【課題】ドライ洗浄とウエット洗浄とを組み合わせてマスク部材をクリーニングする際に、その洗浄プロセスを円滑に運転させることができ、マスク部材を効率的にクリーニング処理を行えるようにする。
【解決手段】ロードステージ１０と、レーザ光を用いたドライ洗浄ステージ１１と、洗浄液にマスク部材４を浸漬させて行う第１のウエット洗浄ステージ１２と、マスク部材４に対してシャワー洗浄を行う第２のウエット洗浄ステージ１３と、マスク部材４に熱風を供給して行う乾燥ステージ１４と、アンロードステージ１５とから構成されるクリーニング装置において、ロードステージ１０からドライ洗浄ステージ１１にマスク部材４を搬送・移載する同期式マスク搬送手段２０Ｃと、ステージ１１〜１５間にマスク部材４を搬送・移載する非同期式マスク搬送手段２０Ａとが設けられている。 （もっと読む）

【課題】乾燥ガスが光透過部材から被処理基板上に滴下することを防止することにより、製品歩留まりの低下を防止することが可能な乾燥室、洗浄・乾燥処理装置、被処理基板を乾燥する乾燥処理方法、および記録媒体を提供する。
【解決手段】乾燥室１０は、被処理基板Ｗを収容する乾燥室本体１１と、乾燥室本体１１の内壁１１ａに設けられた光透過部材１２と、乾燥室本体１１の内壁１１ａと光透過部材１２との間に設けられた加熱用光源１３とを備えている。光透過部材１２の下方には、光透過部材１２側に向けて乾燥ガスを供給するガス供給部１４が設けられている。光透過部材１２の内面１２ａは、乾燥ガスがこの光透過部材１２の内面１２ａに液膜として付着するように表面処理が施されている。 （もっと読む）

【課題】 基板上にエッチング液を液膜状に供給した後に、この基板をリンス処理する場合においても、エッチング液とリンス液とを個別に回収することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 基板処理装置は、ガラス基板１００をその主面が水平方向となる状態で支持するとともに、このガラス基板１００を水平方向に搬送する複数の搬送ローラ９と、ガラス基板１００にエッチング液を供給する処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃと、ガラス基板１００にリンス液を供給する処理・洗浄ユニット１ｄと、各処理・洗浄ユニット１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ毎に配設された回収トレー７１と、処理・洗浄ユニット１ｃと処理・洗浄ユニット１ｄとの間に配設されたエアナイフ７とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板を洗浄する処理液の使用量を低減可能な基板の製造装置及び製造方法を提供すること。
【解決手段】基板１００の製造装置１は、基板１００を処理液で洗浄することで、基板１００のＳｉ層１０２に形成された酸化膜１０５の一部を除去する予備洗浄処理手段１３と、予備洗浄処理手段１３による基板１００の洗浄で残存した酸化膜１０５を除去する本洗浄処理手段１４と、本洗浄処理手段１４に未使用の処理液を供給するとともに、本洗浄処理手段１４で使用された処理液を予備洗浄処理手段１３に供給する供給手段１９と、を備える構成とする。 （もっと読む）

【課題】小型化および低価格化することが可能な複数の洗浄槽を有する超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明による超音波洗浄装置１は、洗浄液を貯留し、被処理体Ｗが浸漬可能な複数の洗浄槽１０と、各洗浄槽２０に設けられた振動子３０と、各振動子３０に超音波振動を生じさせる単一の超音波発振器４１とを備えている。この超音波発振器４１と各洗浄槽１０の振動子３０との間に、この超音波発振器４１に接続される振動子３０を切り替える出力切替器５０が介在されている。また、超音波発振器４１および出力切替器５０を制御する制御器４６が設けられている。この制御器４６は、一の洗浄槽１０の振動子３０に超音波振動を生じさせるタイミングと、他の洗浄槽１０の振動子３０に超音波振動を生じさせるタイミングが重ならないように超音波発振器４１および出力切替器５０を制御する。 （もっと読む）

【課題】被処理体の処理に用いられる液の温度変動を抑制することができる液処理装置を提供する。
【解決手段】液処理装置１０は、液供給機構１５と、液供給装置に接続され温度調節された液を吐出する吐出開口３０ａを有した供給ライン３０と、供給ラインの吐出開口を支持しする処理ユニット５０と、供給ラインに供給された液を液供給機構へ戻す戻しライン３５と、処理ユニットでの被処理体の処理に用いられる液の供給および供給停止を切り替える液供給切り替え弁３８ａと、を有する。液供給切り替え弁３８ａは、供給ライン３０上に設けられ、供給ライン３０から戻しライン３５を介して液供給機構１５へ戻る液の経路上に、位置している。 （もっと読む）

【課題】ガスの溶解の持続性を有するガス溶解水を作成することができるガス溶解水製造装置を提供する。
【解決手段】ガス溶解水を作成することができるガス溶解水製造装置は、無電解質かつ水不溶解性の光電極体７を有する光電極体部１に水を接触させて水分解反応により酸性分解水を作成する水分解手段２と、酸性分解水に酸性水溶解性のガスを溶解してガス溶解水を作成する溶解手段３と、水分解手段２に水として純水を作成して供給する純水供給手段４とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】
炭化水素系溶剤等の洗浄剤を用いた洗浄方法及び洗浄装置において、高い作業効率を保ちながら、省エネルギー化を実現できる洗浄方法及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】
本発明に係る洗浄装置１０は、第１洗浄槽１１、第２洗浄槽１２、油分濃度監視部１３、貯留タンク１４、蒸留再生ユニット１５、及び図示しない蒸留再生ユニット制御部を備えている。被洗浄物は第１洗浄槽内で超音波洗浄され、第２洗浄槽でリンス洗浄される。一方、被洗浄物に付着していた油分により汚染された洗浄剤は、第１洗浄槽１１から循環路１６１と第１回収路１６２に排出され、循環路１６１の途中に設けられた油分濃度監視部１３によって汚染洗浄剤に含まれる油分の濃度が測定される。この測定値は蒸留再生ユニット制御部に送られ、汚染洗浄剤の蒸留量及び該蒸留量の汚染洗浄剤の蒸留に必要な電力の値が算出され、該蒸留量の汚染洗浄剤及び電力が蒸留塔１５１に供給される。 （もっと読む）

【課題】あらゆるタイプの汚れに対して、ＨＣＦＣ２２５に匹敵するような洗浄力を示すと共に低毒性で、引火性が低く、オゾン層破壊の恐れが全くない洗浄性に優れる高沸点溶剤を含有する洗浄剤を用いて、被洗浄物表面における汚れの再付着による洗浄性の低下を防止し、かつ、揮発性に優れるＨＦＣやＨＦＥによるリンス工程がなく省スペースを可能とする洗浄方法及び洗浄装置を提供することを課題とする。
【解決手段】蒸発速度の異なる２０℃における蒸気圧が１．３３×１０^３Ｐａ以上の非塩素系フッ素化合物（ａ）と２０℃における蒸気圧が１．３３×１０^３Ｐａ未満の成分（ｂ）とを一定の組成比で併用し、かつ、洗浄時の洗浄条件として、「洗浄槽温度」と「洗浄槽温度と蒸気ゾーン温度との温度差」とを規定することで、洗浄剤を加熱して得られる凝縮液によるリンス工程のない洗浄方法で洗浄する。 （もっと読む）

【課題】適切にマスクを清浄する方法を提供する。
【解決手段】マスクを清浄するための方法および装置が、説明される。一実施形態において、本発明は、マスクを清浄する方法である。その方法は、マスクを清浄溶液の中に配置することを含む。また、この方法は、予め定められた攪拌レベルで予め定められた時間だけ清浄溶液を攪拌することを含む。 （もっと読む）

【課題】電子機器の機能を損耗させることなく、少量の洗浄液で洗浄できる小型化可能な洗浄装置を提供すること。
【解決手段】洗浄部と、該洗浄部に連結した精製部と、該洗浄部と一体化及び／又は隣接した乾燥部から構成される電子機器用洗浄装置であって、該洗浄部では洗浄液を用いて電子機器を含む被洗浄物を１工程以上スプレー洗浄することにより該被洗浄物への付着物が除去され、該精製部では該洗浄部から送り込まれた該付着物を含んだ洗浄液から該付着物が分離され、該乾燥部では該被洗浄物の真空乾燥が行われ、該洗浄液として、純水、アルカリ電解水、及びフッ素系洗浄液の内のいずれかを含む洗浄液を１種以上用いることを特徴とする前記電子機器用洗浄装置、及び洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】連続して被洗浄物を洗浄する場合であっても、被洗浄物の洗浄度が低下することを容易に抑制することができる洗浄装置を得る。
【解決手段】中間部が狭窄な貫通孔５ａと、この貫通孔５ａの狭窄部５ｂに連通し、貫通孔５ａに入った洗浄水１が狭窄部５ｂを流れることで空気が狭窄部５ｂへ吸引されるガス吸引孔５ｃとが形成され、洗浄水１とともに金属屑２が貫通孔５ａを通過することで、洗浄水１に微細気泡４を生成し、微細気泡４と金属屑２とを混ぜ合わせながら、洗浄水１および金属屑２を外へ出す気泡生成器５を備えている。 （もっと読む）

【課題】フィルムの表面に付着した数μｍという非常に微細な埃、フィルム片、汚れまでも連続的に除去することができ、フィルムの洗浄ノズル装置からフィルムが通り抜けた際に洗浄水がフィルムに付着している量を減少させることができるフィルムの洗浄ノズル装置を提供する。
【解決手段】フィルム１２の表裏面の一方の面に洗浄液を吹き付ける洗浄液吐出口５２と、洗浄液吐出口５２の上流側及び下流側において、洗浄液がフィルムの一方の面上を流れるようにフィルムに対して平行に形成された、上流側平面部５３Ａと下流側平面部５３Ｂと、からなるフィルムの洗浄ノズル装置５１に対して、上流側平面部５３Ａと下流側平面部５３Ｂは、フィルム１２表面と等距離となるように配置し、下流側平面部５３Ｂは上流側平面部５３Ａよりも長く形成する。 （もっと読む）

【課題】タクトタイムの増大による生産性の低下を生じることなく、被洗浄物の表面にシミのない清浄な乾燥状態を得る。
【解決手段】搬送治具１３ａに載置された被洗浄物１３をＩＰＡ蒸気雰囲気４に浸漬して蒸気乾燥を行うＩＰＡ蒸気乾燥槽２の後段に余熱乾燥槽６を設け、ＩＰＡ蒸気乾燥槽２で蒸気乾燥を終え、ＩＰＡ蒸気雰囲気４の潜熱によって所定の温度まで加熱された状態にある被洗浄物１３および搬送治具１３ａを、余熱乾燥槽６に搬入し、当該被洗浄物１３および搬送治具１３ａ自体が持つ余熱によって乾燥を加速させ、ＩＰＡ蒸気乾燥槽２におけるＩＰＡ蒸気雰囲気４への反復浸漬等の煩雑な操作を必要とすることなく、被洗浄物１３や搬送治具１３ａの表面における液滴の残留に起因する被洗浄物１３のシミ等の欠陥の発生を確実に防止する。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽や洗浄キャリアの表面が侵食されることで発生するパーティクルがフォトマスク基板に付着することを防止しながら、超音波洗浄により基板表面のパーティクルを効率的に除去する。
【解決手段】フォトマスク基板を濾過循環させた洗浄液に浸漬し、洗浄槽や洗浄キャリアの表面からパーティクルが発生しないように、超音波のパワー密度をキャビテーションの発生する閾値以上の初期値とした後、当該洗浄槽での超音波洗浄を終了するまでの間に、超音波のパワー密度をこの初期値から段階的及び／又は連続的低減することを特徴とするフォトマスク基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】ディスク駆動装置の構成部品の清浄度を向上し、磁気ヘッドの浮上隙間を小さくした場合でもＴＡ障害発生の確率を低く保つことのできるディスク駆動装置の生産方法を提供する。
【解決手段】ディスク駆動装置の生産方法は、所定レベル以上のクリーンルーム内で洗浄工程１００と組立工程２００が連続して実施される。洗浄、組立対象であるディスク駆動装置のベース部材１２は、洗浄工程１００は、アルカリ洗浄工程１０４、第１純水洗浄工程１０６、第２純水洗浄工程１０８、スプレー洗浄工程１１０、水切工程１１２、乾燥工程１１４を含む。第１純水洗浄工程１０６は、第１純水洗浄槽１２６に満たされた純水１２８中で、４０ｋＨｚ、６８ｋＨｚ、１３２ｋＨｚの周波数による純水超音波洗浄を順に施す。洗浄されたベース部材１２は、洗浄工程１００と連続した組立工程２００で清浄度が所定値以上ｎ他の構成部品と共に組み立てられる。 （もっと読む）

【課題】キリ穴、ネジ穴、止まり穴のような洗浄が難しい部分に効率的に微細気泡を作用させ、短時間で高い洗浄力を得ることができる洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】被洗浄物５が浸漬される洗浄液４を保持する洗浄槽１と、この洗浄槽の槽上部を二分すると共に槽下部を連通させ、洗浄槽に被洗浄物投入領域１Ａと被洗浄物取出し領域１Ｂとを形成する仕切り部材２ａ，２ｂにより構成され、仕切り部材の一部に弾性変形可能な少なくとも１つの開裂部２ｃを有する仕切り板２と、被洗浄物投入領域内に設置され、被洗浄物に噴射する微細気泡を生成する微細気泡発生装置３と、被洗浄物を保持し、被洗浄物投入領域において被洗浄物に微細気泡を供給した後、仕切り板の開裂部を通過して移動し、被洗浄物取出し領域において被洗浄物を取出すロボット６を備えている。 （もっと読む）

【課題】時計のような精密機械の部品や電子部品をはじめとする各種ワークの汚れを効率的に除去できる洗浄方法、この洗浄方法で得られたワーク、および洗浄後のワークを備えた時計を提供すること。
【解決手段】ワークの洗浄方法は、ワーク２０を、電解酸性水を満たした洗浄槽２１により洗浄する工程と、電解アルカリ水を満たした洗浄槽２２により洗浄する工程とを備える。それ故、ワーク２０の洗浄効率が極めて高く、時計のような精密機械の部品（ワーク）の洗浄用として好適である。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクなどに用いられる石英基板の洗浄方法であって、シリカやセリアで研磨された後に、表面に残存するシリカやセリアを効率よく洗浄液で除去し、またステンレス製の洗浄キャリアの腐食が少ない洗浄方法を提供する。
【解決手段】研磨した石英ガラス基板をｐＨが２〜５、シリカのゼータ電位が−３０ｍＶ以上−２０ｍＶ以下、セリアのゼータ電位が−２０ｍＶ以上−１０ｍＶ以下、室温における石英ガラスのエッチング速度が０．３〜３．０ｎｍ／分であるフッ素化合物とホスホン酸とを含んでなる水溶液からなる洗浄液に浸漬して洗浄する。 （もっと読む）

【課題】浄化設備において浄化対象物の浄化が不十分になったり、装置コストや消費動力の無駄を招くことを回避する。
【解決手段】浄化装置Ｎによる浄化により浄化対象物Ａにおいて得られる浄化効果ｊａと相関を有する能力指標値αを定義し、浄化装置Ｎが浄化対象物Ａに及ぼす浄化作用の大きさを能力指標値αにより数値表現する。また、浄化装置Ｎの複数種の浄化作用因子Ｐ，Ｌ，Ｑ，θと能力指標値αとの相関関係を内部相関関係Ｆとして求め、複数種の浄化作用因子Ｐ，Ｌ，Ｑ，θの選定値に対する能力指標値αの対応値を内部相関関係Ｆに基づき演算したり、浄化効果ｊａと能力指標値αとの相関関係を外部相関関係Ｋａとして求め、能力指標値αの選定値に対する浄化効果ｊａの対応値を外部相関関係Ｋａに基づき演算する。 （もっと読む）