基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム
【課題】リソースの使用が延長されたことを判別できるようにすることにより、スケジュールに起因して処理が停止するのを防止して、装置の稼働率が低下するのを防止できる。
【解決手段】制御部２５は、単バッチのスケジュールにて、温水ユニットＨＤＩＷを使用する処理工程からロットが払い出されるタイミングに合わせて、温水ユニットＨＤＩＷの仮想リソースの使用終了時を表す仮想終了マークを付加しておく。全体スケジュールを作成する際に、払出が時間的に後ろにずれる場合には仮想リソースの仮想終了マークも時間的に後ろにずらし、仮想リソースの使用を仮想終了マークまで延長しておく。その結果、その後に配置される単バッチのスケジュールは、温水ユニットＨＤＩＷの仮想リソースによって排他される。リソースの競合によりアラームが発生して処理が停止するのを防止でき、装置稼働率の低下を防止できる。
【解決手段】制御部２５は、単バッチのスケジュールにて、温水ユニットＨＤＩＷを使用する処理工程からロットが払い出されるタイミングに合わせて、温水ユニットＨＤＩＷの仮想リソースの使用終了時を表す仮想終了マークを付加しておく。全体スケジュールを作成する際に、払出が時間的に後ろにずれる場合には仮想リソースの仮想終了マークも時間的に後ろにずらし、仮想リソースの使用を仮想終了マークまで延長しておく。その結果、その後に配置される単バッチのスケジュールは、温水ユニットＨＤＩＷの仮想リソースによって排他される。リソースの競合によりアラームが発生して処理が停止するのを防止でき、装置稼働率の低下を防止できる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置のガラス基板（以下、単に基板と称する）に所定の処理を行う基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムに係り、特に、基板に対して直接的な処理を行う処理部とは別体のユニット（別置ユニット）を含む基板処理装置のスケジュールを行う技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の方法として、基板を処理液に浸漬させて処理を行う複数個の処理液処理部と、これらの処理液処理部に共通であって、処理液処理部とは別体で各処理液処理部に対して処理液を供給する供給ユニットとを備えた基板処理装置を用いて、複数のロットを処理するためのスケジュールを作成する基板処理装置のスケジュール作成方法において、ロット単体だけを考慮した単バッチのスケジュールを作成し、その後に、全ロットの単バッチを一つの時間軸上に配置してスケジュールを行うものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このスケジュール作成方法では、単バッチのスケジュールを作成する際に、処理液処理部のリソースの使用に並行して、供給ユニットのリソースを使用するようにスケジューリングを行っている。したがって、単バッチにて処理液処理部のリソースを配置すると、それに付随して供給ユニットのリソースを配置するので、全体のスケジュールにおいても処理液処理部の配置と供給ユニットの配置とが対で配置される。供給ユニットとしては、例えば、純水を所定温度に加熱して温水として供給する温水ユニットがあり、その場合には、図１０のロット１〜３の単バッチのスケジュールに示すように、例えば、純水処理の最後に温水処理を行う場合（図１０（ａ）及び図１０（ｂ））と、純水処理の途中で温水処理を行う場合（図１０（ｃ））とがある。
【特許文献１】特開２００３−５９８９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の装置は、純水処理の最後に温水処理を行う場合、全体のスケジュールを作成する際に、図１１に示すように、ロット２を純水処理部ＯＮＢ２からを払い出すまでの時間が延びる場合があるが、全体スケジュールの作成時点では、温水処理から払出までの時間が延びたことが考慮されないので、次にロット３の単バッチスケジュールが図１１に示すように配置され得る。すると、ロット３における温水処理と、ロット２において延長された温水処理とが温水ユニットのリソースにて競合するので、全体スケジュールを作成した後、実際に処理を開始すると、ロット３における温水処理を行うことができず、アラームが発生して処理が停止するという問題がある。その結果、装置の稼働率が低下する。
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、リソースの使用が延長されたことを判別できるようにすることにより、スケジュールに起因して処理が停止するのを防止して、装置の稼働率が低下するのを防止することができる基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、基板に対して処理を行う複数個の処理部と、各処理部とは別体で構成され、各処理部における基板への処理に付随した処理を行う別置ユニットとを含む複数個のリソースを備えた基板処理装置により、制御部が各ロットについて各々のレシピに基づき各リソースを使用しながら処理するにあたり、各々のリソースを使用するタイミングを実際の処理の前に予め決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記制御部は、別置ユニットの実際のリソースとは異なる仮想リソースを定義するとともに、単一のロットについて、そのレシピに応じて各リソースを使用するとともに、別置ユニットのリソースを使用する処理工程については別置ユニットのリソースを使用するのに合わせて仮想リソースを使用するように単バッチのスケジュールを作成する過程と、単バッチのスケジュールのうち、別置ユニットを使用するものについては、別置ユニットのリソースを使用する処理からのロットの払出に合わせて、仮想リソースの使用を終了するタイミングに仮想終了マークを付加する過程と、単バッチのスケジュールを配置して全体スケジュールを作成する際に、別置ユニットのリソースを使用する処理の払出が時間的に後ろにずれる場合には、それに合わせて仮想リソースの仮想終了マークを後ろにずらすとともに、仮想リソースの使用を前記仮想終了マークまで延長する過程と、を実行することを特徴とするものである。
【０００７】
［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、制御部は、別置ユニットの仮想リソースを定義しておき、単バッチのスケジュールにて、別置ユニットを使用する場合には、別置ユニットを使用する処理工程からロットが払い出されるタイミングに合わせて、別置ユニットの仮想リソースの使用終了時を表す仮想終了マークを付加しておく。そして、全体スケジュールを作成する際に、別置ユニットのリソースを使用する処理工程からの払出が時間的に後ろにずれる場合には、それにあわせて仮想リソースの仮想終了マークも時間的に後ろにずらす。さらに、仮想リソースの使用を仮想終了マークまで延長しておく。したがって、別置ユニットを使用する処理工程におけるロットの払出タイミングが全体スケジュールの時点で時間的に後ろにずれたとしても、別置ユニットのリソースの使用が延長されたことを仮想リソースの状態から判別することができる。その結果、その後に配置される単バッチのスケジュールは、別置ユニットの仮想リソースによって排他されるので、全体スケジュールを実行する際にリソースの競合によりアラームが発生して処理が停止することを防止できる。よって、装置稼働率の低下を防止することができる。
【０００８】
また、本発明において、前記仮想終了マークは、別置ユニットが処理の最後に使用される場合にのみ付加されることが好ましい（請求項２）。別置ユニットが処理の最後に使用される場合に特に効果が大きい。
【０００９】
また、本発明において、前記別置ユニットは、純水を所定の温度に加熱して得られる温水を供給するための温水ユニットであることが好ましい（請求項３）。温水ユニットは、複数の処理部で共用されていることが多いので、リソースの競合が発生しやすい。したがって、排他的処理の効果が大きい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係る基板処理装置のスケジュール作成方法によれば、制御部は、別置ユニットの仮想リソースを定義しておき、単バッチのスケジュールにて、別置ユニットを使用する場合には、別置ユニットを使用する処理工程からロットが払い出されるタイミングに合わせて、別置ユニットの仮想リソースの使用終了時を表す仮想終了マークを付加しておく。そして、全体スケジュールを作成する際に、別置ユニットのリソースを使用する処理工程からの払出が時間的に後ろにずれる場合には、それにあわせて仮想リソースの仮想終了マークも時間的に後ろにずらす。さらに、仮想リソースの使用を仮想終了マークまで延長しておく。したがって、別置ユニットを使用する処理工程におけるロットの払出タイミングが全体スケジュールの時点で時間的に後ろにずれたとしても、別置ユニットのリソースの使用が延長されたことを仮想リソースの状態から判別することができる。その結果、その後に配置される単バッチのスケジュールは、別置ユニットの仮想リソースによって排他されるので、全体スケジュールを実行する際にリソースの競合によりアラームが発生して処理が停止するのを防止できる。よって、装置稼働率の低下を防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
図１は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図であり、図２は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。
【００１２】
この基板処理装置は、例えば、基板Ｗに対して薬液処理及び純水処理及び乾燥処理を行うための装置である。基板Ｗは、複数枚（例えば、２５枚）がカセット１内に水平姿勢で積層収納されている。未処理の基板Ｗを収納したカセット１は、投入部３に載置される。投入部３は、カセット１が載置される載置台５を二つ備えている。基板処理装置の中央部を挟んだ投入部３の反対側には、払出部７が配備されている。この払出部７は、処理済みの基板Ｗをカセット１に収納してカセット１ごと払い出す。このように機能する払出部７は、投入部３と同様に、カセット１を載置するための二つの載置台９を備えている。
【００１３】
投入部３と払出部７に沿う位置には、これらの間を移動可能に構成された第１搬送機構ＣＴＣが設けられている。第１搬送機構ＣＴＣは、投入部３に載置されたカセット１に収納されている全ての基板Ｗを取り出した後、第２搬送機構ＷＴＲに対して搬送する。また、第１搬送機構ＣＴＣは、第２搬送機構ＷＴＲから処理済みの基板Ｗを受け取った後に、基板Ｗをカセット１に収納する。第２搬送機構ＷＴＲは、基板処理装置の長手方向に沿って移動可能に構成されている。
【００１４】
上述した第２搬送機構ＷＴＲの移動方向における払出部７側には、複数枚の基板Ｗを低圧のチャンバ内に収納して乾燥させるための乾燥処理部ＬＰＤが設けられている。
【００１５】
第２搬送機構ＷＴＲの移動方向であって乾燥処理部ＬＰＤに隣接する位置には、第１処理部１９が配設されている。この第１処理部１９は、複数枚の基板Ｗに対して純水処理を施すための純水処理部ＯＮＢ１を備えているとともに、複数枚の基板Ｗに対して薬液を含む処理液によって薬液処理を施すための薬液処理部ＣＨＢ１を備えている。また、第１処理部１９は、第２搬送機構ＷＴＲとの間で基板Ｗを受け渡すとともに、純水処理部ＯＮＢ１と薬液処理部ＣＨＢ１でのみ昇降可能な副搬送機構ＬＦＳ１を備えている。
【００１６】
第１処理部１９に隣接した位置には、第２処理部２１が設けられている。第２処理部２１は、上述した第１処理部１９と同様の構成である。つまり、純水処理部ＯＮＢ２と薬液処理部ＣＨＢ２と副搬送機構ＬＦＳ２とを備えている。
【００１７】
また、この基板処理装置は、上述した各処理部１９，２１とは別体で構成された温水ユニットＨＤＩＷを備えている。この温水ユニットＨＤＩＷは、上述した純水処理部ＯＮＢ１，ＯＮＢ２で共有されており、それらに対して所定温度に加熱した純水（以下、温水と称する）を供給する機能を備えている。
【００１８】
なお、上述した温水ユニットＨＤＩＷが本発明における「別置ユニット」に相当する。
【００１９】
上記のように構成された基板処理装置は、図２のブロック図に示すように制御部２５によって統括的に制御される。図２は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。なお、制御部２５は、本発明における「コンピュータ」に相当する。
【００２０】
制御部２５は、ＣＰＵやカウンタ・タイマ等を備え、スケジューリング部２７と、処理実行指示部３１とを備えている。制御部２５に接続されている記憶部３３は、この基板処理装置のユーザなどによって予め作成され、基板Ｗをどのようにして処理するかを規定した複数の処理工程を含むレシピと、スケジュール作成プログラムと、作成されたスケジュールを実行する処理プログラムなどが予め格納されている。
【００２１】
スケジューリング部２７は、カセット１に収納されて投入部３に載置された基板Ｗを一つのロットとして取り扱い、装置のオペレータによって指示された、記憶部３３に予め記憶されているレシピに応じて、実際に処理を開始する前に、単一のロット毎に、各リソースを使用する単バッチのスケジュールを作成する。また、スケジューリング部２７は、温水ユニットＨＤＩＷとは別のリソースを仮想リソースＩＲとして定義して、温水ユニットＨＤＩＷの使用にあわせてこの仮想リソースＩＲを使用するように単バッチのスケジュールを作成する。さらに、単バッチのスケジュールのうち、温水ユニットＨＤＩＷを使用するものについては、その仮想リソースＩＲの使用タイミングの最後に、温水ユニットＨＤＩＷの使用を終了するタイミングに仮想終了マークＩＭを付加しておく。但し、仮想終了マークＩＭは、温水ユニットＨＤＩＷが処理の最後で使用される場合にのみ付加されることが好ましい。さらに、全ての単バッチのスケジュールを同一の時間軸上に配置して全体のスケジュールを作成する。全体スケジュールの際には、温水ユニットＨＤＩＷを使用する処理の払出が時間的に後ろにずれる場合には、それに合わせて温水ユニットＨＤＩＷの仮想リソースＩＲの仮想終了マークＩＭも後ろにずらすとともに、仮想リソースＩＲの使用を仮想終了マークＩＭまで延長する。このようにして作成されたスケジュールは、記憶部３３に格納される。
【００２２】
なお、ここでいうリソースとは、第１搬送機構ＣＴＣ、第２搬送機構ＷＴＲ、乾燥処理部ＬＰＤ、純水処理部ＯＮＢ１，ＯＮＢ２、薬液処理部ＣＨＢ１，ＣＨＢ２、副搬送機構ＬＦＳ１，ＬＦＳ２など、制御部２５の制御の下でロットの処理のために使用される資源をいう。但し、温水ユニットＨＤＩＷは、単体のリソースとして利用されることはなく、純水処理部ＯＮＢ１，ＯＮＢ２において温水洗浄処理が行われる際に、その処理に付随して利用される。また、仮想リソースＩＲも単体のリソースとして利用されることはなく、温水ユニットＨＤＩＷに合わせて使用される。
【００２３】
処理実行指示部３１は、スケジューリング部２７によって作成されて、記憶部３３に格納されているスケジュールに基づいて、適切なタイミングで各処理部などの処理に係る動作を指示する。
【００２４】
次に、具体的なスケジュール作成方法について、図３〜９を参照して説明する。なお、図３は、スケジュール作成を示すフローチャートであり、図４は、全体スケジュールの作成を示すフローチャートである。また、図５（ａ）〜（ｃ）は、各ロットの単バッチのスケジュールを示すタイムチャートであり、図６〜９は、全体のスケジュール作成過程を示すタイムチャートである。
【００２５】
以下においては、説明の理解を容易にするために、ロット１〜３の三つのロットのみをスケジュールする場合を例に採って説明するが、２つのロットや４つ以上のロットについても同様にしてスケジューリングすることができる。
【００２６】
この例におけるロット１のレシピは、例えば、図５（ａ）に示すようなものである。ここで最初の数字は、ロット番号を示し、「−」の後のアルファベットが処理工程番号を表す。また、各処理工程１−Ａ〜１−Ｄにおいて、前の空白にあたる部分は、リソースを使用するための準備にあたる前作業であり、後ろの空白にあたる部分は、使用したリソースの片付けにあたる後作業（ロットの払出を含む）である。図５中に示すように温水ユニットＨＤＩＷにおけるドットハッチングした部分は、純水処理部ＯＮＢ１，２のリソースが使用される場合に付随する処理工程である。
【００２７】
処理工程１−Ａは、第1搬送機構ＣＴＣによる搬送処理であり、処理工程１−Ｂは、第２搬送機構ＷＴＲによる搬送処理と、薬液処理部ＣＨＢ１による薬液処理と、第２搬送機構ＷＴＲによる搬送処理と、純水処理部ＯＮＢ１による洗浄処理と、この洗浄処理において最後に温水ユニットＨＤＩＷにより実施される温水洗浄処理である。また、処理工程１−Ｃは、第２搬送機構ＷＴＲによる搬送処理及び乾燥処理部ＬＰＤによる乾燥処理であり、処理工程１−Ｄは、第２搬送機構ＷＴＲによる搬送処理及び第１搬送機構ＣＴＣによる搬送処理である。
【００２８】
また、この例におけるロット２のレシピは、上述したロット１のレシピのうち、処理工程２−Ｂにおけるリソースが薬液処理部ＣＨＢ２及び純水処理部ＯＮＢ２である点が異なるだけである。ロット３のレシピは、上述したロット１のレシピにおいて、温水ユニットＨＤＩＷの処理が最後ではなく、中間において行われる点で相違する。
【００２９】
ステップＳ１〜Ｓ３
装置のオペレータは、未処理の基板Ｗが収納されたカセット１を投入台３の載置台５に載置する（ステップＳ１）。図示しない指示部から上述したレシピを指示する（ステップＳ２）。すると、制御部２５は、記憶部３３に記憶されているレシピのデータを読み込む（ステップＳ３）。本実施例では、３個のカセット１を続けて載置台５に載置するとともに、それぞれにおいて上述したレシピを指示する。
【００３０】
ステップＳ４
スケジューリング部２７は、読み込まれたレシピのデータに基づいて、各ロット１〜３について、それぞれ単バッチのスケジュールを作成する。具体的には、ロット１について各処理工程１−Ａ〜１−Ｄの時間計算を行うとともに、図５（ａ）に示すように各処理工程１−Ａ〜１−Ｄに要する時間に基づいてスケジュールを作成する。また、同様に、ロット２について各処理工程２−Ａ〜２−Ｄの時間計算を行うとともに、図５（ｂ）に示すように各処理工程２−Ａ〜２−Ｄに要する時間に基づきスケジュールを作成する。さらに、ロット３についても同様に各処理工程３−Ａ〜３−Ｄの時間計算を行うとともに、図５（ｃ）に示すように各処理工程３−Ａ〜３−Ｄに要する時間に基づきスケジュールを作成する。
【００３１】
ステップＳ５
スケジューリング部２７は、作成した単バッチのスケジュールのうち、温水ユニットＨＤＩＷを使用するものについては、その使用に合わせて仮想リソースＩＲを使用するようにスケジュールする。さらに、温水ユニットＨＤＩＷを使用するもののうち、その使用タイミングが処理の最後であるものについては、その仮想リソースＩＲの使用タイミングの最後に、温水ユニットＨＤＩＷの使用が終了することを示す仮想終了マークＩＭを付加しておく。本実施例の場合には、ロット１（図５（ａ））とロット２（図５（ｂ））だけが仮想終了マークＩＭを付加される。
【００３２】
ステップＳ６
スケジューリング部２７は、上述したようにして作成した全ての単バッチのスケジュール（図５（ａ）〜図５（ｃ））を同じ時間軸上に配置して全体のスケジュールを作成する。つまり、同じタイムチャート上に３ロット分の単バッチスケジュールを配置してゆく。その際には、同時刻で同じリソースが重複して使用されないようにタイミングが調整される。単体のリソースではないが、純水処理部ＯＮＢ１，ＯＮＢ２に付随する温水ユニットＨＤＩＷのリソース及び仮想リソースＩＲも同様に重複使用が回避される。
【００３３】
次に、スケジューリング部２７は、例えば、次のようにして全体のスケジュールを作成する。
【００３４】
ステップＳ１１，Ｓ１２
スケジューリング部２７は、スケジュール基準時間（処理開始予定時刻）からロット１の単バッチのスケジュールを配置する。具体的には、ロット１の単バッチのスケジュールのうち、各処理工程１−Ａ〜１−Ｄが配置可能な位置を検索して順次配置する。その結果、例えば、図６のようになったとする。
【００３５】
ステップＳ１３
仮想終了マークＩＭがあって、処理との間に隙間があるか否かで処理を分岐する。隙間がある場合にはステップＳ１４に移行し、隙間がない場合にはステップＳ１５に移行する。ここでは、ロット１を配置しただけであり、仮想終了マークＩＭと処理との間に隙間がないので、ステップＳ１５に処理を移行し、ロット２，３が残っているので、ステップＳ１１に処理を移行する。
【００３６】
ステップＳ１１〜Ｓ１５
次に、ロット２の処理工程を配置する。
その結果、図７に示すように、処理工程２−Ｃの配置の関係上、処理工程２−Ｂにおけるロット２の払出が後ろにずれたとする。スケジュール作成部２７は、これに合わせて、仮想リソースＩＲの仮想終了マークＩＭも後ろにずらす。したがって、ステップＳ１３において処理と仮想終了マークＩＭとの間に隙間があると判断されるので、ステップＳ１４において、仮想リソースＩＲの使用を仮想終了マークＩＭまで延長する（図８）。そして、ロット３の配置に移る。
【００３７】
ステップＳ１１〜Ｓ１３，Ｓ１５
次に、ロット３の配置を行う。
その結果、図９に示すように各処理工程３−Ａ〜３−Ｄが配置されたとする。従来では、温水ユニットＨＤＩＷの使用タイミングの関係で、Ｔ時点まで前詰めでロット３の処理工程３−Ｂを配置することができるが、本実施例では仮想リソースＩＲがロット２の仮想終了マークＩＭまで占有されているので排他されて配置できない。また、ロット３については単バッチのスケジュールに仮想終了マークＩＭが存在しないので、ステップＳ１３からステップＳ１５に処理が移行して、全体スケジュールが完了する。
【００３８】
上述したようにして、各ロット１〜３の単バッチのスケジュールが配置された後、スケジュール処理を終了して、作成された全体スケジュールを記憶部３３に格納する。格納された全体スケジュールは、処理実行指示部３１によって参照され、各リソースを実際に使用しながら各ロット１〜３について処理を行う。
【００３９】
上述したように、本実施例によると、制御部２５は、温水ユニットＨＤＩＷの仮想リソースＩＲを定義しておき、単バッチのスケジュールにて、温水ユニットＨＤＩＷを使用する場合には、温水ユニットＨＤＩＷを使用する処理工程からロットが払い出されるタイミングに合わせて、温水ユニットＨＤＩＷの仮想リソースＩＲの使用終了時を表す仮想終了マークＩＭを付加しておく。そして、全体スケジュールを作成する際に、温水ユニットＨＤＩＷのリソースを使用する処理工程からの払出が時間的に後ろにずれる場合には、それにあわせて仮想リソースＩＲの仮想終了マークＩＭも時間的に後ろにずらす。さらに、仮想リソースＩＲの使用を仮想終了マークＩＭまで延長しておく。したがって、温水ユニットＨＤＩＷを使用する処理工程におけるロットの払出タイミングが全体スケジュールの時点で時間的に後ろにずれたとしても、温水ユニットＨＤＩＷのリソースの使用が延長されたことを仮想リソースＩＲの状態から判別することができる。その結果、その後に配置される単バッチのスケジュールは、温水ユニットＨＤＩＷの仮想リソースＩＲによって排他されるので、全体スケジュールを実行する際にリソースの競合によりアラームが発生して処理が停止するのを防止できる。よって、装置稼働率の低下を防止できる。
【００４０】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００４１】
（１）上述した実施例では、別置ユニットとして、処理液としての温水を供給する温水ユニットＨＤＩＷを例にとって説明したが、その他に別置ユニットとしては、例えば、薬液処理部ＣＨＢ１，ＣＨＢ２に薬液を含む処理液を供給する薬液ユニット（オゾン水供給ユニット）や、処理用の気体を供給する気体供給ユニットなどが挙げられる。
【００４２】
（２）上述した実施例では、上述した実施例では、ロット１からロット３まで順に単バッチのスケジュールを配置して全体スケジュールを作成したが、例えば、各ロット１〜３の各処理工程を順次に配置する方法を採用し、さらに各ロットの前の処理工程のうち最も早く処理が終了するものに続く処理工程を配置する方法を採用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図である。
【図２】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。
【図３】スケジュール作成を示すフローチャートである。
【図４】全体スケジュールの作成を示すフローチャートである。
【図５】（ａ）〜（ｃ）は各ロットの単バッチのスケジュールを示すタイムチャートである。
【図６】全体のスケジュール作成過程を示すタイムチャートである。
【図７】全体のスケジュール作成過程を示すタイムチャートである。
【図８】全体のスケジュール作成過程を示すタイムチャートである。
【図９】全体のスケジュール作成過程を示すタイムチャートである。
【図１０】（ａ）〜（ｃ）は従来例における各ロットの単バッチのスケジュールを示すタイムチャートである。
【図１１】従来例における全体のスケジュール作成過程を示すタイムチャートである。
【符号の説明】
【００４４】
１ … カセット
３ … 投入部
５ … 載置台
７ … 払出部
ＣＴＲ … 第１搬送機構
ＷＴＲ … 第２搬送機構
ＬＰＤ … 乾燥処理部
１９ … 第１処理部
２１ … 第２処理部
ＯＮＢ１，ＯＮＢ２ … 純水処理部
ＣＨＢ１，ＣＨＢ２ … 薬液処理部
ＬＦＳ１，ＬＦＳ２ … 副搬送機構
ＨＤＩＷ … 温水ユニット
２５ … 制御部
２７ … スケジューリング部
３１ … 処理実行指示部
３３ … 記憶部
ＩＲ … 仮想リソース
ＩＭ … 仮想終了マーク
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置のガラス基板（以下、単に基板と称する）に所定の処理を行う基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムに係り、特に、基板に対して直接的な処理を行う処理部とは別体のユニット（別置ユニット）を含む基板処理装置のスケジュールを行う技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の方法として、基板を処理液に浸漬させて処理を行う複数個の処理液処理部と、これらの処理液処理部に共通であって、処理液処理部とは別体で各処理液処理部に対して処理液を供給する供給ユニットとを備えた基板処理装置を用いて、複数のロットを処理するためのスケジュールを作成する基板処理装置のスケジュール作成方法において、ロット単体だけを考慮した単バッチのスケジュールを作成し、その後に、全ロットの単バッチを一つの時間軸上に配置してスケジュールを行うものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このスケジュール作成方法では、単バッチのスケジュールを作成する際に、処理液処理部のリソースの使用に並行して、供給ユニットのリソースを使用するようにスケジューリングを行っている。したがって、単バッチにて処理液処理部のリソースを配置すると、それに付随して供給ユニットのリソースを配置するので、全体のスケジュールにおいても処理液処理部の配置と供給ユニットの配置とが対で配置される。供給ユニットとしては、例えば、純水を所定温度に加熱して温水として供給する温水ユニットがあり、その場合には、図１０のロット１〜３の単バッチのスケジュールに示すように、例えば、純水処理の最後に温水処理を行う場合（図１０（ａ）及び図１０（ｂ））と、純水処理の途中で温水処理を行う場合（図１０（ｃ））とがある。
【特許文献１】特開２００３−５９８９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の装置は、純水処理の最後に温水処理を行う場合、全体のスケジュールを作成する際に、図１１に示すように、ロット２を純水処理部ＯＮＢ２からを払い出すまでの時間が延びる場合があるが、全体スケジュールの作成時点では、温水処理から払出までの時間が延びたことが考慮されないので、次にロット３の単バッチスケジュールが図１１に示すように配置され得る。すると、ロット３における温水処理と、ロット２において延長された温水処理とが温水ユニットのリソースにて競合するので、全体スケジュールを作成した後、実際に処理を開始すると、ロット３における温水処理を行うことができず、アラームが発生して処理が停止するという問題がある。その結果、装置の稼働率が低下する。
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、リソースの使用が延長されたことを判別できるようにすることにより、スケジュールに起因して処理が停止するのを防止して、装置の稼働率が低下するのを防止することができる基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、基板に対して処理を行う複数個の処理部と、各処理部とは別体で構成され、各処理部における基板への処理に付随した処理を行う別置ユニットとを含む複数個のリソースを備えた基板処理装置により、制御部が各ロットについて各々のレシピに基づき各リソースを使用しながら処理するにあたり、各々のリソースを使用するタイミングを実際の処理の前に予め決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記制御部は、別置ユニットの実際のリソースとは異なる仮想リソースを定義するとともに、単一のロットについて、そのレシピに応じて各リソースを使用するとともに、別置ユニットのリソースを使用する処理工程については別置ユニットのリソースを使用するのに合わせて仮想リソースを使用するように単バッチのスケジュールを作成する過程と、単バッチのスケジュールのうち、別置ユニットを使用するものについては、別置ユニットのリソースを使用する処理からのロットの払出に合わせて、仮想リソースの使用を終了するタイミングに仮想終了マークを付加する過程と、単バッチのスケジュールを配置して全体スケジュールを作成する際に、別置ユニットのリソースを使用する処理の払出が時間的に後ろにずれる場合には、それに合わせて仮想リソースの仮想終了マークを後ろにずらすとともに、仮想リソースの使用を前記仮想終了マークまで延長する過程と、を実行することを特徴とするものである。
【０００７】
［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、制御部は、別置ユニットの仮想リソースを定義しておき、単バッチのスケジュールにて、別置ユニットを使用する場合には、別置ユニットを使用する処理工程からロットが払い出されるタイミングに合わせて、別置ユニットの仮想リソースの使用終了時を表す仮想終了マークを付加しておく。そして、全体スケジュールを作成する際に、別置ユニットのリソースを使用する処理工程からの払出が時間的に後ろにずれる場合には、それにあわせて仮想リソースの仮想終了マークも時間的に後ろにずらす。さらに、仮想リソースの使用を仮想終了マークまで延長しておく。したがって、別置ユニットを使用する処理工程におけるロットの払出タイミングが全体スケジュールの時点で時間的に後ろにずれたとしても、別置ユニットのリソースの使用が延長されたことを仮想リソースの状態から判別することができる。その結果、その後に配置される単バッチのスケジュールは、別置ユニットの仮想リソースによって排他されるので、全体スケジュールを実行する際にリソースの競合によりアラームが発生して処理が停止することを防止できる。よって、装置稼働率の低下を防止することができる。
【０００８】
また、本発明において、前記仮想終了マークは、別置ユニットが処理の最後に使用される場合にのみ付加されることが好ましい（請求項２）。別置ユニットが処理の最後に使用される場合に特に効果が大きい。
【０００９】
また、本発明において、前記別置ユニットは、純水を所定の温度に加熱して得られる温水を供給するための温水ユニットであることが好ましい（請求項３）。温水ユニットは、複数の処理部で共用されていることが多いので、リソースの競合が発生しやすい。したがって、排他的処理の効果が大きい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係る基板処理装置のスケジュール作成方法によれば、制御部は、別置ユニットの仮想リソースを定義しておき、単バッチのスケジュールにて、別置ユニットを使用する場合には、別置ユニットを使用する処理工程からロットが払い出されるタイミングに合わせて、別置ユニットの仮想リソースの使用終了時を表す仮想終了マークを付加しておく。そして、全体スケジュールを作成する際に、別置ユニットのリソースを使用する処理工程からの払出が時間的に後ろにずれる場合には、それにあわせて仮想リソースの仮想終了マークも時間的に後ろにずらす。さらに、仮想リソースの使用を仮想終了マークまで延長しておく。したがって、別置ユニットを使用する処理工程におけるロットの払出タイミングが全体スケジュールの時点で時間的に後ろにずれたとしても、別置ユニットのリソースの使用が延長されたことを仮想リソースの状態から判別することができる。その結果、その後に配置される単バッチのスケジュールは、別置ユニットの仮想リソースによって排他されるので、全体スケジュールを実行する際にリソースの競合によりアラームが発生して処理が停止するのを防止できる。よって、装置稼働率の低下を防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
図１は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図であり、図２は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。
【００１２】
この基板処理装置は、例えば、基板Ｗに対して薬液処理及び純水処理及び乾燥処理を行うための装置である。基板Ｗは、複数枚（例えば、２５枚）がカセット１内に水平姿勢で積層収納されている。未処理の基板Ｗを収納したカセット１は、投入部３に載置される。投入部３は、カセット１が載置される載置台５を二つ備えている。基板処理装置の中央部を挟んだ投入部３の反対側には、払出部７が配備されている。この払出部７は、処理済みの基板Ｗをカセット１に収納してカセット１ごと払い出す。このように機能する払出部７は、投入部３と同様に、カセット１を載置するための二つの載置台９を備えている。
【００１３】
投入部３と払出部７に沿う位置には、これらの間を移動可能に構成された第１搬送機構ＣＴＣが設けられている。第１搬送機構ＣＴＣは、投入部３に載置されたカセット１に収納されている全ての基板Ｗを取り出した後、第２搬送機構ＷＴＲに対して搬送する。また、第１搬送機構ＣＴＣは、第２搬送機構ＷＴＲから処理済みの基板Ｗを受け取った後に、基板Ｗをカセット１に収納する。第２搬送機構ＷＴＲは、基板処理装置の長手方向に沿って移動可能に構成されている。
【００１４】
上述した第２搬送機構ＷＴＲの移動方向における払出部７側には、複数枚の基板Ｗを低圧のチャンバ内に収納して乾燥させるための乾燥処理部ＬＰＤが設けられている。
【００１５】
第２搬送機構ＷＴＲの移動方向であって乾燥処理部ＬＰＤに隣接する位置には、第１処理部１９が配設されている。この第１処理部１９は、複数枚の基板Ｗに対して純水処理を施すための純水処理部ＯＮＢ１を備えているとともに、複数枚の基板Ｗに対して薬液を含む処理液によって薬液処理を施すための薬液処理部ＣＨＢ１を備えている。また、第１処理部１９は、第２搬送機構ＷＴＲとの間で基板Ｗを受け渡すとともに、純水処理部ＯＮＢ１と薬液処理部ＣＨＢ１でのみ昇降可能な副搬送機構ＬＦＳ１を備えている。
【００１６】
第１処理部１９に隣接した位置には、第２処理部２１が設けられている。第２処理部２１は、上述した第１処理部１９と同様の構成である。つまり、純水処理部ＯＮＢ２と薬液処理部ＣＨＢ２と副搬送機構ＬＦＳ２とを備えている。
【００１７】
また、この基板処理装置は、上述した各処理部１９，２１とは別体で構成された温水ユニットＨＤＩＷを備えている。この温水ユニットＨＤＩＷは、上述した純水処理部ＯＮＢ１，ＯＮＢ２で共有されており、それらに対して所定温度に加熱した純水（以下、温水と称する）を供給する機能を備えている。
【００１８】
なお、上述した温水ユニットＨＤＩＷが本発明における「別置ユニット」に相当する。
【００１９】
上記のように構成された基板処理装置は、図２のブロック図に示すように制御部２５によって統括的に制御される。図２は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。なお、制御部２５は、本発明における「コンピュータ」に相当する。
【００２０】
制御部２５は、ＣＰＵやカウンタ・タイマ等を備え、スケジューリング部２７と、処理実行指示部３１とを備えている。制御部２５に接続されている記憶部３３は、この基板処理装置のユーザなどによって予め作成され、基板Ｗをどのようにして処理するかを規定した複数の処理工程を含むレシピと、スケジュール作成プログラムと、作成されたスケジュールを実行する処理プログラムなどが予め格納されている。
【００２１】
スケジューリング部２７は、カセット１に収納されて投入部３に載置された基板Ｗを一つのロットとして取り扱い、装置のオペレータによって指示された、記憶部３３に予め記憶されているレシピに応じて、実際に処理を開始する前に、単一のロット毎に、各リソースを使用する単バッチのスケジュールを作成する。また、スケジューリング部２７は、温水ユニットＨＤＩＷとは別のリソースを仮想リソースＩＲとして定義して、温水ユニットＨＤＩＷの使用にあわせてこの仮想リソースＩＲを使用するように単バッチのスケジュールを作成する。さらに、単バッチのスケジュールのうち、温水ユニットＨＤＩＷを使用するものについては、その仮想リソースＩＲの使用タイミングの最後に、温水ユニットＨＤＩＷの使用を終了するタイミングに仮想終了マークＩＭを付加しておく。但し、仮想終了マークＩＭは、温水ユニットＨＤＩＷが処理の最後で使用される場合にのみ付加されることが好ましい。さらに、全ての単バッチのスケジュールを同一の時間軸上に配置して全体のスケジュールを作成する。全体スケジュールの際には、温水ユニットＨＤＩＷを使用する処理の払出が時間的に後ろにずれる場合には、それに合わせて温水ユニットＨＤＩＷの仮想リソースＩＲの仮想終了マークＩＭも後ろにずらすとともに、仮想リソースＩＲの使用を仮想終了マークＩＭまで延長する。このようにして作成されたスケジュールは、記憶部３３に格納される。
【００２２】
なお、ここでいうリソースとは、第１搬送機構ＣＴＣ、第２搬送機構ＷＴＲ、乾燥処理部ＬＰＤ、純水処理部ＯＮＢ１，ＯＮＢ２、薬液処理部ＣＨＢ１，ＣＨＢ２、副搬送機構ＬＦＳ１，ＬＦＳ２など、制御部２５の制御の下でロットの処理のために使用される資源をいう。但し、温水ユニットＨＤＩＷは、単体のリソースとして利用されることはなく、純水処理部ＯＮＢ１，ＯＮＢ２において温水洗浄処理が行われる際に、その処理に付随して利用される。また、仮想リソースＩＲも単体のリソースとして利用されることはなく、温水ユニットＨＤＩＷに合わせて使用される。
【００２３】
処理実行指示部３１は、スケジューリング部２７によって作成されて、記憶部３３に格納されているスケジュールに基づいて、適切なタイミングで各処理部などの処理に係る動作を指示する。
【００２４】
次に、具体的なスケジュール作成方法について、図３〜９を参照して説明する。なお、図３は、スケジュール作成を示すフローチャートであり、図４は、全体スケジュールの作成を示すフローチャートである。また、図５（ａ）〜（ｃ）は、各ロットの単バッチのスケジュールを示すタイムチャートであり、図６〜９は、全体のスケジュール作成過程を示すタイムチャートである。
【００２５】
以下においては、説明の理解を容易にするために、ロット１〜３の三つのロットのみをスケジュールする場合を例に採って説明するが、２つのロットや４つ以上のロットについても同様にしてスケジューリングすることができる。
【００２６】
この例におけるロット１のレシピは、例えば、図５（ａ）に示すようなものである。ここで最初の数字は、ロット番号を示し、「−」の後のアルファベットが処理工程番号を表す。また、各処理工程１−Ａ〜１−Ｄにおいて、前の空白にあたる部分は、リソースを使用するための準備にあたる前作業であり、後ろの空白にあたる部分は、使用したリソースの片付けにあたる後作業（ロットの払出を含む）である。図５中に示すように温水ユニットＨＤＩＷにおけるドットハッチングした部分は、純水処理部ＯＮＢ１，２のリソースが使用される場合に付随する処理工程である。
【００２７】
処理工程１−Ａは、第1搬送機構ＣＴＣによる搬送処理であり、処理工程１−Ｂは、第２搬送機構ＷＴＲによる搬送処理と、薬液処理部ＣＨＢ１による薬液処理と、第２搬送機構ＷＴＲによる搬送処理と、純水処理部ＯＮＢ１による洗浄処理と、この洗浄処理において最後に温水ユニットＨＤＩＷにより実施される温水洗浄処理である。また、処理工程１−Ｃは、第２搬送機構ＷＴＲによる搬送処理及び乾燥処理部ＬＰＤによる乾燥処理であり、処理工程１−Ｄは、第２搬送機構ＷＴＲによる搬送処理及び第１搬送機構ＣＴＣによる搬送処理である。
【００２８】
また、この例におけるロット２のレシピは、上述したロット１のレシピのうち、処理工程２−Ｂにおけるリソースが薬液処理部ＣＨＢ２及び純水処理部ＯＮＢ２である点が異なるだけである。ロット３のレシピは、上述したロット１のレシピにおいて、温水ユニットＨＤＩＷの処理が最後ではなく、中間において行われる点で相違する。
【００２９】
ステップＳ１〜Ｓ３
装置のオペレータは、未処理の基板Ｗが収納されたカセット１を投入台３の載置台５に載置する（ステップＳ１）。図示しない指示部から上述したレシピを指示する（ステップＳ２）。すると、制御部２５は、記憶部３３に記憶されているレシピのデータを読み込む（ステップＳ３）。本実施例では、３個のカセット１を続けて載置台５に載置するとともに、それぞれにおいて上述したレシピを指示する。
【００３０】
ステップＳ４
スケジューリング部２７は、読み込まれたレシピのデータに基づいて、各ロット１〜３について、それぞれ単バッチのスケジュールを作成する。具体的には、ロット１について各処理工程１−Ａ〜１−Ｄの時間計算を行うとともに、図５（ａ）に示すように各処理工程１−Ａ〜１−Ｄに要する時間に基づいてスケジュールを作成する。また、同様に、ロット２について各処理工程２−Ａ〜２−Ｄの時間計算を行うとともに、図５（ｂ）に示すように各処理工程２−Ａ〜２−Ｄに要する時間に基づきスケジュールを作成する。さらに、ロット３についても同様に各処理工程３−Ａ〜３−Ｄの時間計算を行うとともに、図５（ｃ）に示すように各処理工程３−Ａ〜３−Ｄに要する時間に基づきスケジュールを作成する。
【００３１】
ステップＳ５
スケジューリング部２７は、作成した単バッチのスケジュールのうち、温水ユニットＨＤＩＷを使用するものについては、その使用に合わせて仮想リソースＩＲを使用するようにスケジュールする。さらに、温水ユニットＨＤＩＷを使用するもののうち、その使用タイミングが処理の最後であるものについては、その仮想リソースＩＲの使用タイミングの最後に、温水ユニットＨＤＩＷの使用が終了することを示す仮想終了マークＩＭを付加しておく。本実施例の場合には、ロット１（図５（ａ））とロット２（図５（ｂ））だけが仮想終了マークＩＭを付加される。
【００３２】
ステップＳ６
スケジューリング部２７は、上述したようにして作成した全ての単バッチのスケジュール（図５（ａ）〜図５（ｃ））を同じ時間軸上に配置して全体のスケジュールを作成する。つまり、同じタイムチャート上に３ロット分の単バッチスケジュールを配置してゆく。その際には、同時刻で同じリソースが重複して使用されないようにタイミングが調整される。単体のリソースではないが、純水処理部ＯＮＢ１，ＯＮＢ２に付随する温水ユニットＨＤＩＷのリソース及び仮想リソースＩＲも同様に重複使用が回避される。
【００３３】
次に、スケジューリング部２７は、例えば、次のようにして全体のスケジュールを作成する。
【００３４】
ステップＳ１１，Ｓ１２
スケジューリング部２７は、スケジュール基準時間（処理開始予定時刻）からロット１の単バッチのスケジュールを配置する。具体的には、ロット１の単バッチのスケジュールのうち、各処理工程１−Ａ〜１−Ｄが配置可能な位置を検索して順次配置する。その結果、例えば、図６のようになったとする。
【００３５】
ステップＳ１３
仮想終了マークＩＭがあって、処理との間に隙間があるか否かで処理を分岐する。隙間がある場合にはステップＳ１４に移行し、隙間がない場合にはステップＳ１５に移行する。ここでは、ロット１を配置しただけであり、仮想終了マークＩＭと処理との間に隙間がないので、ステップＳ１５に処理を移行し、ロット２，３が残っているので、ステップＳ１１に処理を移行する。
【００３６】
ステップＳ１１〜Ｓ１５
次に、ロット２の処理工程を配置する。
その結果、図７に示すように、処理工程２−Ｃの配置の関係上、処理工程２−Ｂにおけるロット２の払出が後ろにずれたとする。スケジュール作成部２７は、これに合わせて、仮想リソースＩＲの仮想終了マークＩＭも後ろにずらす。したがって、ステップＳ１３において処理と仮想終了マークＩＭとの間に隙間があると判断されるので、ステップＳ１４において、仮想リソースＩＲの使用を仮想終了マークＩＭまで延長する（図８）。そして、ロット３の配置に移る。
【００３７】
ステップＳ１１〜Ｓ１３，Ｓ１５
次に、ロット３の配置を行う。
その結果、図９に示すように各処理工程３−Ａ〜３−Ｄが配置されたとする。従来では、温水ユニットＨＤＩＷの使用タイミングの関係で、Ｔ時点まで前詰めでロット３の処理工程３−Ｂを配置することができるが、本実施例では仮想リソースＩＲがロット２の仮想終了マークＩＭまで占有されているので排他されて配置できない。また、ロット３については単バッチのスケジュールに仮想終了マークＩＭが存在しないので、ステップＳ１３からステップＳ１５に処理が移行して、全体スケジュールが完了する。
【００３８】
上述したようにして、各ロット１〜３の単バッチのスケジュールが配置された後、スケジュール処理を終了して、作成された全体スケジュールを記憶部３３に格納する。格納された全体スケジュールは、処理実行指示部３１によって参照され、各リソースを実際に使用しながら各ロット１〜３について処理を行う。
【００３９】
上述したように、本実施例によると、制御部２５は、温水ユニットＨＤＩＷの仮想リソースＩＲを定義しておき、単バッチのスケジュールにて、温水ユニットＨＤＩＷを使用する場合には、温水ユニットＨＤＩＷを使用する処理工程からロットが払い出されるタイミングに合わせて、温水ユニットＨＤＩＷの仮想リソースＩＲの使用終了時を表す仮想終了マークＩＭを付加しておく。そして、全体スケジュールを作成する際に、温水ユニットＨＤＩＷのリソースを使用する処理工程からの払出が時間的に後ろにずれる場合には、それにあわせて仮想リソースＩＲの仮想終了マークＩＭも時間的に後ろにずらす。さらに、仮想リソースＩＲの使用を仮想終了マークＩＭまで延長しておく。したがって、温水ユニットＨＤＩＷを使用する処理工程におけるロットの払出タイミングが全体スケジュールの時点で時間的に後ろにずれたとしても、温水ユニットＨＤＩＷのリソースの使用が延長されたことを仮想リソースＩＲの状態から判別することができる。その結果、その後に配置される単バッチのスケジュールは、温水ユニットＨＤＩＷの仮想リソースＩＲによって排他されるので、全体スケジュールを実行する際にリソースの競合によりアラームが発生して処理が停止するのを防止できる。よって、装置稼働率の低下を防止できる。
【００４０】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００４１】
（１）上述した実施例では、別置ユニットとして、処理液としての温水を供給する温水ユニットＨＤＩＷを例にとって説明したが、その他に別置ユニットとしては、例えば、薬液処理部ＣＨＢ１，ＣＨＢ２に薬液を含む処理液を供給する薬液ユニット（オゾン水供給ユニット）や、処理用の気体を供給する気体供給ユニットなどが挙げられる。
【００４２】
（２）上述した実施例では、上述した実施例では、ロット１からロット３まで順に単バッチのスケジュールを配置して全体スケジュールを作成したが、例えば、各ロット１〜３の各処理工程を順次に配置する方法を採用し、さらに各ロットの前の処理工程のうち最も早く処理が終了するものに続く処理工程を配置する方法を採用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図である。
【図２】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。
【図３】スケジュール作成を示すフローチャートである。
【図４】全体スケジュールの作成を示すフローチャートである。
【図５】（ａ）〜（ｃ）は各ロットの単バッチのスケジュールを示すタイムチャートである。
【図６】全体のスケジュール作成過程を示すタイムチャートである。
【図７】全体のスケジュール作成過程を示すタイムチャートである。
【図８】全体のスケジュール作成過程を示すタイムチャートである。
【図９】全体のスケジュール作成過程を示すタイムチャートである。
【図１０】（ａ）〜（ｃ）は従来例における各ロットの単バッチのスケジュールを示すタイムチャートである。
【図１１】従来例における全体のスケジュール作成過程を示すタイムチャートである。
【符号の説明】
【００４４】
１ … カセット
３ … 投入部
５ … 載置台
７ … 払出部
ＣＴＲ … 第１搬送機構
ＷＴＲ … 第２搬送機構
ＬＰＤ … 乾燥処理部
１９ … 第１処理部
２１ … 第２処理部
ＯＮＢ１，ＯＮＢ２ … 純水処理部
ＣＨＢ１，ＣＨＢ２ … 薬液処理部
ＬＦＳ１，ＬＦＳ２ … 副搬送機構
ＨＤＩＷ … 温水ユニット
２５ … 制御部
２７ … スケジューリング部
３１ … 処理実行指示部
３３ … 記憶部
ＩＲ … 仮想リソース
ＩＭ … 仮想終了マーク
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対して処理を行う複数個の処理部と、各処理部とは別体で構成され、各処理部における基板への処理に付随した処理を行う別置ユニットとを含む複数個のリソースを備えた基板処理装置により、制御部が各ロットについて各々のレシピに基づき各リソースを使用しながら処理するにあたり、各々のリソースを使用するタイミングを実際の処理の前に予め決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記制御部は、
別置ユニットの実際のリソースとは異なる仮想リソースを定義するとともに、単一のロットについて、そのレシピに応じて各リソースを使用するとともに、別置ユニットのリソースを使用する処理工程については別置ユニットのリソースを使用するのに合わせて仮想リソースを使用するように単バッチのスケジュールを作成する過程と、
単バッチのスケジュールのうち、別置ユニットを使用するものについては、別置ユニットのリソースを使用する処理からのロットの払出に合わせて、仮想リソースの使用を終了するタイミングに仮想終了マークを付加する過程と、
単バッチのスケジュールを配置して全体スケジュールを作成する際に、別置ユニットのリソースを使用する処理の払出が時間的に後ろにずれる場合には、それに合わせて仮想リソースの仮想終了マークを後ろにずらすとともに、仮想リソースの使用を前記仮想終了マークまで延長する過程と、
を実行することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記仮想終了マークは、別置ユニットが処理の最後に使用される場合にのみ付加されることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記別置ユニットは、純水を所定の温度に加熱して得られる温水を供給するための温水ユニットであることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項４】
請求項３に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記別置ユニットを使用する処理工程は、処理工程において処理液による処理を行った後、ロットを払い出すまで別置ユニットによる温水処理を継続するものであることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項５】
基板に対して処理を行う複数個の処理部と、各処理部とは別体で構成され、各処理部における基板への処理に付随した処理を行う別置ユニットとを含む複数個のリソースを備えた基板処理装置により、制御部が各ロットについて各々のレシピに基づき各リソースを使用しながら処理するにあたり、各々のリソースを使用するタイミングを実際の処理の前に予め決定する基板処理装置のスケジュール作成プログラムにおいて、
別置ユニットの実際のリソースとは異なる仮想リソースを定義するとともに、単一のロットについて、そのレシピに応じて各リソースを使用するとともに、別置ユニットのリソースを使用する処理工程については別置ユニットのリソースを使用するのに合わせて仮想リソースを使用するように単バッチのスケジュールを作成する機能と、
単バッチのスケジュールのうち、別置ユニットを使用するものについては、別置ユニットのリソースを使用する処理からのロットの払出に合わせて、仮想リソースの使用を終了するタイミングに仮想終了マークを付加する機能と、
単バッチのスケジュールを配置して全体スケジュールを作成する際に、別置ユニットのリソースを使用する処理の払出が時間的に後ろにずれる場合には、それに合わせて仮想リソースの仮想終了マークを後ろにずらすとともに、仮想リソースの使用を前記仮想終了マークまで延長する機能と、
をコンピュータである前記制御部に実行させることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成プログラム。
【請求項１】
基板に対して処理を行う複数個の処理部と、各処理部とは別体で構成され、各処理部における基板への処理に付随した処理を行う別置ユニットとを含む複数個のリソースを備えた基板処理装置により、制御部が各ロットについて各々のレシピに基づき各リソースを使用しながら処理するにあたり、各々のリソースを使用するタイミングを実際の処理の前に予め決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記制御部は、
別置ユニットの実際のリソースとは異なる仮想リソースを定義するとともに、単一のロットについて、そのレシピに応じて各リソースを使用するとともに、別置ユニットのリソースを使用する処理工程については別置ユニットのリソースを使用するのに合わせて仮想リソースを使用するように単バッチのスケジュールを作成する過程と、
単バッチのスケジュールのうち、別置ユニットを使用するものについては、別置ユニットのリソースを使用する処理からのロットの払出に合わせて、仮想リソースの使用を終了するタイミングに仮想終了マークを付加する過程と、
単バッチのスケジュールを配置して全体スケジュールを作成する際に、別置ユニットのリソースを使用する処理の払出が時間的に後ろにずれる場合には、それに合わせて仮想リソースの仮想終了マークを後ろにずらすとともに、仮想リソースの使用を前記仮想終了マークまで延長する過程と、
を実行することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記仮想終了マークは、別置ユニットが処理の最後に使用される場合にのみ付加されることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記別置ユニットは、純水を所定の温度に加熱して得られる温水を供給するための温水ユニットであることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項４】
請求項３に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記別置ユニットを使用する処理工程は、処理工程において処理液による処理を行った後、ロットを払い出すまで別置ユニットによる温水処理を継続するものであることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項５】
基板に対して処理を行う複数個の処理部と、各処理部とは別体で構成され、各処理部における基板への処理に付随した処理を行う別置ユニットとを含む複数個のリソースを備えた基板処理装置により、制御部が各ロットについて各々のレシピに基づき各リソースを使用しながら処理するにあたり、各々のリソースを使用するタイミングを実際の処理の前に予め決定する基板処理装置のスケジュール作成プログラムにおいて、
別置ユニットの実際のリソースとは異なる仮想リソースを定義するとともに、単一のロットについて、そのレシピに応じて各リソースを使用するとともに、別置ユニットのリソースを使用する処理工程については別置ユニットのリソースを使用するのに合わせて仮想リソースを使用するように単バッチのスケジュールを作成する機能と、
単バッチのスケジュールのうち、別置ユニットを使用するものについては、別置ユニットのリソースを使用する処理からのロットの払出に合わせて、仮想リソースの使用を終了するタイミングに仮想終了マークを付加する機能と、
単バッチのスケジュールを配置して全体スケジュールを作成する際に、別置ユニットのリソースを使用する処理の払出が時間的に後ろにずれる場合には、それに合わせて仮想リソースの仮想終了マークを後ろにずらすとともに、仮想リソースの使用を前記仮想終了マークまで延長する機能と、
をコンピュータである前記制御部に実行させることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成プログラム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２０１０−２７７７２（Ｐ２０１０−２７７７２Ａ）
【公開日】平成２２年２月４日（２０１０．２．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１８５９０１（Ｐ２００８−１８５９０１）
【出願日】平成２０年７月１７日（２００８．７．１７）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年２月４日（２０１０．２．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年７月１７日（２００８．７．１７）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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