰａ）が基板１２に対して噴射される。このように、粗洗浄部３２では、高圧で吹き付けられる純水によって基板１２の洗浄が行われる。
純水は、洗浄能力から、比抵抗が１０ＭΩ・ｃｍ以上であることが好ましい。
【００５０】
ブラシ洗浄部３３は、粗洗浄部３２の下流側に設けられている。ブラシ洗浄部３３には、純水スプレーノズル６とロールブラシ７とが設けられている。純水スプレーノズル６は、基板１２に対して−Ｘ側および＋Ｘ側の両側に設けられており、高圧の純水（例えば、０．２ＭＰａ〜１．０ＭＰａ）を基板１２に対して噴射する。ロールブラシ７は、基板１２に対して−Ｘ側および＋Ｘ側の両側に設けられている。基板１２に対してロールブラシ７が押し付けられ、基板１２の表面を擦ることにより、基板１２の表面が洗浄される。
【００５１】
リンス洗浄部３４は、粗洗浄部３２の下流側に設けられている。リンス洗浄部３４では、純水を噴射させるための純水スプレーノズル６が設けられている。純水スプレーノズル６は、基板１２に対して−Ｘ側および＋Ｘ側の両側に設けられている。この純水スプレーノズル６から、純水（比抵抗値１０ＭΩ・ｃｍ以上）が基板１２に対して噴射される。
【００５２】
乾燥部３５は、リンス洗浄部３４の下流側に設けられている。リンス洗浄部３４では、粗洗浄部３２、ブラシ洗浄部３３、リンス洗浄部３４により洗浄された基板１２を乾燥させる空気が水切りブロア８から吹き付けられる。水切りブロア８は、基板１２に対して−Ｘ側および＋Ｘ側の両側に設けられている。これにより、基板１２上の水が除去されて乾燥される。
【００５３】
下流側助走部３６は、乾燥部３５の下流側に設けられている。下流側助走部３６は、乾燥部３５から搬送された乾燥した基板１２を基板搬出口３から基板洗浄器１外へ搬出する。下流側助走部３６には、基板搬出口３から漏れ入る屋内照明や屋外光が入射する。そのため、下流側助走部３６は、基板搬出口３から乾燥部３５に近づくにしたがって入射する光が遮断されるような長さを有している。
【００５４】
図２には、図１に示したＡ−Ａ部における上流側助走部３１の縦断面図が示されている。
なお、以下、上流側助走部３１の本体カバー９に観察窓１０を設けることについて説明するが、下流側助走部３６の本体カバー９にも上流側助走部３１と同様に観察窓１０が設けられている。しかし、その構造は、上流側助走部３１と同様のため、ここでは、説明を省略する。
観察窓１０からは、上流側助走部３１内部もしくは下流側助走部３６内部の基板１２の搬送状況を観察することが可能である。
【００５５】
上流側助走部３１（図１参照）は、洗浄器架台１６の上部に設けられている。上流側助走部３１は、基板１２の上端および下端を基板１２の両側から支持しているサイドローラ５によって、基板１２を鉛直方向Ｚより例えば、θ＝０〜１５°より好ましくは９〜１０°傾斜するように支持している。また、基板１２の下端に設けられている搬送ローラ４は、傾斜している基板１２を上流側助走部３１から粗洗浄部３２（図１参照）、ブラシ洗浄部３３（図１参照）、リンス洗浄部３４（図１参照）、乾燥部３５（図１参照）、下流側助走部３６（図１参照）のようにＹ方向（図１参照）に搬送して基板搬出口３（図１参照）から搬出する。
【００５６】
傾斜するように支持されている基板１２は、発電層を設けられない受光面側１４が洗浄器フレーム１５に平行に対向している。基板１２の発電層を形成した製膜面側１３は、上流側助走部３１の本体カバー９に設けられている観察窓１０に対向している。
【００５７】
本体カバー９に設けられている観察窓１０には、観察窓１０から入射する屋内照明や屋外光のうち基板１２に設けられている発電層の発電に寄与する波長を遮断し、それ以外の波長を透過する赤色の透過光とするロングパスフィルタ（光透過手段）が設けられている。
【００５８】
観察窓１０は、例えば、その巾方向（図１に示すＹ方向）の長さが例えば、１．４ｍ×１．１ｍ×板厚：３．０ｍｍから４．５ｍｍの基板１２のＹ方向の長さの３分の１から２分の１であり、縦方向（図２に示すＺ方向）の長さが少なくとも基板１２のＺ方向の長さと略同等、好ましくは、上流側助走部３１のＺ方向の長さと略同等の長方形状とされている。
【００５９】
観察窓１０が設けられている本体カバー９には、その鉛直上方に外部に突出している天井照明遮断板（遮蔽板）１１が設けられている。天井照明遮断板１１は、基板洗浄器１が設けられている屋内の天井に設けられている天井照明器具（図示せず）から入射される屋内照明を遮断するものである。天井照明遮断板１１は、本体カバー９の外側であって観察窓１０の上部に設けられており、本体カバー９の外側に延在している。
【００６０】
ロングパスフィルタ（図示せず）は、略６５０ｎｍ以上の波長を透過し、波長６５０ｎｍ以下の短波長を約７０％以上遮断（反射や吸収）するカットフィルタであり、これによって、基板洗浄器１内を非晶質シリコンの発電量が少ない長波長の赤色光にすることができる。ロングパスフィルタによって短波長が遮断された赤色光は、非晶質シリコンだけでなく、非晶質シリコンと結晶質シリコンをタンデム接合した太陽電池の場合であっても、非晶質シリコン部分の発電量が少ない波長であるため、イオンマイグレーションを引き起こすような電圧を抑制可能な状況にすることができる。
なお、ロングパスフィルタは、略７００ｎｍ以上の波長を透過し、７００ｎｍ以下の波長を遮断（反射や吸収）すると、非晶質シリコン部分の発電量がより少なくなり、さらに好ましい。
【００６１】
このロングパスフィルタは、ロングパスフィルタを備えている観察窓１０からの入射光によって、基板洗浄器１の内部を搬送される基板１２の搬送状態を目視観察可能な光量となっている。
【００６２】
ここで、基板洗浄器１内を基板１２が通過する際の発生電位の推移と、基板１２の濡れ状態との関係について、図３を用いて説明する。
図３において、左側の縦軸は、本実施形態によって洗浄された基板１２を有する太陽電池モジュール全体の入射波長の一部を遮断していないときの開放電圧に対する基板洗浄器１内部での発生電圧の割合を示し、右側の縦軸は、基板１２の濡れ割合を示し、横軸は、基板１２が基板洗浄器１内を通過する経過時間の割合を示している。図３中の三角は、本実施形態の本体カバー９に赤色の透過光にするロングパスフィルタを有している観察窓１０を設けた場合を示し、図３中の四角は、本体カバー９に観察窓１０を設けなかった場合を示している。
【００６３】
基板１２上に電位差がある場合には、洗浄などによって基板１２に水が付着して電位差部に通電が生じることによってイオンマイグレーションが発生する。図３の四角に示すように、本体カバー９に観察窓１０を設けなかった場合には、上流側助走部３１（図３中の左側の助走）および下流側助走部３６（図３中の右側の助走）では、基板１２に形成された発電層に発生する電圧が基板洗浄器１の中心部である粗洗浄部３２、ブラシ洗浄部３３、リンス洗浄部３４、乾燥部３５に比べて高くなっている。このことから、基板搬入口２または基板搬出口３から上流側助走部３１または下流側助走部３６に屋内照明や屋外光が漏れ入っており、それらの光が基板１２に入射していることが分かる。
【００６４】
一方、上流側助走部３１または下流側助走部３６の本体カバー９にロングパスフィルタを有する観察窓１０を設けた場合（図中の三角）には、基板洗浄器１の上流側助走部３１または下流側助走部３６を除く位置においても、図３の四角で示す場合とほぼ同じ電圧発生状況となっている。
【００６５】
また、図３の三角で示す電圧は、上流側助走部３１においては、四角で示す電圧とほぼ同程度の電圧であり、下流側助走部３６においては、四角で示す電圧より少し高い電圧となっているが、上流側助走部３１または下流側助走部３６では基板１２に水が付着していないので、イオンマイグレーションは発生しない。
【００６６】
さらに、基板１２に水が付着している位置、すなわち上流側助走部３１または下流側助走部３６を除く位置では、太陽電池モジュール全体の入射波長の一部を遮断していないときの開放電圧に対する基板洗浄器１内部での発生電圧の割合が０．１以下を示し、粗洗浄部３２、乾燥部３５では、該割合が０．０５以下を示し、ブラシ洗浄部３３、リンス洗浄部３４では０．０１以下を示している。この結果、基板洗浄器１で洗浄処理した基板１２の発電層および太陽電池モジュールに集積するための分離溝や絶縁分離溝には、イオンマイグレーションが発生していないことが確認できた。
【００６７】
このため、基板１２に水が付着している位置では、太陽電池モジュール全体の入射波長の一部を遮断していないときの開放電圧に対する基板洗浄器１内部での発生電圧の割合が０．１（１／１０）以下であることが好ましく、該割合が０．０５以下であることがより好ましいと判断できる。
このことから、上流側助走部３１または下流側助走部３６にロングパスフィルタを有する観察窓１０を設けた場合であっても、基板１２に形成された発電層に入射される発電に寄与する光を増加させることなく洗浄処理が可能であることが分かる。
【００６８】
以上述べたように、本実施形態に係る基板洗浄器１によれば、以下の効果を奏する。
基板洗浄器（基板洗浄装置）１の内部を観察することが可能な観察窓１０を本体カバー（光遮断手段）９に設けることとした。さらに、観察窓１０には、観察窓１０から基板洗浄器１内に入射される屋内照明（光）や屋外光（光）のうち基板１２に形成された発電層の発電に寄与する主要な波長を遮断し、それ以外の波長を透過するロングパスフィルタ（光透過手段）を設けることとした。これらにより、基板１２に形成された発電層が発電する波長の屋内照明や屋外光が観察窓１０から基板洗浄器１内に入射することを抑制することができる。したがって、基板１２に形成された発電層の発電を抑制してイオンマイグレーションの発生を防止しつつ、基板洗浄器１内の基板１２の流動状態や基板洗浄器１の内部の様子を把握することが可能となる。
【００６９】
基板１２に水が付着している濡領域である粗洗浄部（洗浄部）３２、ブラシ洗浄部（洗浄部）３３、リンス洗浄部（洗浄部）３４や乾燥部３５を避けて、水が付着していない上流側助走部（搬入部）３１および下流側助走部（搬出部）３６を覆っている本体カバー９に観察窓１０を設けることとした。そのため、基板１２には水が付着していないので、洗浄工程における水により基板１２の電位差部に導通が生じることを防止することができる。したがって、イオンマイグレーションの発生を防止しつつ、基板１２の流動状態や基板洗浄器１の内部の様子の確認が可能となる。
【００７０】
観察窓１０を基板１２に設けられた発電層の製膜面側１３に対向している本体カバー９に設けることにした。そのため、発電層への入射光量を抑制して発電層が発電することを低減することができる。したがって、イオンマイグレーションの発生を防止することができる。
【００７１】
斜め鉛直方向になるように基板１２を基板洗浄器１内に設けることにした。そのため、基板洗浄器１の設置床面積のコンパクト化を図ることができる。したがって、基板洗浄器１の設置スペースを低減することができる。
【００７２】
観察窓１０の上方には、外部に突出している天井照明遮断板（遮蔽板）１１を設けることとした。そのため、基板洗浄器１が設けられる室内の天井照明灯（屋内照明）の入射を減光することができる。したがって、基板１２に設けられている発電層が発電することを抑制することができる。
【００７３】
ロングパスフィルタの光透過手段（図示せず）を用いることとした。これにより、基板洗浄器１内を非晶質シリコンの発電量が少ない長波長の赤色光にすることができる。そのため、基板１２に設けられた発電層における発電を抑制することができる。したがって、イオンマグレーションの発生を防止することができる。
【００７４】
基板１２に形成された発電層が発電するのに適した波長の光が観察窓１０から基板洗浄器１内に入射することが抑制可能な基板洗浄器１によって基板を洗浄することとして。したがって、発電層の発電に寄与が少ない波長領域光により、基板洗浄器１内の基板１２の流動状態や基板洗浄器１の内部の様子を把握しつつ基板１２を洗浄を行うことができる。
【００７５】
なお、本実施形態では、観察窓１０に設けられている赤色透過光にするロングパスフィルタによって遮断される波長は、発電に寄与する波長域（波長６５０ｎｍ以下の短波長側域）のみを選択的に遮断できるものとして説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、発電に寄与する全ての波長域を遮断するものであっても良い。
【００７６】
また、本実施形態では、光透過手段として赤色透過光にするロングパスフィルタを用いるとして説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、青色透過光にするショートパスフィルタであっても良い。
この場合には、基板洗浄器１内を結晶質シリコンが発電しない短波長側の青色光にすることができる。そのため、基板１２に設けられた発電層における発電を抑制することができる。したがって、イオンマグレーションの発生を防止することができる。
なお、青色透過光にする青色透過光にするショートパスフィルタは、４５０ｎｍ以下のショートパスフィルタであり、略４５０ｎｍ以下の波長を透過し、４５０ｎｍ以上の波長を７０％以上反射や吸収し遮断する。ショートパスフィルタは、略４００ｎｍ以下の波長を透過し、４００ｎｍ以上の波長を７０％以上反射や吸収し遮断するとさらに好ましい。
【００７７】
さらに、上記実施の形態では太陽電池として、例えば、太陽電池として微結晶シリコンをはじめとする結晶質シリコン太陽電池や、シリコンゲルマニウム太陽電池、また、アモルファスシリコン太陽電池と結晶質シリコン太陽電池やシリコンゲルマニウム太陽電池とを各１〜複数層に積層させた多接合型（タンデム型）太陽電池や単層の太陽電池のような種類の薄膜太陽電池にも同様に適用可能である。
更に本発明は、金属基板などのような非透光性基板上に製造された、基板１２とは反対の側から光が入射するタイプの太陽電池に適用する場合は、光透過手段を設けた観察窓１０を、受光面となる発電層の製膜面側１３の反対側である非透光性基板に対向している本体カバー９に設ければ、同様に適用可能である。
【００７８】
［第２実施形態］
本実施形態の基板洗浄器は、基板を横に搬送する横型の基板洗浄器である点で、第１実施形態と相違しその他は同様である。したがって、同一の構成については、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００７９】
以下、本発明の第２実施形態について、図４から図６を用いて説明する。
図４には、本発明の第２実施形態に係る横型の基板洗浄器の側面図が示されており、図５には、図４のＢ−Ｂ部における縦断面図が示されており、図６には、図４のＣ−Ｃ部における横断面図が示されている。
【００８０】
基板洗浄器（基板洗浄装置）１は、基板１２を水平に支持して、上流側助走部（搬入部）３１から粗洗浄部（洗浄部）３２、ブラシ洗浄部（洗浄部）３３、リンス洗浄部（洗浄部）３４、乾燥部３５、下流側助走部（搬出部）３６のように図４のＹ方向へと基板１２を搬送して基板搬出口３から基板洗浄器１の外へと搬出している。
【００８１】
基板１２は、図６に示すように、基板１２のＸ方向の両端を支持している搬送ローラ４によって、基板洗浄器１内に水平に設けられている洗浄器フレーム１５に平行になるように支持されている。搬送ローラ４によって水平に保持されている基板１２は、その受光面側１４が基板洗浄器１内の下方向（−Ｚ方向）に向いており、製膜面側１３が基板洗浄器１の天井方向（＋Ｚ方向）に向いていることとなる。
【００８２】
本体カバー（光遮断手段）９に設けられている観察窓１０は、基板１２の製膜面側１３であって、上流側助走部３１（図４、図６参照）を覆っている本体カバー９のＸ方向の側壁に設けられている。本体カバー９の側壁に設けられている観察窓１０は、縦方向（Ｚ方向）の長さが基板１２の製膜面側１３から基板洗浄器１の天井までの長さと略同等であり、巾方向（図４に示すＹ方向）の長さが基板１２のＹ方向の長さの３分の１から２分の１の長方形状とされている。
【００８３】
以上述べたように、本実施形態に係る基板洗浄器１によれば、以下の効果を奏する。
水平方向になるように基板１２を基板洗浄器（基板洗浄装置）１内に設けるため、発電層の受光面となる基板面側は基板洗浄器１の下方向（−Ｚ方向：床面側）に設けられ、基板洗浄器１の遮光が不十分な箇所からの室内照明などが発電層の受光面側１４へと入射する光量を低減することができる。
さらに、基板１２に設けられた発電層の製膜面側１３に観察窓１０を設けることにした。これにより、基板１２に形成された発電層の受光面側１４へと導入する光量を低減することができる。そのため、基板１２に形成された発電層が発電することを抑制することができる。したがって、イオンマイグレーションの発生を防止することができる。
【００８４】
水平方向になるように基板１２を基板洗浄器１内に設けることにした。そのため、基板１２に反り等の変形がある場合であっても、鉛直方向の基板自重がそのまま基板支持部分に作用して、基板支持部分からの基板浮きが抑制される。また、基板１２の反りが大きい場合には、基板１２を鉛直方向に設けた場合に生じ易くなる基板１２の基板転倒を防止することができる。したがって、基板１２の破損を低減することができる。
【００８５】
［第３実施形態］
本実施形態は、第２実施形態と基本的に同様であるが、第２実施形態とは、基板の受光面側の向きと反射鏡とを設ける点で、相違しその他は同様である。したがって、同一の構成については、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００８６】
以下、本発明の第３実施形態について、図７を用いて説明する。
図７には、本発明の第３実施形態に係る横型の基板洗浄器（基板洗浄装置）の上流側助走部（搬入部）における横断面図が示されている。
基板１２は、基板１２のＸ方向の両端を支持している搬送ローラ４によって、基板洗浄器内に水平に設けられている洗浄器フレーム１５に平行になるように支持されている。搬送ローラ４によって水平に保持されている基板１２は、その受光面側１４が基板洗浄器内の天井方向（＋Ｚ方向）に向いており、製膜面側１３が基板洗浄器内を鉛直方向下方向（−Ｚ方向）に向いていることとなる。
このような、基板１２の受光面側の向きは、基板１２の受光面側１４のみを集中して洗浄したい場合に、洗浄の容易さから有効な設置方向になる。
【００８７】
本体カバー（光遮断手段）９に設けられている観察窓１０は、基板１２の製膜面側１３であって、上流側助走部を覆っている本体カバー９の側壁に設けられている。本体カバー９の側壁に設けられている観察窓１０は、縦方向（Ｚ方向）の長さが基板１２の製膜面側１３から洗浄器架台１６の上面までの長さと略同等であり、巾方向の長さが基板１２の大きさの３分の１から２分の１の長方形状とされている。
【００８８】
観測窓１０と基板１２との間の空間にて、基板１２の製膜面側１３の下方には、反射鏡（鏡）１９が設けられている。反射鏡１９は、Ｘ方向の一端が洗浄器フレーム１５に接続されており、観察窓１０近傍の他端が洗浄器架台１６の上面に支持されて斜めに傾斜するように設けられている。すなわち、反射鏡１９は、観察窓１０に近づくにしたがって洗浄器架台１６の上面に近づくように傾斜していることとなる。このように観察窓１０の位置が基板１２の製膜面側１３鉛直方向下方向（−Ｚ方向）に設けられるために、直接には基板１２の搬送状況を確認しにくい位置関係となっても、反射鏡１９を傾斜させることによって、基板１２の製膜面側１３の状態を反射鏡１９に映し、観察窓１０から観察することが可能となる。
【００８９】
以上述べたように、本実施形態に係る基板洗浄器によれば、以下の効果を奏する。
基板１２に設けられた発電層の製膜面側１３を鉛直方向下方に向かうように基板１２を基板洗浄器（基板洗浄装置）内に設け、基板１２の製膜面側１３の下方の観測窓１０と基板１２との間の空間には、反射鏡（鏡）１９を設けることにした。そのため、反射鏡１９を介して基板１２に設けられた発電層の製膜面側１３を確認することができる。
【００９０】
［第４実施形態］
本実施形態の基板洗浄器は、赤色透過光にするロングパスフィルタを備えている観察窓の形状が異なり、観察窓には回転式遮蔽板が設けられる点で、第１実施形態と相違しその他は同様である。したがって、同一の構成については、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００９１】
以下、本発明の第４実施形態について、図８を用いて説明する。
図８には、本発明の第４実施形態に係る基板洗浄器に設けられている観察窓４０および観察窓４０に設けられている回転式遮蔽板４１が示されている。
【００９２】
本体カバー（図示せず）に設けられている観察窓４０は、その形状が円形状とされている。円形状の観察窓４０には、観察窓４０と略同径かつ同心円状にロングパスフィルタ（光透過手段）４２が設けられている。ロングパスフィルタ４２が設けられている観察窓４０には、観察窓４０およびロングパスフィルタ４２と略同径かつ同心円状の回転式遮蔽板（光量調整手段）４１が設けられている。
【００９３】
観察窓４０に設けられている回転式遮蔽板４１は、基板洗浄器（基板洗浄装置）の外側から観察窓４０を覆うように同心円状に設けられている。回転式遮断板４１は、ロングパスフィルタ４２と略同径かつ同心円状の光量調整手段用遮断板４１ａと、光量調整手段用遮蔽板４１ａに設けられている複数の開口部（開口）４１ｂと、ロングパスフィルタ４２上を光量調整手段用遮蔽板４１ａを円周方向に回動させる回動手段（図示せず）と、を備えている。
【００９４】
光量調整手段用遮断板４１ａは、ロングパスフィルタ４２と略同サイズの円形状とされている。円形状の光量調整手段用遮断板４１ａには、例えば、中心角が９０°の扇形状を形成している開口部４１ｂが二か所（複数）に設けられている。二か所の開口部４１ｂは、互いに１８０°の位置になるように光量調整手段用遮蔽板４１ａ上に設けられている。この扇形状の開口部４１ｂを介してロングパスフィルタ４２には、屋内照明（光）や屋外光（光）が入射する。また、光量調整手段用遮蔽板４１ａの開口していない部分によって、観察窓４０から基板洗浄器内に入射する屋内照明や屋外光の光量を低減することができる。
【００９５】
回動式遮蔽板４１は、その中心が観察窓４０の中心に固定されており、図示しない回動手段によって観察窓４０の円周方向に所定の速度で回転している。これにより、回動式遮蔽板４１に開口している開口部４１ｂからロングパスフィルタ４２および観察窓４０を介して屋内照明や屋外光が基板洗浄器内に入射する位置を時間によって変化させることができるので、基板１２の同じ位置に入射する光量を減光することができる。
すなわち、基板１２の流動状態や基板洗浄器１の内部の様子を把握するための観察を行なえる時間は連続している必要がないことから、回動式遮蔽板４１の開口部４１ｂ以外では、遮蔽される時間が生じることとなり、断続的な観察状況を確保しながら、基板洗浄器１内に入射する光量を一層減光して、基板１２の同じ位置に光が入射することを防止することができるので、発電層の発電をより一層に抑制することができる。
【００９６】
さらに、円形状の観察窓４０と略同径かつ同心円状に設置されているロングパスフィルタ４２は、開口部４１ｂ面積が小さく、基板洗浄器１に入射する光量が十分に少ない場合は、ロングパスフィルタ４２を設置せずに、観察窓４０に開口部４１ｂと略同形状の開口を設けても良い。
ロングパスフィルタ４２を省略することで、構造が簡易になりコストダウンすることができるので、好ましい。
【００９７】
以上述べたように、本実施形態に係る基板洗浄器によれば、以下の効果を奏する。
観察窓４０には、観察窓４０と略同径かつ同心円状であり二か所（複数）の開口部（開口）４１ｂを有している光量調整手段用遮蔽板４１ａと、光量調整手段用遮蔽板４１ａを回動させる回動手段（図示せず）と、を備えている回転式遮蔽板（光量調整手段）４１を設けることとした。これにより、観察窓４０から基板洗浄器（基板洗浄装置）内に入射する光量を減光することができる。また、回動手段によって光量調整手段用遮蔽板４１ａに設けられている開口部４１ｂを回動させることができるので、基板１２上に入射される屋内照明（光）や屋外光（光）の位置を変えることができる。したがって、基板１２の同じ位置に屋内照明や屋外光が入射することを抑制しつつ、基板１２に設けられた発電層が発電することを一層抑制することができる。また、観察窓４０には、観察窓４０と略同径かつ同心円状の赤色透過光にするロングパスフィルタ（光透過手段）４２を備えると、より一層に屋内照明や屋外光が入射することを抑制しつつ、基板１２に設けられた発電層が発電することをより一層抑制することができる。
【００９８】
［第５実施形態］
本実施形態の基板洗浄器は、観察窓の開口形状、および赤色透過光にするロングパスフィルタの形状が異なっている点で第４実施形態と相違しその他は同様である。したがって、同一の構成については、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００９９】
以下、本発明の第５実施形態について、図９を用いて説明する。
図９には、本発明の第５実施形態に係る基板洗浄器に設けられている観察窓４０に設けられている赤色透過光にするロングパスフィルタ４３と、回転式遮蔽板４１とが示されている。
【０１００】
観察窓４０には、回転式遮蔽板（光量調整手段）４１に設けられている二か所の開口部（開口）４１ｂと略同形状であるロングパスフィルタ（光透過手段）４３が二か所に設けられている。ロングパスフィルタ４３は、例えば、中心角が９０°の扇形状を形成している。ロングパスフィルタ４３は、互いに１８０°の位置になるように、観察窓４０上に二か所に設けられている。回動手段（図示せず）により所定の速度によって回転式遮蔽板４１が回転して回転式遮蔽板４１の開口部４１ｂとロングパスフィルタ４３とが重なることにより、屋内照明（光）や屋外光（光）が基板洗浄器（基板洗浄装置）内に入射する位置を時間によって変化させることができる。
なお、開口部４１ｂが小さく、基板洗浄器１に入射する光量が十分に少ない場合は、ロングパスフィルタ４３は設置せずに、観察窓４０に開口部４１ｂと略同形状の開口を設けても良い。ロングパスフィルタ４３を省略することで、構造が簡易になりコストダウンすることができるので、好ましい
【０１０１】
以上述べたように、本実施形態に係る基板洗浄器によれば、以下の効果を奏する。
回転式遮蔽板（光量調整手段）４１に設けられている開口部（開口）４１ｂと略同形状の赤色フィルタ（光透過手段）４３を用いることとした。これにより、回転式遮蔽板４１の開口していない光量調整手段用遮蔽板４１ａによってロングパスフィルタ４３に入射する光を遮蔽する時間を設けることができる。そのため、基板洗浄器（基板洗浄装置）内に入射する光量を一層減光して、基板１２の同じ位置に屋内照明（光）や屋外光（光）が入射することを防止することができる。したがって、基板１２に設けられた発電層が発電することをより一層抑制することができる。
【０１０２】
［第６実施形態］
本実施形態の基板洗浄器は、ＬＥＤライトを有する点で第１実施形態と相違しその他は同様である。したがって、同一の構成については、同一の符号を付してその説明を省略する。
【０１０３】
以下、本発明の第６実施形態について、図１０を用いて説明する。
図１０には、本発明の第６実施形態に係る縦型の基板洗浄器の横断面図が示されている。
赤色透過光とするロングパスフィルタ（光透過手段）には、ＬＥＤライト（局所照射手段）４５が観察窓１０に基板洗浄器（基板洗浄装置）の外側から密着するように設けられている。ＬＥＤライト４５は、例えば、２箇所に設けられており、本体カバー（光遮断手段）９の天井と側壁との交わる角部と、洗浄器架台１６と本体カバー９の側壁との接合部とに設けられている。
【０１０４】
ＬＥＤライト４５は、局所照射を発する光照射部（光源）４５ａと、光照射部４５ａの照射位置を変えることが可能な保持アーム（保持手段）４５ｂと、を備えている。光照射部４５ａは、基板１２に形成された発電層の発電に寄与する波長域のすくなくとも一部の波長域を除いた波長の光を局所的に照射するものであり、ここでは、赤色光とされている。光照射部４５ａは、ロングパスフィルタ（図示せず）に基板洗浄器の外側から密着するように設けられている。これによって、光照射部４５ａから照射される赤色光の反射光の発生を防止している。保持アーム４５ｂは、上下左右方向に可変可能な蛇腹状となっている。これによって、光照射部４５ａから照射される赤色の照射光を任意の位置に照射することができる。
【０１０５】
以上述べたように、本実施形態に係る基板洗浄器によれば、以下の効果を奏する。
局所的に基板１２に設けられた発電層の発電に寄与する波長域のすくなくとも一部の波長域を除いた波長の光を照射するＬＥＤライト（局所照射手段）４５をロンングパスフィルタ（光透過手段）に設けることとした。そのため、基板洗浄器（基板洗浄装置）の内部観察が困難な箇所に限定して、基板１２への入射光量を増加することなく、発電層の発電を抑制しながら、視認性を向上させることができる。
【０１０６】
光照射部（光源）４５ａと、光照射部４５ａが照射される照射位置を変えることが可能な保持アーム（保持手段）４５ｂと、を有しているＬＥＤライト４５を用いることとした。そのため、ＬＥＤライト４５によって、基板洗浄器内部の任意の位置に限定してより局所的に照射することができる。したがって、照射位置をより限定して、基板１２への入射光量を増加することなく、発電層の発電を抑制しながら、基板洗浄器の内部の視認性を更に向上させることができる。
【０１０７】
なお、ここでは、光照射部４５ａから照射される光は、赤色光として説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、光透過手段を青色透過光にするショートパスフィルタであっても良い。
【符号の説明】
【０１０８】
１ 基板洗浄器（基板洗浄装置）
２ 基板搬入口
３ 基板搬出口
９ 本体カバー（光遮断手段）
１０ 観察窓
１２ 基板
３１ 上流側助走部（搬入部）
３２ 粗洗浄部（洗浄部）
３３ ブラシ洗浄部（洗浄部）
３４ リンス洗浄部（洗浄部）
３５ 乾燥部
３６ 下流側助走部（搬出部）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発電層を形成した基板の洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、太陽電池等の光電変換装置として、シリコン系薄膜光電変換装置が知られている。この光電変換装置は、一般に、透光性基板上に、透明電極、シリコン系半導体層（光電変換層）および裏面電極を順次積層したものである。半導体層は、ｐ型、ｉ型及びｎ型の半導体材料によって形成されるｐｉｎ接合を有している。光電変換装置が太陽電池とされた場合では、このｐｉｎ接合がエネルギー変換部となって、太陽光の光エネルギーを電気エネルギーに変換する。
【０００３】
この光電変換装置の光電変換層が形成された後の基板洗浄工程、特にシリコン系薄膜光電変換装置として太陽電池モジュールが形成されて、透明電極と裏面電極との間で光起電力を発生可能な状態となった後の基板洗浄工程においては、光から完全に遮蔽された基板洗浄装置内で基板の洗浄が行なわれることにより、基板洗浄工程中に太陽電池が光起電力を生じないようにしてイオンマイグレーションによる短絡を防止することが提案されている。
【０００４】
特許文献１には、電気的に直列接続された複数の光電変換セルのうち正極と負極のセルまたはそれらに近いセルと周縁領域との間を周縁分離溝によって完全に分離せずに電気的にショートさせ、基板洗浄工程を完了した後に完全な周縁分離溝を形成することによって電気的ショートを除去し、イオンマイグレーションによる周縁分離溝中での光電変換セル集積領域と周縁領域との短絡を防止することが開示されている。
【０００５】
また、正極および負極のセルと周縁分離溝によって完全に正極および負極のセルから分離した周縁領域との間をリード線といった導電体を用いて電気的にショートさせ、基板洗浄工程を完了した後に導電体を取り除くことによって電気的ショートを除去し、イオンマイグレーションによる光電変換セル集積領域と周縁領域との短絡を防止するようになっている。
【０００６】
特許文献２には、基板洗浄装置内に赤色照明を設置して、光電変換層が主として発電する波長の光を除外することにより、イオンマイグレーションによる短絡を防止することが開示さている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−２０９４７７号公報
【特許文献２】国際公開第２００９／０２２４１４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、特許文献１に記載の発明では、基板洗浄工程を完了した後に完全な周縁分離溝を形成したり、導電体を基板洗浄工程後に完全に切り離したり除去する工程を追加する必要があり、量産工程には煩雑さが増加して適していないという欠点がある。
【０００９】
さらに、特許文献１に記載の発明では、太陽電池の基板洗浄工程を光遮蔽ガードで包囲された基板洗浄装置内で光起電力が生じないようにして行っているため、基板洗浄装置内を観察することができず連続的な工程処理において基板の破損や基板洗浄装置の不具合の発見が遅れてしまい稼働率の低下の要因になる恐れがある。また、完全な光遮蔽ガードで基板洗浄装置を包囲することは、装置のコストアップをまねき、好ましくない。
【００１０】
また、特許文献２に記載の発明では、屋内照明や屋外光が入射する窓部や隙間に赤色フィルタを設けることについて開示されているが、具体的な赤色フィルタの設置場所などについては開示されておらず、効果的なイオンマイグレーションの防止には十分ではない。
【００１１】
本発明は、基板洗浄工程中に電析の発生を防止しつつ基板の状態を観察することが可能な基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために、本発明の基板洗浄装置は、以下の手段を採用する。
すなわち、本発明に係る基板洗浄装置によれば、発電層が形成された基板を洗浄する洗浄部と、該洗浄部の上流側に設けられて、前記基板を基板搬入口から前記洗浄部に搬入する搬入部と、前記洗浄部の下流側に設けられて、該洗浄部によって洗浄された前記基板の前記発電層を乾燥させる乾燥部と、該乾燥部の下流側に設けられて乾燥した前記基板を基板搬出口へ搬出する搬出部と、前記基板搬入口を除く前記搬入部、前記洗浄部、前記乾燥部、前記基板搬出口を除く前記搬出部内に入射する光を遮断する光遮断手段と、該光遮断手段に設けられる観察窓と、該観察窓に設けられて、該観察窓から入射する光のうち、前記発電層の発電に寄与する波長の少なくとも一部を遮断し、前記発電層の発電電圧を、前記波長の少なくとも一部を遮光しない場合の前記発電電圧の１／１０以下にする光透過手段と、を備えることを特徴とする。
【００１３】
イオンマイグレーション（電析）による太陽電池の一部のセルでの短絡は、発電層に接続する各電極に電位差があり、発電層が水洗された際の水の存在により主として裏面電極層の金属が分離溝部分に電析することで発生し、太陽電池の性能が低下する。そのため、イオンマイグレーションを抑制するために、基板洗浄装置の搬入部から搬出部に至るまでの光の入射を完全に遮断する光遮断手段を設けることによって、基板に形成された発電層が発電することを抑制する場合がある。しかし、搬入部から搬出部に至るまでに光遮断手段を設けているため、基板洗浄装置内の基板の流動状態や基板洗浄装置の内部の様子を把握することが困難となる。さらに、連続して基板が搬送される基板の搬入・搬出部分においては、光遮断手段は大掛かりなものとなり、洗浄装置のコストアップが危惧される。
【００１４】
そこで、基板洗浄装置の内部を観察することが可能な観察窓を光遮断手段に設けることとした。さらに、観察窓には、観察窓から基板洗浄装置内に入射される光のうち発電層の発電に主に寄与する波長領域を遮断し、それ以外の波長を透過する光透過手段を設けることとした。これらにより、基板に形成された発電層が発電するのに適した波長の光が観察窓から基板洗浄装置内に入射することを抑制することができる。したがって、発電層の発電を抑制してイオンマイグレーションの発生を防止しつつ、発電層の発電に寄与が少ない波長領域光により、基板洗浄装置内の基板の流動状態や基板洗浄装置の内部の様子を把握することが可能となる。
なお、光透過手段によって遮断する波長は、発電に寄与する全ての波長域でなくても良く、例えば、主として発電に寄与する波長域のみを選択的に遮断し、発電に寄与する波長域のもとで発生する光電層の電圧に比べて、１／１０以下に電圧が低下できれば良い。
また、光電変換層の電圧が上記１／１０以上であっても、光電変換層の周囲に水分が無く乾燥していれば良い。
【００１５】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記観察窓は、前記搬入部および前記搬出部に設けられることを特徴とする。
【００１６】
基板濡領域である洗浄部や乾燥部を避けて搬入部と搬出部とに観察窓を設けることとした。そのため、乾燥した基板が通過する搬入部と搬出部とにおいて発電層が多少の発電を生じた場合であっても、水による導通の発生を防止することができる。したがって、イオンマイグレーションの発生を防止しつつ、基板の流動状態や基板洗浄装置の内部の様子を把握することが可能となる。
【００１７】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記基板に対して前記発電層を形成された製膜面側に設けることを特徴とする。
【００１８】
発電層が形成された基板は、光を受光して、発電に寄与する面である受光面と、受光面と反対側の面であって、光を受光しても発電しない面である製膜面と、を有することとなる。
そこで、基板に設けられた発電層となる製膜面側に観察窓を設けることにした。すなわち、発電層には、受光面となる基板面側とは逆方向に観測窓が設けられる。これにより、発電層の受光面側へと入射する光量を低減し、発電層が発電することを抑制することができる。したがって、イオンマイグレーションの発生を防止することができる。
【００１９】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記基板は、斜め鉛直方向に設けることを特徴とする。
【００２０】
斜め鉛直方向になるように基板を基板洗浄装置内に設けることにした。そのため、設置床面積において基板洗浄装置のコンパクト化を図ることができる。したがって、基板洗浄装置の設置スペースを低減することができる。
【００２１】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記基板は、水平方向に設けることを特徴とする。
【００２２】
水平方向になるように基板を基板洗浄装置内に設けることにした。そのため、基板に反り等の変形がある場合であっても、全ての基板自重が基板支持部分に作用して、基板支持部分からの基板浮きが抑制される。また、基板の反りが大きい場合には、基板を鉛直方向に設けた場合に生じ易くなる基板搬送中の基板転倒を防止することができる。したがって、基板の破損を低減することができる。
【００２３】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記基板洗浄装置内で水平方向になるように設けた前記基板は、前記発電層の製膜面側を鉛直上方に向かって設けることを特徴とする。
【００２４】
基板洗浄装置内に基板を水平方向になるように設け、さらに発電層の製膜面側を鉛直方向上方に向かうように基板洗浄装置内に基板を設けるので、発電層の受光面となる基板面側は基板洗浄装置の下方向（床面側）に設けられる。そのため、基板洗浄装置の遮光が不十分な箇所からの室内照明などが発電層の受光面側へと入射する光量を低減し、発電層が発電することを抑制することができる。したがって、イオンマイグレーションの発生を防止することができる。
【００２５】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記基板洗浄装置内で水平方向になるように設けた前記基板は、前記発電層の製膜面側を鉛直下方に向かって設け、該発電層の下方には、前記観測窓と前記基板との間に、鏡を設けることを特徴とする。
【００２６】
基板洗浄装置内に基板を水平方向になるように設け、さらに発電層の製膜面側を鉛直方向下方に向かうように基板洗浄装置内に基板を設け、観測窓と基板との間の空間にて基板の下方には鏡を設けることにした。そのため、発電層の製膜面側の状況を鏡を介して観察窓から確認することができる。
【００２７】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記観察窓には、その鉛直上方に外部に突出する遮蔽板を設けることを特徴とする。
【００２８】
観察窓の鉛直上方には、外部に突出する遮蔽板を設けることとした。そのため、基板洗浄装置が設けられる室内の天井照明灯から基板洗浄装置内への入射光を減光することができる。したがって、発電層が発電することをより抑制することができる。
【００２９】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記観察窓および前記光透過手段は、略同径かつ同心円状に設けられており、該光透過手段は、透過する光量を調整する光量調整手段を有し、該光量調整手段は、前記光透過手段と略同径かつ同心円状の光量調整手段用遮蔽板と、該光量調整手段用遮蔽板に設けられる複数の開口と、前記光量調整手段用遮蔽板を円周方向に回動する回動手段と、を備えることを特徴とする。
【００３０】
観察窓には、観察窓と略同径かつ同心円状の光透過手段を備え、光透過手段には、光透過手段と略同径かつ同心円状であり複数の開口を有する光量調整手段用遮蔽板と光量調整手段用遮蔽板を回動させる回動手段とを備える光量調整手段を設けることとした。これにより、観察窓から基板洗浄装置内に入射する光量を減光することができる。また、回動手段によって光量調整手段用遮蔽板に設けられた開口を回動させることができるので、基板上に入射される光の位置を変えることができるので、実質の入射光量を減光することができる。したがって、基板の同じ位置に光が入射することを防止しつつ、発電層の発電を一層抑制することができる。
【００３１】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記光透過手段は、前記光量調整手段に設けられる開口と略同形状であることを特徴とする。
【００３２】
光量調整手段に設けられる開口と略同形状の光透過手段を用いることとした。これにより、光透過手段が光量調整手段の開口していない光量調整手段用遮蔽板によって遮蔽される時間が生じることとなる。そのため、基板の流動状態や基板洗浄装置の内部の様子を把握するための観察を行なえる時間は連続している必要がなく、断続的な観察を確保しながら、基板洗浄装置内に入射する光量を一層減光して、基板の同じ位置に光が入射することを防止することができる。したがって、発電層の発電をより一層抑制することができる。
【００３３】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記光透過手段は、前記発電層の発電に寄与する波長域のすくなくとも一部の波長域を除いた波長の光を局所的に照射する局所照射手段を備えることを特徴とする。
【００３４】
局所的に発電層の発電に寄与する波長域の少なくとも一部を除いた波長の光を照射する局所照射手段を備える光透過手段を用いることとした。そのため、発電層の発電を抑制しながら、基板洗浄装置の内部観察が困難な箇所の視認性を向上させることができる。
【００３５】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記局所照射手段は、光源と、該光源の照射位置を変えることが可能な保持手段と、を有することを特徴とする。
【００３６】
光源と光源が照射する位置を変えることが可能な保持手段とを有する局所照射手段を用いることとした。そのため、任意の位置に更に局所的に限定して照射することができる。したがって、発電層の発電をより抑制しながら、基板洗浄装置の内部観察が困難な箇所をより限定して、視認性を向上させることができる。
【００３７】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記光透過手段は、６５０ｎｍ以上の波長を透過するロングパスフィルタであることを特徴とする。
【００３８】
６５０ｎｍ以上の波長を透過するロングパスフィルタの光透過手段を用いることとした。これにより、基板洗浄装置内を非晶質シリコンの発電量が少ない長波長の赤色光にすることができる。そのため、非晶質シリコンを含む発電層における発電を抑制することができる。したがって、イオンマグレーションの発生を防止することができる。
なお、６５０ｎｍ以上のロングパスフィルタとは、略６５０ｎｍ以上の波長を透過し、６５０ｎｍ以下の波長を７０％以上反射や吸収して遮断する。ロングパスフィルタは、略７００ｎｍ以上の波長を透過し、７００ｎｍ以下の波長を７０％以上反射や吸収して遮断するとさらに好ましい。
【００３９】
さらに、本発明に係る基板洗浄装置によれば、前記光透過手段は、４５０ｎｍ以下の波長を透過するショートパスフィルタであることを特徴とする。
【００４０】
青色フィルタの光透過手段を用いることとした。これにより、基板洗浄装置内を結晶質シリコンが発電しない短波長の青色光にすることができる。そのため、発電層における発電を抑制することができる。したがって、イオンマグレーションの発生を防止することができる。
なお、４５０ｎｍ以下のショートパスフィルタとは、略４５０ｎｍ以下の波長を透過し、４５０ｎｍ以上の波長を７０％以上反射や吸収し遮断する。ショートパスフィルタは、略４００ｎｍ以下の波長を透過し、４００ｎｍ以上の波長を７０％以上反射や吸収し遮断するとさらに好ましい。
【００４１】
さらに、本発明に係る基板の洗浄方法によれば、前記基板の前記発電層を洗浄する洗浄部と、該洗浄部の上流側に設けられて、前記基板を基板搬入口から前記洗浄部に搬入する搬入部と、前記洗浄部の下流側に設けられて、該洗浄部によって洗浄された前記基板の前記発電層を乾燥させる乾燥部と、該乾燥部の下流側に設けられて乾燥した前記基板を基板搬出口へ搬出する搬出部と、前記基板搬入口を除く前記搬入部、前記洗浄部、前記乾燥部、前記基板搬出口を除く前記搬出部内に入射する光を遮断する光遮断手段と、該光遮断手段に設けられる観察窓と、該観察窓に設けられて、該観察窓から入射する光のうち、前記発電層の発電に寄与する波長の少なくとも一部を遮断し、前記発電層の発電電圧を、前記波長の少なくとも一部を遮光しない場合の前記発電電圧の１／１０以下にする光透過手段と、を備える基板洗浄装置によって前記基板を洗浄することを特徴とする。
【００４２】
基板に形成された発電層が発電するのに適した波長の光が観察窓から基板洗浄装置内に入射することが抑制可能な基板洗浄装置によって基板を洗浄することとして。したがって、発電層の発電に寄与が少ない波長領域光により、基板洗浄装置内の基板の流動状態や基板洗浄装置の内部の様子を把握しつつ基板を洗浄を行うことができる。
【発明の効果】
【００４３】
基板洗浄装置の内部を観察することが可能な観察窓を光遮断手段に設けることとした。さらに、観察窓には、観察窓から基板洗浄装置内に入射される光のうち特に発電層の発電に寄与する波長を遮断し、それ以外の波長を透過する光透過手段を設けることとした。これらにより、基板に形成された発電層が主として発電する波長の光が観察窓から基板洗浄装置内に入射することを抑制することができる。したがって、発電層の発電を抑制してイオンマイグレーションの発生を防止しつつ、基板洗浄装置内の基板の流動状態や基板洗浄装置の内部の様子を把握することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の第１実施形態に係る縦型の基板洗浄器の平面図である。
【図２】図１に示す縦型の基板洗浄器のＡ−Ａ部における横断面図である。
【図３】図１に示した基板洗浄器内通過時における基板の電位発生状況の推移と、基板の濡れ状態とを示すグラフである。
【図４】本発明の第２実施形態に係る横型の基板洗浄器の側面図である。
【図５】図４に示す横型の基板洗浄器のＢ−Ｂ部における縦断面図である。
【図６】図４に示す横型の基板洗浄器のＣ−Ｃ部における横断面図である。
【図７】本発明の第３実施形態に係る横型の基板洗浄器の横断面図である。
【図８】本発明の第４実施形態に係る基板洗浄器に設けられる観察窓と赤色フィルタとを示す図である。
【図９】本発明の第５実施形態に係る基板洗浄器に設けられる観察窓と赤色フィルタとを示す図である。
【図１０】本発明の第６実施形態に係る縦型の基板洗浄器の横断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４５】
［第１実施形態］
以下、本発明の第１実施形態について、図１から図３を用いて説明する。
太陽電池に用いられる発電層が形成された基板１２は、図１および図２に示すように、基板１２に発電層が形成された後に、本実施形態に係る基板洗浄器（基板洗浄装置）１によって基板１２の洗浄が行われる。
【００４６】
基板洗浄器１は、基板洗浄器１の外周を覆っている本体カバー（光遮断手段）９の内部に、面積が１ｍ２を超える大型の基板１２を搬送する搬送ローラ４を有している。基板洗浄器１は、その外周を本体カバー９によって覆われている。本体カバー９によって覆われている基板洗浄器１の内部には、基板搬送方向上流側から、上流側助走部（搬入部）３１、粗洗浄部（洗浄部）３２、ブラシ洗浄部（洗浄部）３３、リンス洗浄部（洗浄部）３４、乾燥部３５、下流側助走部（搬出部）３６が設けられている。上流側助走部３１、粗洗浄部３２、ブラシ洗浄部３３、リンス洗浄部３４、乾燥部３５、下流側助走部３６があり、これらは、洗浄器架台１６（図２参照）の上部に設けられている。
【００４７】
本体カバー９は、基板搬入口２を除く上流側助走部３１、粗洗浄部３２、ブラシ洗浄部３３、リンス洗浄部３４、乾燥部３５、基板搬出口３を除く下流側助走部３６内に入射する屋内照明（光）や屋外光（光）を遮断している。本体カバー９としては、例えば、非光透過板や暗幕などが用いられる。基板洗浄器１の外周を本体カバー９が覆っても良いが、基板洗浄器１の外周自体が本体カバーと一体化して、光を透過しない非光透過板で構成した構造となっていて光を遮断していても良い。
【００４８】
上流側助走部３１は、粗洗浄部３２の上流側に設けられている。上流側助走部３１は、基板搬入口２から搬入された基板１２を粗洗浄部３２へと搬送する。上流側助走部３１には、基板搬入口２から漏れ入る屋内照明や屋外光が入射する。そのため、上流側助走部３１は、基板搬入口２から粗洗浄部３２に近づくにしたがって入射する光が遮断されるような長さを有している。
【００４９】
粗洗浄部３２は、上流側助走部３１の下流側に設けられている。粗洗浄部３２には、高圧の純水を噴射するための純水スプレーノズル６が設けられている。純水スプレーノズル６は、基板１２に対して−Ｘ側および＋Ｘ側の両側に設けられている。この純水スプレーノズル６から、高圧の純水（例えば、０．２ＭＰａ〜１．０ＭＰａ）が基板１２に対して噴射される。このように、粗洗浄部３２では、高圧で吹き付けられる純水によって基板１２の洗浄が行われる。
純水は、洗浄能力から、比抵抗が１０ＭΩ・ｃｍ以上であることが好ましい。
【００５０】
ブラシ洗浄部３３は、粗洗浄部３２の下流側に設けられている。ブラシ洗浄部３３には、純水スプレーノズル６とロールブラシ７とが設けられている。純水スプレーノズル６は、基板１２に対して−Ｘ側および＋Ｘ側の両側に設けられており、高圧の純水（例えば、０．２ＭＰａ〜１．０ＭＰａ）を基板１２に対して噴射する。ロールブラシ７は、基板１２に対して−Ｘ側および＋Ｘ側の両側に設けられている。基板１２に対してロールブラシ７が押し付けられ、基板１２の表面を擦ることにより、基板１２の表面が洗浄される。
【００５１】
リンス洗浄部３４は、粗洗浄部３２の下流側に設けられている。リンス洗浄部３４では、純水を噴射させるための純水スプレーノズル６が設けられている。純水スプレーノズル６は、基板１２に対して−Ｘ側および＋Ｘ側の両側に設けられている。この純水スプレーノズル６から、純水（比抵抗値１０ＭΩ・ｃｍ以上）が基板１２に対して噴射される。
【００５２】
乾燥部３５は、リンス洗浄部３４の下流側に設けられている。リンス洗浄部３４では、粗洗浄部３２、ブラシ洗浄部３３、リンス洗浄部３４により洗浄された基板１２を乾燥させる空気が水切りブロア８から吹き付けられる。水切りブロア８は、基板１２に対して−Ｘ側および＋Ｘ側の両側に設けられている。これにより、基板１２上の水が除去されて乾燥される。
【００５３】
下流側助走部３６は、乾燥部３５の下流側に設けられている。下流側助走部３６は、乾燥部３５から搬送された乾燥した基板１２を基板搬出口３から基板洗浄器１外へ搬出する。下流側助走部３６には、基板搬出口３から漏れ入る屋内照明や屋外光が入射する。そのため、下流側助走部３６は、基板搬出口３から乾燥部３５に近づくにしたがって入射する光が遮断されるような長さを有している。
【００５４】
図２には、図１に示したＡ−Ａ部における上流側助走部３１の縦断面図が示されている。
なお、以下、上流側助走部３１の本体カバー９に観察窓１０を設けることについて説明するが、下流側助走部３６の本体カバー９にも上流側助走部３１と同様に観察窓１０が設けられている。しかし、その構造は、上流側助走部３１と同様のため、ここでは、説明を省略する。
観察窓１０からは、上流側助走部３１内部もしくは下流側助走部３６内部の基板１２の搬送状況を観察することが可能である。
【００５５】
上流側助走部３１（図１参照）は、洗浄器架台１６の上部に設けられている。上流側助走部３１は、基板１２の上端および下端を基板１２の両側から支持しているサイドローラ５によって、基板１２を鉛直方向Ｚより例えば、θ＝０〜１５°より好ましくは９〜１０°傾斜するように支持している。また、基板１２の下端に設けられている搬送ローラ４は、傾斜している基板１２を上流側助走部３１から粗洗浄部３２（図１参照）、ブラシ洗浄部３３（図１参照）、リンス洗浄部３４（図１参照）、乾燥部３５（図１参照）、下流側助走部３６（図１参照）のようにＹ方向（図１参照）に搬送して基板搬出口３（図１参照）から搬出する。
【００５６】
傾斜するように支持されている基板１２は、発電層を設けられない受光面側１４が洗浄器フレーム１５に平行に対向している。基板１２の発電層を形成した製膜面側１３は、上流側助走部３１の本体カバー９に設けられている観察窓１０に対向している。
【００５７】
本体カバー９に設けられている観察窓１０には、観察窓１０から入射する屋内照明や屋外光のうち基板１２に設けられている発電層の発電に寄与する波長を遮断し、それ以外の波長を透過する赤色の透過光とするロングパスフィルタ（光透過手段）が設けられている。
【００５８】
観察窓１０は、例えば、その巾方向（図１に示すＹ方向）の長さが例えば、１．４ｍ×１．１ｍ×板厚：３．０ｍｍから４．５ｍｍの基板１２のＹ方向の長さの３分の１から２分の１であり、縦方向（図２に示すＺ方向）の長さが少なくとも基板１２のＺ方向の長さと略同等、好ましくは、上流側助走部３１のＺ方向の長さと略同等の長方形状とされている。
【００５９】
観察窓１０が設けられている本体カバー９には、その鉛直上方に外部に突出している天井照明遮断板（遮蔽板）１１が設けられている。天井照明遮断板１１は、基板洗浄器１が設けられている屋内の天井に設けられている天井照明器具（図示せず）から入射される屋内照明を遮断するものである。天井照明遮断板１１は、本体カバー９の外側であって観察窓１０の上部に設けられており、本体カバー９の外側に延在している。
【００６０】
ロングパスフィルタ（図示せず）は、略６５０ｎｍ以上の波長を透過し、波長６５０ｎｍ以下の短波長を約７０％以上遮断（反射や吸収）するカットフィルタであり、これによって、基板洗浄器１内を非晶質シリコンの発電量が少ない長波長の赤色光にすることができる。ロングパスフィルタによって短波長が遮断された赤色光は、非晶質シリコンだけでなく、非晶質シリコンと結晶質シリコンをタンデム接合した太陽電池の場合であっても、非晶質シリコン部分の発電量が少ない波長であるため、イオンマイグレーションを引き起こすような電圧を抑制可能な状況にすることができる。
なお、ロングパスフィルタは、略７００ｎｍ以上の波長を透過し、７００ｎｍ以下の波長を遮断（反射や吸収）すると、非晶質シリコン部分の発電量がより少なくなり、さらに好ましい。
【００６１】
このロングパスフィルタは、ロングパスフィルタを備えている観察窓１０からの入射光によって、基板洗浄器１の内部を搬送される基板１２の搬送状態を目視観察可能な光量となっている。
【００６２】
ここで、基板洗浄器１内を基板１２が通過する際の発生電位の推移と、基板１２の濡れ状態との関係について、図３を用いて説明する。
図３において、左側の縦軸は、本実施形態によって洗浄された基板１２を有する太陽電池モジュール全体の入射波長の一部を遮断していないときの開放電圧に対する基板洗浄器１内部での発生電圧の割合を示し、右側の縦軸は、基板１２の濡れ割合を示し、横軸は、基板１２が基板洗浄器１内を通過する経過時間の割合を示している。図３中の三角は、本実施形態の本体カバー９に赤色の透過光にするロングパスフィルタを有している観察窓１０を設けた場合を示し、図３中の四角は、本体カバー９に観察窓１０を設けなかった場合を示している。
【００６３】
基板１２上に電位差がある場合には、洗浄などによって基板１２に水が付着して電位差部に通電が生じることによってイオンマイグレーションが発生する。図３の四角に示すように、本体カバー９に観察窓１０を設けなかった場合には、上流側助走部３１（図３中の左側の助走）および下流側助走部３６（図３中の右側の助走）では、基板１２に形成された発電層に発生する電圧が基板洗浄器１の中心部である粗洗浄部３２、ブラシ洗浄部３３、リンス洗浄部３４、乾燥部３５に比べて高くなっている。このことから、基板搬入口２または基板搬出口３から上流側助走部３１または下流側助走部３６に屋内照明や屋外光が漏れ入っており、それらの光が基板１２に入射していることが分かる。
【００６４】
一方、上流側助走部３１または下流側助走部３６の本体カバー９にロングパスフィルタを有する観察窓１０を設けた場合（図中の三角）には、基板洗浄器１の上流側助走部３１または下流側助走部３６を除く位置においても、図３の四角で示す場合とほぼ同じ電圧発生状況となっている。
【００６５】
また、図３の三角で示す電圧は、上流側助走部３１においては、四角で示す電圧とほぼ同程度の電圧であり、下流側助走部３６においては、四角で示す電圧より少し高い電圧となっているが、上流側助走部３１または下流側助走部３６では基板１２に水が付着していないので、イオンマイグレーションは発生しない。
【００６６】
さらに、基板１２に水が付着している位置、すなわち上流側助走部３１または下流側助走部３６を除く位置では、太陽電池モジュール全体の入射波長の一部を遮断していないときの開放電圧に対する基板洗浄器１内部での発生電圧の割合が０．１以下を示し、粗洗浄部３２、乾燥部３５では、該割合が０．０５以下を示し、ブラシ洗浄部３３、リンス洗浄部３４では０．０１以下を示している。この結果、基板洗浄器１で洗浄処理した基板１２の発電層および太陽電池モジュールに集積するための分離溝や絶縁分離溝には、イオンマイグレーションが発生していないことが確認できた。
【００６７】
このため、基板１２に水が付着している位置では、太陽電池モジュール全体の入射波長の一部を遮断していないときの開放電圧に対する基板洗浄器１内部での発生電圧の割合が０．１（１／１０）以下であることが好ましく、該割合が０．０５以下であることがより好ましいと判断できる。
このことから、上流側助走部３１または下流側助走部３６にロングパスフィルタを有する観察窓１０を設けた場合であっても、基板１２に形成された発電層に入射される発電に寄与する光を増加させることなく洗浄処理が可能であることが分かる。
【００６８】
以上述べたように、本実施形態に係る基板洗浄器１によれば、以下の効果を奏する。
基板洗浄器（基板洗浄装置）１の内部を観察することが可能な観察窓１０を本体カバー（光遮断手段）９に設けることとした。さらに、観察窓１０には、観察窓１０から基板洗浄器１内に入射される屋内照明（光）や屋外光（光）のうち基板１２に形成された発電層の発電に寄与する主要な波長を遮断し、それ以外の波長を透過するロングパスフィルタ（光透過手段）を設けることとした。これらにより、基板１２に形成された発電層が発電する波長の屋内照明や屋外光が観察窓１０から基板洗浄器１内に入射することを抑制することができる。したがって、基板１２に形成された発電層の発電を抑制してイオンマイグレーションの発生を防止しつつ、基板洗浄器１内の基板１２の流動状態や基板洗浄器１の内部の様子を把握することが可能となる。
【００６９】
基板１２に水が付着している濡領域である粗洗浄部（洗浄部）３２、ブラシ洗浄部（洗浄部）３３、リンス洗浄部（洗浄部）３４や乾燥部３５を避けて、水が付着していない上流側助走部（搬入部）３１および下流側助走部（搬出部）３６を覆っている本体カバー９に観察窓１０を設けることとした。そのため、基板１２には水が付着していないので、洗浄工程における水により基板１２の電位差部に導通が生じることを防止することができる。したがって、イオンマイグレーションの発生を防止しつつ、基板１２の流動状態や基板洗浄器１の内部の様子の確認が可能となる。
【００７０】
観察窓１０を基板１２に設けられた発電層の製膜面側１３に対向している本体カバー９に設けることにした。そのため、発電層への入射光量を抑制して発電層が発電することを低減することができる。したがって、イオンマイグレーションの発生を防止することができる。
【００７１】
斜め鉛直方向になるように基板１２を基板洗浄器１内に設けることにした。そのため、基板洗浄器１の設置床面積のコンパクト化を図ることができる。したがって、基板洗浄器１の設置スペースを低減することができる。
【００７２】
観察窓１０の上方には、外部に突出している天井照明遮断板（遮蔽板）１１を設けることとした。そのため、基板洗浄器１が設けられる室内の天井照明灯（屋内照明）の入射を減光することができる。したがって、基板１２に設けられている発電層が発電することを抑制することができる。
【００７３】
ロングパスフィルタの光透過手段（図示せず）を用いることとした。これにより、基板洗浄器１内を非晶質シリコンの発電量が少ない長波長の赤色光にすることができる。そのため、基板１２に設けられた発電層における発電を抑制することができる。したがって、イオンマグレーションの発生を防止することができる。
【００７４】
基板１２に形成された発電層が発電するのに適した波長の光が観察窓１０から基板洗浄器１内に入射することが抑制可能な基板洗浄器１によって基板を洗浄することとして。したがって、発電層の発電に寄与が少ない波長領域光により、基板洗浄器１内の基板１２の流動状態や基板洗浄器１の内部の様子を把握しつつ基板１２を洗浄を行うことができる。
【００７５】
なお、本実施形態では、観察窓１０に設けられている赤色透過光にするロングパスフィルタによって遮断される波長は、発電に寄与する波長域（波長６５０ｎｍ以下の短波長側域）のみを選択的に遮断できるものとして説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、発電に寄与する全ての波長域を遮断するものであっても良い。
【００７６】
また、本実施形態では、光透過手段として赤色透過光にするロングパスフィルタを用いるとして説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、青色透過光にするショートパスフィルタであっても良い。
この場合には、基板洗浄器１内を結晶質シリコンが発電しない短波長側の青色光にすることができる。そのため、基板１２に設けられた発電層における発電を抑制することができる。したがって、イオンマグレーションの発生を防止することができる。
なお、青色透過光にする青色透過光にするショートパスフィルタは、４５０ｎｍ以下のショートパスフィルタであり、略４５０ｎｍ以下の波長を透過し、４５０ｎｍ以上の波長を７０％以上反射や吸収し遮断する。ショートパスフィルタは、略４００ｎｍ以下の波長を透過し、４００ｎｍ以上の波長を７０％以上反射や吸収し遮断するとさらに好ましい。
【００７７】
さらに、上記実施の形態では太陽電池として、例えば、太陽電池として微結晶シリコンをはじめとする結晶質シリコン太陽電池や、シリコンゲルマニウム太陽電池、また、アモルファスシリコン太陽電池と結晶質シリコン太陽電池やシリコンゲルマニウム太陽電池とを各１〜複数層に積層させた多接合型（タンデム型）太陽電池や単層の太陽電池のような種類の薄膜太陽電池にも同様に適用可能である。
更に本発明は、金属基板などのような非透光性基板上に製造された、基板１２とは反対の側から光が入射するタイプの太陽電池に適用する場合は、光透過手段を設けた観察窓１０を、受光面となる発電層の製膜面側１３の反対側である非透光性基板に対向している本体カバー９に設ければ、同様に適用可能である。
【００７８】
［第２実施形態］
本実施形態の基板洗浄器は、基板を横に搬送する横型の基板洗浄器である点で、第１実施形態と相違しその他は同様である。したがって、同一の構成については、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００７９】
以下、本発明の第２実施形態について、図４から図６を用いて説明する。
図４には、本発明の第２実施形態に係る横型の基板洗浄器の側面図が示されており、図５には、図４のＢ−Ｂ部における縦断面図が示されており、図６には、図４のＣ−Ｃ部における横断面図が示されている。
【００８０】
基板洗浄器（基板洗浄装置）１は、基板１２を水平に支持して、上流側助走部（搬入部）３１から粗洗浄部（洗浄部）３２、ブラシ洗浄部（洗浄部）３３、リンス洗浄部（洗浄部）３４、乾燥部３５、下流側助走部（搬出部）３６のように図４のＹ方向へと基板１２を搬送して基板搬出口３から基板洗浄器１の外へと搬出している。
【００８１】
基板１２は、図６に示すように、基板１２のＸ方向の両端を支持している搬送ローラ４によって、基板洗浄器１内に水平に設けられている洗浄器フレーム１５に平行になるように支持されている。搬送ローラ４によって水平に保持されている基板１２は、その受光面側１４が基板洗浄器１内の下方向（−Ｚ方向）に向いており、製膜面側１３が基板洗浄器１の天井方向（＋Ｚ方向）に向いていることとなる。
【００８２】
本体カバー（光遮断手段）９に設けられている観察窓１０は、基板１２の製膜面側１３であって、上流側助走部３１（図４、図６参照）を覆っている本体カバー９のＸ方向の側壁に設けられている。本体カバー９の側壁に設けられている観察窓１０は、縦方向（Ｚ方向）の長さが基板１２の製膜面側１３から基板洗浄器１の天井までの長さと略同等であり、巾方向（図４に示すＹ方向）の長さが基板１２のＹ方向の長さの３分の１から２分の１の長方形状とされている。
【００８３】
以上述べたように、本実施形態に係る基板洗浄器１によれば、以下の効果を奏する。
水平方向になるように基板１２を基板洗浄器（基板洗浄装置）１内に設けるため、発電層の受光面となる基板面側は基板洗浄器１の下方向（−Ｚ方向：床面側）に設けられ、基板洗浄器１の遮光が不十分な箇所からの室内照明などが発電層の受光面側１４へと入射する光量を低減することができる。
さらに、基板１２に設けられた発電層の製膜面側１３に観察窓１０を設けることにした。これにより、基板１２に形成された発電層の受光面側１４へと導入する光量を低減することができる。そのため、基板１２に形成された発電層が発電することを抑制することができる。したがって、イオンマイグレーションの発生を防止することができる。
【００８４】
水平方向になるように基板１２を基板洗浄器１内に設けることにした。そのため、基板１２に反り等の変形がある場合であっても、鉛直方向の基板自重がそのまま基板支持部分に作用して、基板支持部分からの基板浮きが抑制される。また、基板１２の反りが大きい場合には、基板１２を鉛直方向に設けた場合に生じ易くなる基板１２の基板転倒を防止することができる。したがって、基板１２の破損を低減することができる。
【００８５】
［第３実施形態］
本実施形態は、第２実施形態と基本的に同様であるが、第２実施形態とは、基板の受光面側の向きと反射鏡とを設ける点で、相違しその他は同様である。したがって、同一の構成については、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００８６】
以下、本発明の第３実施形態について、図７を用いて説明する。
図７には、本発明の第３実施形態に係る横型の基板洗浄器（基板洗浄装置）の上流側助走部（搬入部）における横断面図が示されている。
基板１２は、基板１２のＸ方向の両端を支持している搬送ローラ４によって、基板洗浄器内に水平に設けられている洗浄器フレーム１５に平行になるように支持されている。搬送ローラ４によって水平に保持されている基板１２は、その受光面側１４が基板洗浄器内の天井方向（＋Ｚ方向）に向いており、製膜面側１３が基板洗浄器内を鉛直方向下方向（−Ｚ方向）に向いていることとなる。
このような、基板１２の受光面側の向きは、基板１２の受光面側１４のみを集中して洗浄したい場合に、洗浄の容易さから有効な設置方向になる。
【００８７】
本体カバー（光遮断手段）９に設けられている観察窓１０は、基板１２の製膜面側１３であって、上流側助走部を覆っている本体カバー９の側壁に設けられている。本体カバー９の側壁に設けられている観察窓１０は、縦方向（Ｚ方向）の長さが基板１２の製膜面側１３から洗浄器架台１６の上面までの長さと略同等であり、巾方向の長さが基板１２の大きさの３分の１から２分の１の長方形状とされている。
【００８８】
観測窓１０と基板１２との間の空間にて、基板１２の製膜面側１３の下方には、反射鏡（鏡）１９が設けられている。反射鏡１９は、Ｘ方向の一端が洗浄器フレーム１５に接続されており、観察窓１０近傍の他端が洗浄器架台１６の上面に支持されて斜めに傾斜するように設けられている。すなわち、反射鏡１９は、観察窓１０に近づくにしたがって洗浄器架台１６の上面に近づくように傾斜していることとなる。このように観察窓１０の位置が基板１２の製膜面側１３鉛直方向下方向（−Ｚ方向）に設けられるために、直接には基板１２の搬送状況を確認しにくい位置関係となっても、反射鏡１９を傾斜させることによって、基板１２の製膜面側１３の状態を反射鏡１９に映し、観察窓１０から観察することが可能となる。
【００８９】
以上述べたように、本実施形態に係る基板洗浄器によれば、以下の効果を奏する。
基板１２に設けられた発電層の製膜面側１３を鉛直方向下方に向かうように基板１２を基板洗浄器（基板洗浄装置）内に設け、基板１２の製膜面側１３の下方の観測窓１０と基板１２との間の空間には、反射鏡（鏡）１９を設けることにした。そのため、反射鏡１９を介して基板１２に設けられた発電層の製膜面側１３を確認することができる。
【００９０】
［第４実施形態］
本実施形態の基板洗浄器は、赤色透過光にするロングパスフィルタを備えている観察窓の形状が異なり、観察窓には回転式遮蔽板が設けられる点で、第１実施形態と相違しその他は同様である。したがって、同一の構成については、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００９１】
以下、本発明の第４実施形態について、図８を用いて説明する。
図８には、本発明の第４実施形態に係る基板洗浄器に設けられている観察窓４０および観察窓４０に設けられている回転式遮蔽板４１が示されている。
【００９２】
本体カバー（図示せず）に設けられている観察窓４０は、その形状が円形状とされている。円形状の観察窓４０には、観察窓４０と略同径かつ同心円状にロングパスフィルタ（光透過手段）４２が設けられている。ロングパスフィルタ４２が設けられている観察窓４０には、観察窓４０およびロングパスフィルタ４２と略同径かつ同心円状の回転式遮蔽板（光量調整手段）４１が設けられている。
【００９３】
観察窓４０に設けられている回転式遮蔽板４１は、基板洗浄器（基板洗浄装置）の外側から観察窓４０を覆うように同心円状に設けられている。回転式遮断板４１は、ロングパスフィルタ４２と略同径かつ同心円状の光量調整手段用遮断板４１ａと、光量調整手段用遮蔽板４１ａに設けられている複数の開口部（開口）４１ｂと、ロングパスフィルタ４２上を光量調整手段用遮蔽板４１ａを円周方向に回動させる回動手段（図示せず）と、を備えている。
【００９４】
光量調整手段用遮断板４１ａは、ロングパスフィルタ４２と略同サイズの円形状とされている。円形状の光量調整手段用遮断板４１ａには、例えば、中心角が９０°の扇形状を形成している開口部４１ｂが二か所（複数）に設けられている。二か所の開口部４１ｂは、互いに１８０°の位置になるように光量調整手段用遮蔽板４１ａ上に設けられている。この扇形状の開口部４１ｂを介してロングパスフィルタ４２には、屋内照明（光）や屋外光（光）が入射する。また、光量調整手段用遮蔽板４１ａの開口していない部分によって、観察窓４０から基板洗浄器内に入射する屋内照明や屋外光の光量を低減することができる。
【００９５】
回動式遮蔽板４１は、その中心が観察窓４０の中心に固定されており、図示しない回動手段によって観察窓４０の円周方向に所定の速度で回転している。これにより、回動式遮蔽板４１に開口している開口部４１ｂからロングパスフィルタ４２および観察窓４０を介して屋内照明や屋外光が基板洗浄器内に入射する位置を時間によって変化させることができるので、基板１２の同じ位置に入射する光量を減光することができる。
すなわち、基板１２の流動状態や基板洗浄器１の内部の様子を把握するための観察を行なえる時間は連続している必要がないことから、回動式遮蔽板４１の開口部４１ｂ以外では、遮蔽される時間が生じることとなり、断続的な観察状況を確保しながら、基板洗浄器１内に入射する光量を一層減光して、基板１２の同じ位置に光が入射することを防止することができるので、発電層の発電をより一層に抑制することができる。
【００９６】
さらに、円形状の観察窓４０と略同径かつ同心円状に設置されているロングパスフィルタ４２は、開口部４１ｂ面積が小さく、基板洗浄器１に入射する光量が十分に少ない場合は、ロングパスフィルタ４２を設置せずに、観察窓４０に開口部４１ｂと略同形状の開口を設けても良い。
ロングパスフィルタ４２を省略することで、構造が簡易になりコストダウンすることができるので、好ましい。
【００９７】
以上述べたように、本実施形態に係る基板洗浄器によれば、以下の効果を奏する。
観察窓４０には、観察窓４０と略同径かつ同心円状であり二か所（複数）の開口部（開口）４１ｂを有している光量調整手段用遮蔽板４１ａと、光量調整手段用遮蔽板４１ａを回動させる回動手段（図示せず）と、を備えている回転式遮蔽板（光量調整手段）４１を設けることとした。これにより、観察窓４０から基板洗浄器（基板洗浄装置）内に入射する光量を減光することができる。また、回動手段によって光量調整手段用遮蔽板４１ａに設けられている開口部４１ｂを回動させることができるので、基板１２上に入射される屋内照明（光）や屋外光（光）の位置を変えることができる。したがって、基板１２の同じ位置に屋内照明や屋外光が入射することを抑制しつつ、基板１２に設けられた発電層が発電することを一層抑制することができる。また、観察窓４０には、観察窓４０と略同径かつ同心円状の赤色透過光にするロングパスフィルタ（光透過手段）４２を備えると、より一層に屋内照明や屋外光が入射することを抑制しつつ、基板１２に設けられた発電層が発電することをより一層抑制することができる。
【００９８】
［第５実施形態］
本実施形態の基板洗浄器は、観察窓の開口形状、および赤色透過光にするロングパスフィルタの形状が異なっている点で第４実施形態と相違しその他は同様である。したがって、同一の構成については、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００９９】
以下、本発明の第５実施形態について、図９を用いて説明する。
図９には、本発明の第５実施形態に係る基板洗浄器に設けられている観察窓４０に設けられている赤色透過光にするロングパスフィルタ４３と、回転式遮蔽板４１とが示されている。
【０１００】
観察窓４０には、回転式遮蔽板（光量調整手段）４１に設けられている二か所の開口部（開口）４１ｂと略同形状であるロングパスフィルタ（光透過手段）４３が二か所に設けられている。ロングパスフィルタ４３は、例えば、中心角が９０°の扇形状を形成している。ロングパスフィルタ４３は、互いに１８０°の位置になるように、観察窓４０上に二か所に設けられている。回動手段（図示せず）により所定の速度によって回転式遮蔽板４１が回転して回転式遮蔽板４１の開口部４１ｂとロングパスフィルタ４３とが重なることにより、屋内照明（光）や屋外光（光）が基板洗浄器（基板洗浄装置）内に入射する位置を時間によって変化させることができる。
なお、開口部４１ｂが小さく、基板洗浄器１に入射する光量が十分に少ない場合は、ロングパスフィルタ４３は設置せずに、観察窓４０に開口部４１ｂと略同形状の開口を設けても良い。ロングパスフィルタ４３を省略することで、構造が簡易になりコストダウンすることができるので、好ましい
【０１０１】
以上述べたように、本実施形態に係る基板洗浄器によれば、以下の効果を奏する。
回転式遮蔽板（光量調整手段）４１に設けられている開口部（開口）４１ｂと略同形状の赤色フィルタ（光透過手段）４３を用いることとした。これにより、回転式遮蔽板４１の開口していない光量調整手段用遮蔽板４１ａによってロングパスフィルタ４３に入射する光を遮蔽する時間を設けることができる。そのため、基板洗浄器（基板洗浄装置）内に入射する光量を一層減光して、基板１２の同じ位置に屋内照明（光）や屋外光（光）が入射することを防止することができる。したがって、基板１２に設けられた発電層が発電することをより一層抑制することができる。
【０１０２】
［第６実施形態］
本実施形態の基板洗浄器は、ＬＥＤライトを有する点で第１実施形態と相違しその他は同様である。したがって、同一の構成については、同一の符号を付してその説明を省略する。
【０１０３】
以下、本発明の第６実施形態について、図１０を用いて説明する。
図１０には、本発明の第６実施形態に係る縦型の基板洗浄器の横断面図が示されている。
赤色透過光とするロングパスフィルタ（光透過手段）には、ＬＥＤライト（局所照射手段）４５が観察窓１０に基板洗浄器（基板洗浄装置）の外側から密着するように設けられている。ＬＥＤライト４５は、例えば、２箇所に設けられており、本体カバー（光遮断手段）９の天井と側壁との交わる角部と、洗浄器架台１６と本体カバー９の側壁との接合部とに設けられている。
【０１０４】
ＬＥＤライト４５は、局所照射を発する光照射部（光源）４５ａと、光照射部４５ａの照射位置を変えることが可能な保持アーム（保持手段）４５ｂと、を備えている。光照射部４５ａは、基板１２に形成された発電層の発電に寄与する波長域のすくなくとも一部の波長域を除いた波長の光を局所的に照射するものであり、ここでは、赤色光とされている。光照射部４５ａは、ロングパスフィルタ（図示せず）に基板洗浄器の外側から密着するように設けられている。これによって、光照射部４５ａから照射される赤色光の反射光の発生を防止している。保持アーム４５ｂは、上下左右方向に可変可能な蛇腹状となっている。これによって、光照射部４５ａから照射される赤色の照射光を任意の位置に照射することができる。
【０１０５】
以上述べたように、本実施形態に係る基板洗浄器によれば、以下の効果を奏する。
局所的に基板１２に設けられた発電層の発電に寄与する波長域のすくなくとも一部の波長域を除いた波長の光を照射するＬＥＤライト（局所照射手段）４５をロンングパスフィルタ（光透過手段）に設けることとした。そのため、基板洗浄器（基板洗浄装置）の内部観察が困難な箇所に限定して、基板１２への入射光量を増加することなく、発電層の発電を抑制しながら、視認性を向上させることができる。
【０１０６】
光照射部（光源）４５ａと、光照射部４５ａが照射される照射位置を変えることが可能な保持アーム（保持手段）４５ｂと、を有しているＬＥＤライト４５を用いることとした。そのため、ＬＥＤライト４５によって、基板洗浄器内部の任意の位置に限定してより局所的に照射することができる。したがって、照射位置をより限定して、基板１２への入射光量を増加することなく、発電層の発電を抑制しながら、基板洗浄器の内部の視認性を更に向上させることができる。
【０１０７】
なお、ここでは、光照射部４５ａから照射される光は、赤色光として説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、光透過手段を青色透過光にするショートパスフィルタであっても良い。
【符号の説明】
【０１０８】
１ 基板洗浄器（基板洗浄装置）
２ 基板搬入口
３ 基板搬出口
９ 本体カバー（光遮断手段）
１０ 観察窓
１２ 基板
３１ 上流側助走部（搬入部）
３２ 粗洗浄部（洗浄部）
３３ ブラシ洗浄部（洗浄部）
３４ リンス洗浄部（洗浄部）
３５ 乾燥部
３６ 下流側助走部（搬出部）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発電層が形成された基板を洗浄する洗浄部と、
該洗浄部の上流側に設けられて、前記基板を基板搬入口から前記洗浄部に搬入する搬入部と、
前記洗浄部の下流側に設けられて、該洗浄部によって洗浄された前記基板の前記発電層を乾燥させる乾燥部と、
該乾燥部の下流側に設けられて乾燥した前記基板を基板搬出口へ搬出する搬出部と、
前記基板搬入口を除く前記搬入部、前記洗浄部、前記乾燥部、前記基板搬出口を除く前記搬出部内に入射する光を遮断する光遮断手段と、
該光遮断手段に設けられる観察窓と、
該観察窓に設けられて、該観察窓から入射する光のうち、前記発電層の発電に寄与する波長の少なくとも一部を遮断し、前記発電層の発電電圧を、前記波長の少なくとも一部を遮光しない場合の前記発電電圧の１／１０以下にする光透過手段と、を備えることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記観察窓は、前記搬入部および前記搬出部に設けられることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記観察窓は、前記基板に対して前記発電層を形成された製膜面側に設けることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記基板は、斜め鉛直方向に設けることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
前記基板は、水平方向に設けることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
前記基板洗浄装置内で水平方向になるように設けた前記基板は、前記発電層の製膜面側を鉛直上方に向かって設けることを特徴とする請求項５に記載の基板洗浄装置。
【請求項７】
前記基板洗浄装置内で水平方向になるように設けた前記基板は、前記発電層の製膜面側を鉛直下方に向かって設け、
該発電層の下方には、前記観測窓と前記基板との間に、鏡を設けることを特徴とする請求項５または請求項６に記載の基板洗浄装置。
【請求項８】
前記観察窓には、その鉛直上方に外部に突出する遮蔽板を設けることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれかに記載の基板洗浄装置。
【請求項９】
前記観察窓および前記光透過手段は、略同径かつ同心円状に設けられており、
該光透過手段は、透過する光量を調整する光量調整手段を有し、
該光量調整手段は、前記光透過手段と略同径かつ同心円状の光量調整手段用遮蔽板と、該光量調整手段用遮蔽板に設けられる複数の開口と、前記光量調整手段用遮蔽板を円周方向に回動する回動手段と、を備えることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の基板洗浄装置。
【請求項１０】
前記光透過手段は、前記光量調整手段に設けられる開口と略同形状であることを特徴とする請求項８に記載の基板洗浄装置。
【請求項１１】
前記光透過手段には、前記発電層の発電に寄与する波長域のすくなくとも一部の波長域を除いた波長の光を局所的に照射する局所照射手段を備えることを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれかに記載の基板洗浄装置。
【請求項１２】
前記局所照射手段は、光源と、該光源の照射位置を変えることが可能な保持手段と、を有することを特徴とする請求項１１に記載の基板洗浄装置。
【請求項１３】
前記光透過手段は、６５０ｎｍ以上の波長を透過するロングパスフィルタであることを特徴とする請求項１から請求項１２のいずれかに記載の基板洗浄装置。
【請求項１４】
前記光透過手段は、４５０ｎｍ以下の波長を透過するショートパスフィルタであることを特徴とする請求項１から請求項１２のいずれかに記載の基板洗浄装置。
【請求項１５】
前記基板の前記発電層を洗浄する洗浄部と、
該洗浄部の上流側に設けられて、前記基板を基板搬入口から前記洗浄部に搬入する搬入部と、
前記洗浄部の下流側に設けられて、該洗浄部によって洗浄された前記基板の前記発電層を乾燥させる乾燥部と、
該乾燥部の下流側に設けられて乾燥した前記基板を基板搬出口へ搬出する搬出部と、
前記基板搬入口を除く前記搬入部、前記洗浄部、前記乾燥部、前記基板搬出口を除く前記搬出部内に入射する光を遮断する光遮断手段と、
該光遮断手段に設けられる観察窓と、
該観察窓に設けられて、該観察窓から入射する光のうち、
前記発電層の発電に寄与する波長の少なくとも一部を遮断し、前記発電層の発電電圧を、前記波長の少なくとも一部を遮光しない場合の前記発電電圧の１／１０以下にする光透過手段と、を備える基板洗浄装置によって前記基板を洗浄することを特徴とする基板の洗浄方法。
【請求項１】
発電層が形成された基板を洗浄する洗浄部と、
該洗浄部の上流側に設けられて、前記基板を基板搬入口から前記洗浄部に搬入する搬入部と、
前記洗浄部の下流側に設けられて、該洗浄部によって洗浄された前記基板の前記発電層を乾燥させる乾燥部と、
該乾燥部の下流側に設けられて乾燥した前記基板を基板搬出口へ搬出する搬出部と、
前記基板搬入口を除く前記搬入部、前記洗浄部、前記乾燥部、前記基板搬出口を除く前記搬出部内に入射する光を遮断する光遮断手段と、
該光遮断手段に設けられる観察窓と、
該観察窓に設けられて、該観察窓から入射する光のうち、前記発電層の発電に寄与する波長の少なくとも一部を遮断し、前記発電層の発電電圧を、前記波長の少なくとも一部を遮光しない場合の前記発電電圧の１／１０以下にする光透過手段と、を備えることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記観察窓は、前記搬入部および前記搬出部に設けられることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記観察窓は、前記基板に対して前記発電層を形成された製膜面側に設けることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記基板は、斜め鉛直方向に設けることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
前記基板は、水平方向に設けることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
前記基板洗浄装置内で水平方向になるように設けた前記基板は、前記発電層の製膜面側を鉛直上方に向かって設けることを特徴とする請求項５に記載の基板洗浄装置。
【請求項７】
前記基板洗浄装置内で水平方向になるように設けた前記基板は、前記発電層の製膜面側を鉛直下方に向かって設け、
該発電層の下方には、前記観測窓と前記基板との間に、鏡を設けることを特徴とする請求項５または請求項６に記載の基板洗浄装置。
【請求項８】
前記観察窓には、その鉛直上方に外部に突出する遮蔽板を設けることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれかに記載の基板洗浄装置。
【請求項９】
前記観察窓および前記光透過手段は、略同径かつ同心円状に設けられており、
該光透過手段は、透過する光量を調整する光量調整手段を有し、
該光量調整手段は、前記光透過手段と略同径かつ同心円状の光量調整手段用遮蔽板と、該光量調整手段用遮蔽板に設けられる複数の開口と、前記光量調整手段用遮蔽板を円周方向に回動する回動手段と、を備えることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の基板洗浄装置。
【請求項１０】
前記光透過手段は、前記光量調整手段に設けられる開口と略同形状であることを特徴とする請求項８に記載の基板洗浄装置。
【請求項１１】
前記光透過手段には、前記発電層の発電に寄与する波長域のすくなくとも一部の波長域を除いた波長の光を局所的に照射する局所照射手段を備えることを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれかに記載の基板洗浄装置。
【請求項１２】
前記局所照射手段は、光源と、該光源の照射位置を変えることが可能な保持手段と、を有することを特徴とする請求項１１に記載の基板洗浄装置。
【請求項１３】
前記光透過手段は、６５０ｎｍ以上の波長を透過するロングパスフィルタであることを特徴とする請求項１から請求項１２のいずれかに記載の基板洗浄装置。
【請求項１４】
前記光透過手段は、４５０ｎｍ以下の波長を透過するショートパスフィルタであることを特徴とする請求項１から請求項１２のいずれかに記載の基板洗浄装置。
【請求項１５】
前記基板の前記発電層を洗浄する洗浄部と、
該洗浄部の上流側に設けられて、前記基板を基板搬入口から前記洗浄部に搬入する搬入部と、
前記洗浄部の下流側に設けられて、該洗浄部によって洗浄された前記基板の前記発電層を乾燥させる乾燥部と、
該乾燥部の下流側に設けられて乾燥した前記基板を基板搬出口へ搬出する搬出部と、
前記基板搬入口を除く前記搬入部、前記洗浄部、前記乾燥部、前記基板搬出口を除く前記搬出部内に入射する光を遮断する光遮断手段と、
該光遮断手段に設けられる観察窓と、
該観察窓に設けられて、該観察窓から入射する光のうち、
前記発電層の発電に寄与する波長の少なくとも一部を遮断し、前記発電層の発電電圧を、前記波長の少なくとも一部を遮光しない場合の前記発電電圧の１／１０以下にする光透過手段と、を備える基板洗浄装置によって前記基板を洗浄することを特徴とする基板の洗浄方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１２−３３８２０（Ｐ２０１２−３３８２０Ａ）
【公開日】平成２４年２月１６日（２０１２．２．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１７３７１８（Ｐ２０１０−１７３７１８）
【出願日】平成２２年８月２日（２０１０．８．２）
【出願人】（０００００６２０８）三菱重工業株式会社 (10,378)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年２月１６日（２０１２．２．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年８月２日（２０１０．８．２）
【出願人】（０００００６２０８）三菱重工業株式会社 (10,378)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]