【課題】この発明は基板を傾斜させて搬送しながら処理する際、傾斜方向の下側となる面を支持ローラで確実に支持することができる処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板の幅寸法よりも小さな幅寸法で形成されて並設されるとともに基板に対してそれぞれ所定の処理を行う複数の処理室３〜５と、基板の高さ寸法よりも短い長さ寸法に設定され各処理室内に上下方向に所定間隔で平行に設けられた複数の取り付け部材１１と、それぞれの取り付け部材に回転可能に設けられ処理室内に所定の角度で傾斜して送り込まれる基板の傾斜方向の下側の面を支持する支持ローラ１５と、
各処理室内に回転駆動可能に設けられ支持ローラによって傾斜方向の下側の面が支持される基板の下端を支持し回転駆動されることで基板を所定方向に搬送する駆動ローラと２２を具備する。 （もっと読む）

【課題】 不良基板の発生、生産性の低下、プロセス不良の発生、装置構成や基板搬送制御の複雑化を生じさせず、さらに、二酸化炭素を無駄に消費することもないようにして、純水に二酸化炭素を溶解させるか否かを切り換えることを可能にする。
【解決手段】 CO₂洗浄モジュールよりも上流側の剥離処理モジュールで基板が検知され（Ｓ１でＹＥＳ）、その基板の洗浄に純水への二酸化炭素の溶解が不要である場合であっても（Ｓ４でＮＯ）、その時点で洗浄モジュール内に存在している別の基板に対して二酸化炭素の溶解された純水が供給されている場合は（Ｓ５でＹＥＳ）、この二酸化炭素の溶解された純水の供給を受けている基板が下流側の基板処理モジュールに移動するまでは、洗浄モジュールの溶解機構による純水への二酸化炭素の溶解を停止させないようになっている（Ｓ５，Ｓ６，Ｓ７３，Ｓ７４）。 （もっと読む）

【課題】処理システムに異常が発生しても，被処理体を確実に救済することができる処理方法及び処理システムを提供する。
【解決手段】被処理体を同種の処理液によって順次処理する２以上の処理工程を含む処理方法において，前記同種の処理液で被処理体を処理する２以上の処理工程のいずれかにおいて処理工程に異常が生じた場合に，他の同種の処理液で被処理体を処理する工程に切り換え，その後の処理工程を継続して行うこととした。また，処理システムに，同種の処理液を被処理体に供給する２以上の供給系統１５５，１９２と，前記２以上の供給系統１５５，１９２による供給の切り換えを行う制御部７とを備えた。 （もっと読む）

従来技術（酸剥離）による部品の層範囲の除去方法では不均質な切除が行われるため、粗悪な結果を招く。それらの公知方法はまた、時間を要するものである。部品の層範囲を除去する本発明方法は、除去すべき層範囲をまず塩浴で、次いで酸浴で処理し、その部品を中間又は最終工程中に錯体生成物で処理する。塩浴に超音波を加えたり、酸供与体を添加したり、酸浴での処理後サンドブラストや流体研磨を行うことで、一層良好な結果を得ることができる。
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【課題】 洗浄処理をより効果的に、かつ均質に行うことを可能とした洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】 半導体ウエハＷ等の基板に洗浄処理を施す洗浄処理装置、例えば、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａは、ウエハＷを略水平に保持して面内回転させる保持手段であるスピンチャック７１と、スピンチャック７１に保持された基板の上面を洗浄するブラシ７６ａ・７６ｂ等の洗浄手段と、ブラシ７６ａ・７６ｂを保持するブラシ保持アーム７７ａ・７７ｂと、ブラシ保持アーム７７ａ・７７ｂをブラシ７６ａ・７６ｂがスピンチャック７１に保持されたウエハＷ上の所定位置を移動するように駆動するアーム駆動機構７９ａ・７９ｂとを具備する。カップ７３の外側の所定位置には、２本のリンスノズル８６ａ・８６ｂが配設されており、それぞれウエハＷの所定位置に洗浄液またはリンス液を供給してウエハＷ上に液膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成で、容易にプラスチックス製の品物を粉砕し洗浄して、再度プラスチックス製の品物を製造することをできるプラスチックスの洗浄装置と処理装置と品物製造方法を提供しようとする。
【解決手段】
従来のプラスチックス製のフレーク状破砕片を洗浄する洗浄装置にかわって、洗浄液を貯留可能な処理槽と、フレーク状破砕片を収納することのできる収納空間を囲い所定の大きさの多数の貫通穴が設けられた面材を有する容器と、前記処理槽に貯留した洗浄液に水流を発生させる水流発生装置と、を備え、前記収納空間に収納されたフレーク状破砕片を前記処理槽に貯留した洗浄液に浸すことをできる、ものとした。 （もっと読む）

【課題】有害物質が付着した作業服等の汚染物に対し、除染の有無を確認しつつ汚染物を確実に洗濯することができる汚染物洗濯装置及び方法を提供する。
【解決手段】有害物質が付着した汚染物付着被洗濯物１２を洗浄液で洗濯する第１の洗濯装置１３と、前記第１の洗濯装置１３で洗濯された被洗濯物１４を清澄洗浄液１５で洗濯する第２の洗濯装置１６と、前記第２の洗濯装置１６で使用した洗浄液１７を貯留する洗浄液タンク１８と、前記洗浄液タンク１８内の有害物質濃度を計測する有害物質濃度計測装置１９と、前記洗浄液タンク１８からの洗浄液１７を第１の洗濯装置１３で使用してなると共に、第１の洗濯装置１３で使用した汚染洗浄液１７ｂを貯留する汚染洗浄液タンク２０と、該汚染洗浄液タンク２０内の汚染洗浄液１７ｂを再生して清澄な再生洗浄液２１とする洗浄液再生装置２２と、再生洗浄液２１を貯留する清澄洗浄液タンク２３とを具備する。 （もっと読む）

【課題】カスケード堰で仕切られた複数の酸洗槽に鋼帯を順次通板させる酸洗処理において、酸液が鋼帯表面に付着して前段の酸洗槽から後段の酸洗槽に持ち込まれる酸液移動（鋼帯付着移動）は、カスケード堰の頂部の摩耗（鋼帯の摺接による）の進行と共に顕著となり、酸洗槽の酸濃度・液温のバランスを崩し酸洗効率を損なう。この酸液の移動を長期に亘って抑止する。
【解決手段】カスケード堰1の頂部直上に、大径胴部21_Ａと小径胴部21_Ｂとからなる胴部を有する鋼帯抑えロール2を、アイドル回転自在に配置して鋼帯の上に担持させる。カスケード堰の頂部に摩耗溝11が生じても、鋼帯Ｓは大径胴部と摩耗溝の底面との間に挟み付けられた状態で堰の頂部を通過する。このため堰の頂部の摩耗が進行しても長期に亘り、酸液の鋼帯付着移動の抑止効果が持続し、効率良く酸洗操業を遂行することができる。 （もっと読む）

【課題】 洗浄作業を停止することなく洗浄液の交換が行える多槽式洗浄装置と洗浄方法を提供する。
【解決手段】 多槽式洗浄装置は洗浄槽１に２つの循環槽２，３が併設され、循環槽２にはオイル分離機２１とヒータ２２が付設され、洗浄槽１と循環槽２とは２本の洗浄液の戻り管路２３及び供給管路２４で接続されている。戻り管路２３は洗浄槽１の浸漬部１２に接続されるとともに開閉弁２３ａを備え、供給管路２４は中間にポンプ２５を備え、このポンプ２５と循環槽２との間を個別の供給管路２４ａ、ポンプ２５と洗浄槽１との間を共通の供給管路２４ｂとし、個別の供給管路２４ａには開閉弁２４ｃを設け、共通の供給管路２４ｂについては更に分岐し、一方をスプレーブース１１のスプレーノズルに、他方を浸漬部１２に連結している。 （もっと読む）

ワーク洗浄装置（１）では、スパイラル状の送りフィンを備えた回転ドラムが同軸状に配置されている。従って、回転ドラムを軸線周りに回転させるだけで、ワークを回転ドラム内で自動的に搬送することができるとともに、回転ドラム間でのワークの受け渡しも容易である。複数の回転ドラムには、筒状体（１１）の内面から内側に向かって突出するスパイラル状の送りフィン（１２）を備えた洗浄用回転ドラム（１０）が含まれている。洗浄用回転ドラム（１０）において、送りフィン（１２）は、軸線方向における一方側から他方側に向かって内側に向かう高さ寸法が漸次高くなっている。それ故、洗浄用回転ドラム（１０）の内部で洗浄液が送りフィン（１２）を乗り越えることなどによる撹拌が起こるので、高い洗浄効果を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 各種レシピに対応した洗浄槽の配列構成が可能で、汎用性に富むとともに、スループットにも優れる基板洗浄技術を提供する。
【解決手段】 基板洗浄部Ｂは、複数種類の薬液で洗浄処理可能な多機能洗浄槽３（３ａ、３ｂ）と、専用の薬液で洗浄処理可能な単機能洗浄槽４（４ａ、４ｂ）とを組み合わせてなる洗浄槽列１（１ａ、１ｂ）が２組設けられてなり、各種レシピに対応した洗浄槽の配列構成が可能で、スループットにも優れる。 （もっと読む）