【課題】リソースの使用が延長されたことを判別できるようにすることにより、スケジュールに起因して処理が停止するのを防止して、装置の稼働率が低下するのを防止できる。
【解決手段】制御部２５は、単バッチのスケジュールにて、温水ユニットＨＤＩＷを使用する処理工程からロットが払い出されるタイミングに合わせて、温水ユニットＨＤＩＷの仮想リソースの使用終了時を表す仮想終了マークを付加しておく。全体スケジュールを作成する際に、払出が時間的に後ろにずれる場合には仮想リソースの仮想終了マークも時間的に後ろにずらし、仮想リソースの使用を仮想終了マークまで延長しておく。その結果、その後に配置される単バッチのスケジュールは、温水ユニットＨＤＩＷの仮想リソースによって排他される。リソースの競合によりアラームが発生して処理が停止するのを防止でき、装置稼働率の低下を防止できる。 （もっと読む）

【課題】含フッ素エーテルからアルコールを十分除去するとともに、含フッ素エーテルが系外へ排出されるのを防ぐことができる物品の水切り方法の提供。
【解決手段】物品をアルコールに接触させるアルコール接触工程３、物品を、１−メトキシ−２−トリフルオロメチル−１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンと１−メトキシ−１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブタンの混合物等の含フッ素エーテルに接触させるエーテル置換工程４、エーテル置換工程４から、アルコールを含んだ含フッ素エーテルを取り出す取出し工程、取出し工程で取り出された、前記アルコールを含んだ含フッ素エーテルに、該含フッ素エーテルの質量に対して、０．２〜２倍の量の水を接触させる水抽出工程６、含フッ素エーテルとアルコールを含んだ水とを分離させる水分離工程７、水と分離された含フッ素エーテルを、上記エーテル置換工程４に戻す工程を有する物品の水切り方法。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、一般的に構成部品に関連する慣らし運転期間の必要性を排除すると共に、その摩耗期の構成部品の耐用年数を延長させるために、プラズマ・エッチング工程と、任意の強化超音波とメガソニックの少なくとも一方の前処理段階とを用いて半導体製造用部品を前処理する方法を提供する。
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【課題】ドライアイス洗浄時に乱気流の発生を抑えつつ異物の除去が可能なフィルム洗浄装置を提供する。
【解決手段】ロール状に巻かれたウェブフィルムＷを巻き出す巻出し装置２と、ウェブフィルムＷを液体で洗浄する第１洗浄部３１、第２洗浄部３３と、洗浄したウェブフィルムＷを乾燥する第１乾燥部３２、第２乾燥部３４と、乾燥したウェブフィルムＷに対して気体とともにパウダー状のドライアイスを吹き付ける吹付けノズル４１を有し、吹付けノズル４１でドライアイスを吹き付けてウェブフィルムＷを洗浄するドライアイス洗浄部４と、ドライアイス洗浄したウェブフィルムＷをロール状に巻き取る巻取り装置６と、を備え、吹付けノズル４１は、ドライアイスの吹付け方向がウェブフィルムの洗浄面に対して斜めに傾けて設置されている。 （もっと読む）

【課題】円筒容器内部の底面および側面に付着したチクソトロピー性残留物を自動的に除去して、これら底面および側面を共に効率良く清掃できるようにする。
【解決手段】開口部Ｄｈが斜め下方に指向した状態で支持され、長手方向軸線Ｌｄを中心にして所定方向に回転させられる円筒容器Ｄに対して、底面用ブレード３０と側面用ブレード４０円筒容器Ｄ内部の所定位置まで前進させ、底面用ブレード３０を円筒容器Ｄの内部底面Ｄｂに押し当てた状態で円筒容器Ｄが所定回数回転した後に、側面用ブレード４０を円筒容器Ｄの内部側面Ｄｓに押し当てた状態と円筒容器Ｄの回転状態とを維持しながら、前記側面用ブレード４０を円筒容器Ｄの内部側面Ｄｓに沿って後退させることにより、円筒容器Ｄ内部の底面Ｄｂおよび側面Ｄｓに付着したチクソトロピー性残留物を自動的に除去する。 （もっと読む）

【課題】トッププレートで基板の上方を覆う基板処理装置において、基板処理装置の小型化や処理能力の向上を図るとともに、基板を良好に処理できるようにすること。
【解決手段】本発明では、基板処理装置において、基板の下方に回動自在に配置され、前記基板を保持するターンテーブルと、前記ターンテーブルを回転させる回転駆動機構と、前記基板の上方に回動自在に配置され、前記基板の上方を覆うトッププレートと、前記ターンテーブルと前記トッププレートとの間に形成された処理流体流路に処理流体を供給する処理流体供給手段と、前記処理流体流路を挟んで前記ターンテーブル及び前記トッププレートそれぞれに非接触状態で引き合うように設けた磁石とを設けることにした。 （もっと読む）

【課題】フィルムへの負担を軽減しつつ、異物の十分な除去が可能なフィルム洗浄方法を提供する。
【解決手段】ロール状に巻かれたウェブフィルムＷを巻き出す巻出し工程と、巻出し工程により巻き出されたウェブフィルムＷを超音波で液体洗浄する第１洗浄工程と、第１洗浄工程後のウェブフィルムＷを第１洗浄工程で設定された周波数よりも高い周波数の超音波で液体洗浄する第２洗浄工程と、洗浄したウェブフィルムＷを乾燥する乾燥工程と、乾燥したウェブフィルムＷをロール状に巻き取る巻取り工程と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】 グリース、オイル、および汚れを機械部品から除去するために使用される多目的洗浄装置を提供する。
【解決手段】 本部品洗浄装置１は、部品に噴霧する第１の清浄チャンバ１０２と、部品を浸漬および攪拌する第２の清浄チャンバ１０１とにより画成された自動清浄部２を有し、更に自動清浄部２に移動可能に接続された手動清浄部の３つの清浄部を含む。全ての清浄部は、単一のポンプからの清浄液と、洗浄工程からの相当量の清浄液および破砕物を回収および貯蔵するリザーバ部と、ディスプレイから操作される単一の制御装置システムと、清浄液を加熱する熱エネルギー源とを使用する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ピッチ、ワックス、保護膜などの油性汚れと研磨剤、研磨屑、チリ、埃などの粒子汚れが複合して付着している光学部品を、部品に損傷を与えることなく、高効率、かつ、高度に汚れを除去するための洗浄装置及び洗浄方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の光学部品の洗浄装置は、界面活性剤を実質的に含まない非水系洗浄剤Ａにより光学部品を洗浄する１以上の洗浄槽（１）と、界面活性剤を含む非水系洗浄剤Ｂにより光学部品を洗浄する１以上の洗浄槽（２）と、界面活性剤を実質的に含まない非水系洗浄剤Ａ’により光学部品を洗浄する１以上の洗浄槽（３）とを有することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】枚葉方式で基板を薬液処理した後にリンス処理し乾燥処理する場合に、スループットおよびメンテナンス性を向上させることができるシステムを提供する。
【解決手段】基板Ｗを１枚ずつ薬液およびリンス液で処理する薬液処理部３８およびリンス処理部４０を連接して処理ユニット１４ａ〜１４ｃを構成し、１つの装置ベース上に複数の処理ユニット、基板搬送部２２および乾燥ユニット１６を設ける。処理ユニット１４ａ〜１４ｃにおいて基板Ｗを薬液処理部３８で薬液処理した後にリンス処理部４０でリンス処理する一連の処理を処理単位とし、１枚の基板に対し一連の処理を複数回行うときは、１つの処理ユニットから別の処理ユニットへ基板を順次搬送して、処理ユニットの設置数に対応する回数以内で適宜必要とする回数だけ処理単位を繰り返してから、基板を乾燥ユニット１６へ搬送して乾燥処理する （もっと読む）

【課題】洗浄装置の密閉性を確保しながら、多数の被洗浄物を連続的処理を可能にする。
【解決手段】液体洗浄ゾーンＺ３と、蒸気洗浄ゾーンＺ２と、乾燥ゾーンＺ１とを密閉容器１内に設けた密閉洗浄装置であって、密閉容器１内の天井部に設けられ、被洗浄物を収容したバスケット１２を搬入搬出させるための搬入口１６、搬出口１７とそれぞれ開閉する蓋１８，１８と、液体洗浄槽３の洗浄液中、蒸気洗浄ゾーンＺ２中、搬入口１６下及び搬出口１７下の乾燥ゾーン中に設けられ、それぞれバスケット１２を載置させる複数のバスケット受台１５と、搬入口１６を通じて搬入口１６下のバスケット受台１５にバスケット１２を受け渡す搬入装置と、密閉容器１内に移動自在に設けられ、各バスケット受台１５との間でバスケット１２を移載する移載装置２１と、搬出口１７を通じて搬出口１７下のバスケット受台１５からバスケット１２を取り上げて搬出する搬出装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】洗浄品質の優れた被洗浄物の洗浄処理が得られると共に、装置コストおよび洗浄コストを低減した洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置１００は、被洗浄物を洗浄処理する洗浄槽１、洗浄処理に使用された洗浄液Ｒを貯留するサブタンク２、洗浄槽１とサブタンク２とを連通する循環用回収管３および循環用供給管４、サブタンク２をオーバーフローする洗浄液Ｒを外部に移送する移送管７、洗浄槽１に供給装置１０１から洗浄液Ｒを供給する供給管５などを備えた同一構成の４つの洗浄ユニット１０（１０Ａ〜１０Ｄ）が、被洗浄物の移動方向（ＡからＢ方向）の下流側から上流側に向かって（ＣからＤ方向）並列配置されている。そして、サブタンク２内に配設されたオーバーフロー管６によってサブタンク２内に貯留された洗浄液Ｒの液面高さが調節されて、洗浄液Ｒが被洗浄物の移動方向の下流側から上流側（ＣからＤ方向）に向かって移送される。 （もっと読む）

【課題】ワーク浸漬時のワークおよびワーク処理槽の環境を一定にし、ムラ無く適切に表面処理を行うことができる浸漬処理装置のワーク浸漬装置および浸漬処理装置を提供する。
【解決手段】ワークＷに表面処理を行うワーク処理槽５の処理溶液に、ワークＷを浸漬するための浸漬処理装置１の浸漬移動機構１７であって、ワークＷを吊り下げる吊下げ機構５１と、吊下げ機構５１を昇降自在に支持すると共に、吊下げ機構５１を介してワークＷをワーク処理槽５に浸漬する昇降機構５２と、を備え、吊下げ機構５１を支持する昇降機構５２の出力端であるリードねじ７９が、吊下げ機構５１およびこれに吊り下げられたワークＷの重心位置に配設されている。 （もっと読む）

【課題】微細な回路が形成されたテープ状物やスペーサテープに付着した異物を洗浄除去するために好適に用いられる洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】被洗浄体の移動経路上で被洗浄体を洗浄する洗浄装置であって、被洗浄体を移動させる被洗浄体搬送手段、先端に設けた水供給ノズルから水を噴出して被洗浄体の表面に水膜を形成させる水供給手段、及び、先端に設けた過熱水蒸気供給ノズルから水膜の温度よりも高い温度の過熱水蒸気を噴出して水膜に当てる加熱水蒸気供給手段を備える洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】鉛フリー半田用フラックスや高融点半田用フラックス等を洗浄する際であっても、優れた洗浄性を示すとともに、次工程におけるアルコール系溶剤を使用したリンスにおいても優れたリンス特性を示すことができる半田フラックス除去用洗浄剤および半田フラックスの洗浄方法を提供する。
【解決手段】 全体量に対して、グリコール化合物の含有量が１重量％未満の場合であって、ベンジルアルコールの含有量を７０〜９９．９重量％、およびアミノアルコールの含有量を０．１〜３０重量％とした半田フラックス除去用洗浄剤を構成し、それを鉛フリー半田用フラックスや高融点半田用フラックス等の洗浄に使用する。 （もっと読む）

【課題】超音波を用いてアルミニウム基体表面に存在する異常成長の原因を従来以上に低減させることが可能な洗浄方法、洗浄装置を提供することにあり、更に、異常成長の原因が少ないアルミニウム基体洗浄方法、及びそれを用いた電子写真感光体の製造方法を提供することにある。
【解決手段】少なくとも脱脂工程およびリンス工程を有する洗浄工程を有するアルミニウム基体を洗浄する洗浄方法において、該脱脂工程においては２０ｋＨｚ以上３９ｋＨｚ以下の周波数の超音波を超音波発生手段により少なくとも１つの脱脂槽の洗浄液に印加し、該リンス工程においては１００ｋＨｚ以上２００ｋＨｚ以下の周波数の超音波を超音波発生手段により少なくとも１つのリンス槽の洗浄液に印加することを特徴とする基体洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】処理液供給ユニット１３内の処理液の減少に起因する基板処理装置の強制停止の頻度を減少させて、処理液を有効に使い、歩留まりの良好な基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板に液処理を施す複数の液処理ユニット１２と、複数の液処理ユニット１２に対する基板の搬入・搬出を行う基板搬送手段と、複数の液処理ユニット１２へ処理液を供給する処理液供給ユニット１３と、前記処理液供給ユニット１３の処理液貯留槽１６内の処理液の残量を検出するレベルゲージ１６１を備えて、レベルゲージ１６１が検出する処理液貯留槽１６内の処理液の残量が所定量を下回る場合に、液処理ユニット１２への基板の搬入を停止する。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法において、各ガラス基板の洗浄状態のバラツキをなくし、ガラス基板が次工程に持ち込む塵埃の数を一定にすることにより、常に安定した品質を保つことを目的とする。
【解決手段】 上記課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の代表的な構成は、ガラス基板１５０の研磨工程と、複数の洗浄槽内に少なくとも成分の異なる２種類以上の洗浄液１１２を洗浄槽１１４ごとに洗浄液１１２の種類を分けて供給しながら洗浄液１１２にガラス基板１５０を浸漬してタクト方式による洗浄を行う洗浄工程とを含み、洗浄工程において、洗浄液１１２に含まれる塵埃の数を計数し、計数した塵埃の数に応じてタクト時間内に塵埃の数が所定値以下となるよう洗浄液１１２の供給量を制御することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】連続的に搬入されてくる被洗浄物を洗浄でき、且つ洗浄液の漏洩を充分に防止できるインライン洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】複数個の洗浄槽１０，２０，３０の各々において、連続的に搬入されてくる被洗浄物Ａの挿入、減圧下での洗浄、蒸気洗浄、真空乾燥及び取出の各工程が重複することなく順次進行するように、前記挿入・取出手段、減圧手段、給液手段、洗浄手段、蒸気洗浄手段及び真空乾燥手段を制御する制御部５５が設けられており、且つ洗浄槽１０，２０，３０の各々に洗浄液を給液する給液タンク７０と、減圧手段によって吸引された洗浄槽１０，２０，３０の各槽内の洗浄液蒸気を含有するガスが導入され、凝縮器で凝縮された洗浄液を給液タンク７０に回収する蒸留器８０とを具備する。 （もっと読む）

【課題】洗浄液のランニングコストを低減する洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄液を循環させながら基板を洗浄する洗浄槽と、洗浄槽の排気中に含まれる気化している洗浄液を液化する凝縮器と、凝縮器により液化された洗浄液を洗浄槽に還流する還流手段とを備える。前記洗浄液は炭酸エチレンを含み、凝縮器は空気を冷媒としてもよく、気化している洗浄液の液化に伴って熱気として排出する。前記洗浄装置は、さらに、前記凝縮器から排出される熱気を、洗浄液の固化防止用熱源として洗浄装置の所定箇所に供給する。 （もっと読む）