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Fターム[3B201CD11]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 補助処理 (2,748) | 換気、排気、減圧 (201)

Fターム[3B201CD11]に分類される特許

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【課題】基板の製造コストを十分に低減するとともに、基板の処理不良を十分に防止できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】スピンチャック21の外方には、薬液ノズル50に対応する洗浄用ポット210およびプリディスペンス用ポット220が設けられる。基板Wの薬液処理後、薬液ノズル50が洗浄用ポット210内に収容され、その先端部が洗浄液により洗浄される。洗浄に用いられた洗浄液は洗浄用ポット210により回収され、廃液管211aを通じて廃液される。プリディスペンス時に、薬液ノズル50は、プリディスペンス用ポット220内に収容され、所定量の薬液を吐出する。吐出された薬液は、回収管221aを通じて循環系配管120Aに送られる。この薬液は、回収タンクRTAに一旦貯留された後、薬液貯留タンクTAに送られ、貯留される。貯留された薬液は再度薬液ノズル50へ送られる。 (もっと読む)


【課題】蒸気による基板処理および処理液による基板処理を同一処理チャンバ(処理ユニット)内で行うことができるようにする。
【解決手段】処理ユニット11は、基板Wを保持して回転させるスピンチャック21と、基板対向面36を基板Wの表面に接近させることによって基板W表面付近の空間を制限するとともに、複数の蒸気吹き出し孔37を有する遮断板30と、この遮断板30を上下動させる遮断板昇降駆動機構31と、遮断板30に蒸気を供給する蒸気供給源40と、基板Wに処理液を供給する処理液ノズル75および処理液供給管35とを備えている。遮断板30を下降させると、遮断板30と処理容器69とによって、基板Wを取り囲む実質的な密閉空間が形成される。処理容器69内の雰囲気は、排気管62などによって排気される。 (もっと読む)


【課題】金属蛍光体を含むセルロース系樹脂が付着した繊維布材を洗浄することにより、付着物を効率よく除去できる洗浄液組成物、及びその洗浄液組成物を用いた繊維布材の洗浄方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、金属蛍光体を含むセルロース系樹脂が付着した繊維布材3を洗浄するための洗浄液組成物であって、洗浄液組成物がメタノール、エタノール及びアセトンからなる群より選ばれる少なくとも1つの溶剤を含有し、かつ洗浄液組成物中の溶剤の含有率が70体積%以上である洗浄液組成物である。 (もっと読む)


【課題】配線の抵抗のバラツキを少なくすることによって、電子デバイスの品質を安定させ、ランニングコストが安価な基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板8を保持して回転させる基板保持部4と、基板8に対して洗浄液等を吐出させる吐出ノズル3とを備えたチャンバー2と、洗浄液が収容される供給タンク23と、供給タンク23から吐出ノズル3へ洗浄液を供給するための配管35及び圧送機構のポンプ20と、チャンバー2で基板8の洗浄処理が行われた後の洗浄液を供給タンク23へ戻す戻り配管37と、供給タンク23へアンモニアを供給させるアンモニア供給源19とを備え、チャンバー2において基板8を洗浄処理する毎に、アンモニア供給源19から供給タンク23へアンモニアを供給する。 (もっと読む)


【課題】この発明は半導体ウエハに設けられたレジストを効率よく確実に除去することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】半導体ウエハが載置される回転テーブルと、回転テーブルの上方に配置され硫酸を加圧気体で加圧して霧状にして噴射する第1の二流体ノズル51と、回転テーブルの上方に配置され過酸化水素水を加圧気体で加圧して霧状にして噴射する第2の二流体ノズル52を具備し、
第1の二流体ノズルから噴射された霧状の硫酸と、上記第2の二流体ノズルから噴射された霧状の過酸化水素水を基板に到達する前に混合させて上記基板に供給する。 (もっと読む)


【課題】有機溶剤蒸気の捕集を確実にし周囲の作業環境の悪化を未然に防止するとともに、処理装置をコンパクトで安価に製作できるシステムを提供することを目的としている。
【解決手段】有機溶剤104を貯留し上方が開放である洗浄槽101の上端縁113周囲に配設され、有機溶剤蒸気を吸引するための吸引口2として上方向開口部4と横方向開口部6を有し、上方向開口部4の外周に隔壁7を立設した吸引ダクト1と、有機溶剤蒸気を回収または分解するために吸引ダクト1に接続された処理装置11とを備える。 (もっと読む)


シュラウドと、仕上げ部材とワイピング装置とを含むガラス板の縁部処理装置。仕上げ部材はシュラウドにより実質的に囲まれている。本装置は、ワイピング装置内の少なくとも1つのスロットにより放出された加圧空気を用いて、縁部処理により生じる汚染物質がガラス板の表面に沈降および/または付着することを防止する。ワイピング装置は、ガラス板の表面および処理縁部をさらに洗浄するために、ガラス板に向けられた洗浄流体の噴流を含み得る。
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【課題】回転ロールを洗浄するための洗浄液の消費量を低減する。
【解決手段】回転ロール90の最上部の基点Pから,回転方向Fに270°から300°回転した位置に,第1のブロック110が設けられ,その後方側に第2のブロック130が設けられる。第1のブロック110により,回転ロール90との間に狭小の隙間Dが形成され,その表面110aに洗浄液吐出口111と吸引口112が形成される。第2のブロック130には,排気口131が形成される。回転ロール90の下部側には,滞留部141と洗浄液誘導部142が形成された第3のブロック140が設けられる。洗浄時には,回転ロール90を回転させた状態で,洗浄液吐出口111から隙間Dに洗浄液Hが吐出され,洗浄液Hが回転ロール90の表面を伝って流れ,滞留部141で一旦滞留された後,洗浄液誘導部142を通って排出される。 (もっと読む)


【課題】本発明は、長尺反物状の繊維布材の洗浄を複雑な装置を使わず迅速且つ確実に行うことができる繊維布材の洗浄方法を提供すること。
【解決手段】 繊維布材3に含まれる付着物Aを除去するための繊維布材3の洗浄方法であって、第一リール1に巻き取られている前記繊維布材3を送り出し、循環洗浄タンク4に収容された洗浄液Wに浸漬し、第二リール2に巻き取る順方向洗浄工程と、前記第二リール2に巻き取られている前記繊維布材3を送り出し、前記循環洗浄タンク4に収容された前記洗浄液Wに浸漬し、前記第一リール1に巻き取る逆方向洗浄工程と、の二種類の洗浄工程を行う繊維布材の洗浄方法。 (もっと読む)


【課題】水蒸気除去機構への目詰まり等を防止した上で、水蒸気を効率よく除去できる機構を備えたロータリー型ケージ洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄室101内に回転可能な支持台を配置し、この支持台上にケージを載置して、このケージを支持台の回転により移動させながら当該洗浄室101内で洗浄液によりケージを洗浄するロータリー型ケージ洗浄装置において、前記洗浄室101に、水蒸気除去機構105を有する排気装置107を備え、この水蒸気除去機構105が、本体110内に前段フィルタ111と、後段フィルタ112と、これらフィルタ間に位置して前段フィルタ111に水を噴射するノズル113とを備えた。 (もっと読む)


【課題】 ウェットユニットからの液体の防止できる搬送処理装置を提供する。
【解決手段】 減圧チャンバー20の搬出口23の上下方向の寸法は、上縁部が基板Wの表面に供給された液体(現像液)に接触しない範囲で低く設定されている。その結果、基板Wが搬出口23を通過する際には基板W上面と搬出口23の上縁との間の隙間が小さくなり、且つ減圧チャンバー20内は陰圧なので、外気が基板W上面を伝って減圧チャンバー20内に勢いよく入り込み、基板Wの表面に盛られている現像液は、気流によって基板の長辺から流れ落ち、流れ落ちた現像液は回収口24を介して回収される。 (もっと読む)


【課題】装置の清浄化を容易に、かつ短時間で行うことができる。
【解決手段】処理液配管による処理液の供給を遮断し、供給部5を注入部に連通接続した状態で、開閉弁39を開放すると、洗浄液タンク3内の洗浄液が供給部5から処理液配管に供給されるので、注入部よりも下流にある接液部材を洗浄液で洗浄できる。したがって、基板処理装置を分解することなく洗浄装置1により接液部材の汚染を解消することができるので、洗浄を容易にかつ短時間で行うことができる。しかも、通常の処理では純水しか流通させられない箇所であっても注入部より下流には洗浄液を流通させることができるので、清浄度高く洗浄が可能となる。 (もっと読む)


【課題】 設置スペースをコンパクト化することのできるワーク洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄液を貯溜した洗浄液タンク14と、前記洗浄液タンク14内外へ移動される昇降体17と、昇降体17に設けられかつ前工程から送られてくるワークを受入れかつそのワークを後工程へ排出可能に作動するシャッター装置34,36とを備える。シャッター装置34,36を設けた昇降体17を洗浄液タンク14内外へ移動させる構成としたことにより、従来のコンベアタイプのものと比べて、設置スペースをコンパクト化することができる。 (もっと読む)


【課題】金属部品の洗浄に使用する灯油の廃油量を削減するとともに資源の無駄を防止し、安全かつ簡便に金属部品を洗浄することができる金属部品洗浄装置、並びに、その装置を備えた移動可能な台車、及び、その装置を含む金属部品洗浄キットなどを提供すること。
【解決手段】金属部品を洗浄するための灯油を収容する密閉可能な容器と、前記灯油内に乱流を発生させる乱流発生手段と、前記乱流を発生させて前記金属部品を洗浄することにより浮遊する浮遊物を除去する浮遊物除去手段と、前記容器内に発生する油霧又は油煙を除去する油霧除去手段と、を備える金属部品洗浄装置は、洗浄液である灯油の廃油量を削減するとともに資源の無駄を防止し、安全かつ簡便に金属部品を洗浄することができる。 (もっと読む)


【課題】 孔の内面を含めた洗浄対象物表面に付着した微少な異物を全て除去することができると共に、装置のコンパクト化と設備費及びランニングコストの低減化が可能な洗浄方法及び洗浄装置の提供。
【解決手段】 液体Wを収容した非磁性体容器1の外周に巻回した誘導コイル2に高周波電流を流して非磁性体容器1の液体W内に収容させた洗浄対象物Kを誘導加熱することにより、洗浄対象物Kの表面全体から前記液体の蒸気気泡、或いは前記液体の一部の成分の蒸気気泡を発生させ、該蒸気気泡により孔の内面を含めた洗浄対象物Kの表面に付着した1000ミクロン以下の微少な異物を全て剥離除去する。 (もっと読む)


【課題】基板にダメージを与えることなく、イオン注入時にマスクとして用いられたレジストを良好に剥離(除去)することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】イオン注入処理の後の基板からレジストを剥離するために、その基板は、まず、蒸気処理部1に搬入される。蒸気処理部1では、基板の表面にIPAベーパが供給されて、基板の表面上のレジストの表面に形成されている硬化層が溶かされる。その後、基板は、蒸気処理部1からレジスト剥離処理部2へ搬送される。レジスト剥離処理部2では、基板の表面にレジスト剥離液が供給される。レジスト表面の硬化層は、蒸気処理部1における処理により溶かされているので、基板の表面にレジスト剥離液が供給されると、その基板の表面からレジストが良好に除去される。 (もっと読む)


【課題】有機溶剤の回収を確実にし大気への蒸散を効果的に防止するとともに、機器をコンパクトで安価に製作できるシステムを提供することを目的としている。
【解決手段】有機溶剤を貯留する洗浄槽101の上方に吸引口2を臨ませた吸引配管1と、洗浄槽101の内部に吐出口5を臨ませた吐出配管4と、吸引配管1および吐出配管4に接続された処理装置3とからなり、吸引口2から吸引した低濃度の有機溶剤蒸気を含む空気を、処理装置3で濃縮し高濃度の有機溶剤蒸気にした後に、吐出口5から洗浄槽101内部に戻す。また、処理装置3は、吸着剤が内部に充填された複数の吸着塔10a、10bと、吸着排出管13、吸着吸入管11、脱着排出管12、吸着用送風機31および脱着用ポンプ33とを備える。 (もっと読む)


【課題】処理する必要のない面に薬液が飛散することを防止でき、処理のスループットを向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Wを処理する基板処理装置であって、基板Wの周辺部に薬液を供給する薬液供給ノズル61と、基板W上面に近接した位置と基板W上面から離れた位置との間で相対的に移動するトッププレート72を備え、薬液供給ノズル61を移動自在に構成したことを特徴とする。例えば処理中にトッププレート72を基板W上面に近接した位置に移動して、処理する必要のない面を覆うようにすれば、処理する必要のない面に薬液が飛散することを防止することができる。 (もっと読む)


【課題】 基板を処理するときの水平面に対する基板の角度を容易に変更することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 処理槽33には、処理空間38が形成される。この処理空間38には、基板保持部34と、第1および第2洗浄液噴射ノズル41a,41bと、第1および第2乾燥用気体噴射ノズル42a,42bとが設けられる。基板保持部34は、処理空間38内で、基板32を保持する。第1および第2洗浄液噴射ノズル41a,41bは、基板32に洗浄液を噴射する。第1および第2乾燥用気体噴射ノズル42a,42bは、基板32に乾燥用気体を噴射する。姿勢変化手段37は、処理槽33の姿勢を変化させる。処理槽33の姿勢が変化すると、処理槽33の処理空間38に設けられる基板保持部34および各ノズル41a,41b,42a,42bの姿勢も変化する。 (もっと読む)


洗浄機のチャンバ間の流体移動を最小限にし洗浄機の各チャンバからの熱損失を最小限にするため最適化された流体排気通路を含むトンネル式洗浄機である。流体排気通路で洗浄機の各チャンバからの均等な蒸気排気を容易にする。またトンネル式洗浄機にはトンネル式洗浄機のチャンバを分離する間隔を保つ二重壁カーテンが含まれ、チャンバ間およびトンネル式洗浄機外への流体および熱移動が防止される。二重壁カーテンにはトンネル式洗浄機の操作の間にカーテンが互いに粘着することを抑制する表面が含まれる。またトンネル式洗浄機には種々の寸法の物品に対し乾燥効率を均等にする空気マニホールドが含まれる。 (もっと読む)


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