【課題】光学素子の洗浄に有利な露光装置の提供。
【解決手段】光源２０と、複数の光学素子１５ａ、１５ｂを収容する真空容器３４、３５とを有する露光装置は、複数の光学素子のうち予め決められた値未満の照度で光が照射されている光学素子に酸素ガスＡ２を供給する酸素ガス供給手段と、記複数の光学素子のうち前記値以上の照度で光が照射されている光学素子に水蒸気Ａ１を供給する水蒸気供給手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】洗浄室内の洗浄流体の急激な密度変化を防止することができ、洗浄後の被洗浄物がダメージを受けることがない洗浄システムを提供する。
【解決手段】洗浄システム１０では、洗浄流体を洗浄容器１５の洗浄室に収容されたフィルタの第１面から第２面に向かって通流させることでフィルタを洗浄し、フィルタを洗浄した後、コントローラ１７が第１温度制御手段と第２温度制御手段と流入量制御手段とを実行することによって洗浄室内の洗浄流体の温度を略一定の下り勾配で次第に低下させるとともに、流体圧力逓減手段を実行することによって洗浄室内の洗浄流体の密度を略一定の下り勾配で低下させる。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽内から排除される気体が空気である場合は熱交換器への給水を停止し、洗浄槽内から排除される気体が蒸気になると熱交換器への給水を開始することで、熱交換器における使用水量を節約する。
【解決手段】洗浄槽３は、液体が貯留され、その貯留液に被洗浄物２が浸漬される。減圧手段７は、洗浄槽３内からの気体を冷却用水で冷却する熱交換器３５、およびこの熱交換器３５の下流に設けられる真空ポンプ３７を有する。熱交換器３５への給水を停止した状態で真空ポンプ３７を作動させて洗浄槽３内の減圧を開始後、設定タイミングで熱交換器３５への給水を開始する。前記設定タイミングは、洗浄槽３内の気相部の圧力または温度と、洗浄槽３内の液相部の温度とに基づき、沸騰開始点を予想して設定するのがよい。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽内の液体を入れ替える際、被洗浄物内の液体も確実に入れ替える。また、乾燥前に液切りしておくことで、被洗浄物の乾燥を確実に行う。
【解決手段】洗浄槽３内の液体に被洗浄物２を浸漬して洗浄または濯ぎを図った後、洗浄槽３内から液体を排出し、その後、洗浄槽３内を減圧することで被洗浄物２からの液切りを図る。この液切り後、洗浄槽３内に再び液体を貯留して、被洗浄物２の洗浄または濯ぎを図るか、被洗浄物２の乾燥を図る。 （もっと読む）

【課題】より効率的にノズル洗浄でき得るノズル洗浄ユニットを提供する。
【解決手段】分注装置に搭載されたノズル洗浄ユニット２０は、洗浄槽２２と、当該洗浄槽２２内において洗浄液を噴射する洗浄液噴射器４４と、ノズルに付着した洗浄液を洗浄槽２２内に吹き飛ばすべくエアを噴射する乾燥用噴射器５０と、ノズル１２を昇降させる移動機構と、これらを制御する制御部と、を備えている。制御部は、ノズル１２を下降させつつ洗浄液を噴射させる洗浄工程と、洗浄工程の後でノズル１２を上昇させつつエアを噴射させる乾燥工程と、をセットにしたセット動作を２回以上繰り返させる。 （もっと読む）

【課題】排気口からの排気に大きな排気能力を必要とせずに、処理チャンバ内の雰囲気を良好に置換させることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】処理チャンバ４内には、基板を水平に保持して回転させるスピンチャック１７と、スピンチャック１７の上方に配置された円板状の遮断板１４とが収容されている。遮断板１４の下面には、スピンチャック１７に保持される基板の表面と対向する基板対向面が形成されている。処理チャンバ４の上部に設けられた給気ユニットには、処理チャンバ４内に清浄空気を供給するための給気口６５が形成されている。給気口６５は、下向きの給気口であり、平面視において遮断板１４の周囲を取り囲む円環状に形成されている。 （もっと読む）

【課題】乾燥ガスが光透過部材から被処理基板上に滴下することを防止することにより、製品歩留まりの低下を防止することが可能な乾燥室、洗浄・乾燥処理装置、被処理基板を乾燥する乾燥処理方法、および記録媒体を提供する。
【解決手段】乾燥室１０は、被処理基板Ｗを収容する乾燥室本体１１と、乾燥室本体１１の内壁１１ａに設けられた光透過部材１２と、乾燥室本体１１の内壁１１ａと光透過部材１２との間に設けられた加熱用光源１３とを備えている。光透過部材１２の下方には、光透過部材１２側に向けて乾燥ガスを供給するガス供給部１４が設けられている。光透過部材１２の内面１２ａは、乾燥ガスがこの光透過部材１２の内面１２ａに液膜として付着するように表面処理が施されている。 （もっと読む）

【課題】処理対象物の貫通孔の内部を効果的に洗浄することができる洗浄装置及び洗浄方法を得る。
【解決手段】薄板コイルとされた処理対象物１０は、洗浄槽１４に収容され、貫通孔の貫通方向一端側がキャップ３８によって塞がれる。洗浄槽１４の内部は真空ポンプ３０によって負圧にされる。また、洗浄液は、キャップ３８における処理対象物１０側へ通じる開口部を経て処理対象物１０の貫通孔へ供給される。このため、洗浄液は、負圧の作用によって、貫通孔の貫通方向一端側から貫通方向他端側へ流動する。 （もっと読む）

【課題】基板表面の全域に対して、処理液による処理を均一に施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【解決手段】この基板処理装置１は、スピンチャック４と、スピンチャック４に保持されたウエハＷの表面に向けて、高温（たとえば８０℃）のＳＣ１を供給するためのＳＣ１ノズル５と、スピンチャック４に保持されたウエハＷの表面に水蒸気を供給するための蒸気ノズル６と、スピンチャック４を収容するカップ８とを備えている。ＳＣ１ノズル５から吐出された高温のＳＣ１は、ウエハＷの中央部に供給される。蒸気ノズル６から吐出された水蒸気は、ウエハＷの中間位置Ｍに供給される。 （もっと読む）

【解決手段】 本発明の実施形態は、一般的には、チャンバ構成部品の外部位置洗浄のための方法及び装置に関する。一実施形態では、洗浄化学物質で構成部品を洗浄するためのシステムを提供する。システムは、洗浄プロセス中洗浄すべき１つ又はそれ以上の構成部品を保持するための洗浄槽組立体を含むウェットベンチ装置と、洗浄プロセス中１つ又はそれ以上の洗浄化学物質を洗浄槽組立体に供給するための、洗浄槽組立体と着脱可能に連結された着脱可能な洗浄カートを含む。 （もっと読む）

【課題】省スペース化の課題，洗浄液多量消費の課題，キャビテーション発生の課題，および微粒異物の詰りの課題を同時に解決すること。
【解決手段】洗浄槽３と、洗浄槽３内の気体を凝縮する熱交換器４および真空ポンプ５を含む減圧手段６と、洗浄槽３内の復圧手段７と、減圧と復圧とを繰り返して洗浄槽３内の洗浄液を沸騰させる制御手段１４とを備える洗浄装置において、熱交換器４は、冷却水により気体を冷却するプレート式熱交換器にて構成され、熱交換器４の上流側に、デミスタにより洗浄液，気体に含まれる洗浄液の微小液滴および微粒異物を前記気体から分離し、分離した液体を洗浄槽３へ戻す気液分離器９を備えた。 （もっと読む）

【課題】 高圧蒸気を微小領域に吹き付け、当該微小領域を拡大させることで被洗浄対象物の洗浄を行う洗浄装置を提供する。
【解決手段】 特定部に開口する槽形状の洗浄槽の開口部をエアカーテンにて閉鎖することとし、洗浄槽内に置かれた被洗浄物に対して高圧蒸気を吹き付けるノズルを、該エアカーテンを超えた洗浄槽内に配置することとする。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成および制御で、洗浄液を激しく沸騰させて、被洗浄物を効果的に洗浄する。
【解決手段】洗浄槽３には、洗浄液が貯留され、その洗浄液に被洗浄物２が浸漬される。減圧手段５は、洗浄槽３内の気体を外部へ吸引排出して、洗浄槽３内を減圧する。加熱手段７は、洗浄槽３内の洗浄液を加熱する。給気手段６は、被洗浄物２よりも下方から洗浄槽３内の洗浄液中に気体を導入する。加熱手段７により洗浄液を設定温度まで加熱した後、減圧手段５により洗浄槽３内を減圧して洗浄液を沸騰させ、この沸騰中に給気手段６により洗浄液中に気体を導入する。これにより、洗浄液を激しく沸騰させて、被洗浄物２の洗浄効果を増すことができる。 （もっと読む）

【課題】安定的にしかも安価に、浸水事故にあった電子機器が電気的に動作する正常状態に回復させることを目的とする。
【解決手段】電子機器の回復装置１は、筐体２の上面部に矢印θ方向に開閉される開閉蓋６を備え、開閉蓋６を開けた筐体２の上面部内が電子機器を収容するためのチャンバ８を備える。このチャンバ８内には開閉蓋６の下面部に吊着状態で配設する籠状の収容部９に、例えば携帯電話機１０を収容可能としている。こうして収容部９に携帯電話機１０を収容した状態において、開閉蓋６を閉操作し、電子機器（携帯電話機１０）をチャンバ８内に密閉状態で収容し、チャンバ８内において真空状態で加熱乾燥することが可能となる。これにより、例えば浸水事故にあった携帯電話機１０を、半導体基板や液晶表示装置が電気的に動作する正常状態に回復させることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽内の洗浄液に被洗浄物を浸漬して、洗浄槽内の減圧と復圧とにより被洗浄物の洗浄を図る洗浄方法において、被洗浄物が管状部を有していても、その管状部内の洗浄を効果的に図る。
【解決手段】被洗浄物４は、管状部３の一端に洗浄補助具１を設けて、洗浄を図られる。洗浄補助具１は、洗浄槽８内の減圧時に洗浄液の沸騰による蒸気を溜める一方、洗浄槽８内の復圧時に前記蒸気の凝縮により、管状部３を介して洗浄液の流入を受ける。洗浄槽８内の減圧と復圧とにより、被洗浄物４の管状部３に洗浄液が流通するので、被洗浄物４の管状部３内は効果的に洗浄される。 （もっと読む）

【課題】この発明は基板を搬送するための搬送ユニットを処理槽内に容易かつ精度よく設置することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】処理槽１は、矩形状の下部フレーム２の四隅部に下端部が連結されて立設された支柱部材４と、支柱部材の上端部に四隅部が連結されて設けられた上部フレーム３と、支柱部材の高さ寸法に対応する間隔で上下方向に離間した下部フレームと上部フレームとがなす４つの側面に設けられ所定方向に位置する一対の側面の一方に上記基板の搬入口が形成され他方に上記基板の搬出口が形成された側壁部材１１と、下部フレームに所定間隔で架設されそれぞれの上面に第１の基準面１８が形成された複数の連結部材９と、第１の基準面を基準にして取付けられ搬入口から内部に搬入された基板を搬出口に向かって搬送する搬送ユニット２９と、下部フレームの開口部分を閉塞する底部材２１ａ，２１ｂと、上部フレームの開口部分を閉塞する天井部材２５によって構成されている。 （もっと読む）

【課題】装置設計、コスト、メンテナンス等の負担を軽減し、洗浄工程に要する時間を軽減することが可能な、噴射蒸気により被洗浄物の洗浄を行なうスチームジェット用ノズルを提供する。
【解決手段】ノズル本体１０は、蒸気室１２と、空気室１４と、蒸気室１２に通じる蒸気入力口１５と蒸気噴射口１６と蒸気排気口１７と、空気室１４に通じる空気入力口１８とを有し、蒸気室内１２には、噴射用バルブ２０と排気用バルブ３０を有し、空気入力口１８から入力される圧縮空気により、噴射用バルブ２０と排気用バルブ３０を制御し、洗浄処理時には、蒸気入力口１５から入力された蒸気を、蒸気噴射口１６から噴出させ、待機時には、蒸気排気口１７から排気させる。 （もっと読む）

【課題】複数成分からなる洗浄液を効率よく再生することができ、しかも簡易かつ小型の洗浄液再生装置およびこれを用いてなる循環洗浄装置を提供する。
【解決手段】使用済洗浄液３０を減圧状態で加熱蒸発させることによって、洗浄液蒸気を生成するとともに、当該洗浄液蒸気を凝縮して、再生洗浄液１５とするための生成部１３と、再生洗浄液１５を連続的に回収するための回収部１３と、を備えた洗浄液再生装置１０等であって、生成部１３は、加熱するための蒸発部３１と、洗浄液蒸気を凝縮して、再生洗浄液１５とするための冷却部４１と、蒸発部および冷却部をつなぐ連結部と、を備えており、連結部の開口面積をＡ（ｍｍ²）とし、蒸発部を加熱するためのヒータ容量をＢ（ｋＷ）としたときに、下式で定義される洗浄液蒸気の移動係数Ｃを１００〜３０,０００ｍｍ²／ｋＷの範囲内の値とする。洗浄液蒸気の移動係数（Ｃ）＝開口面積（Ａ）／ヒータ容量（Ｂ） （もっと読む）

【課題】トンネル式洗浄機において、流体排気通路で洗浄機の各チャンバからの均等な蒸気排気を容易にし、各チャンバからの熱損失を最小限にするため最適化される。
【解決手段】トンネル式洗浄機には、トンネル式洗浄機のチャンバを分離する間隔を保つ二重壁カーテンが含まれ、チャンバ間およびトンネル式洗浄機外への流体および熱移動が防止される。二重壁カーテンにはトンネル式洗浄機の操作の間にカーテンが互いに粘着することを抑制する表面が含まれる。またトンネル式洗浄機には種々の寸法の物品に対し乾燥効率を均等にする空気マニホールドが含まれる。 （もっと読む）

【課題】基板の周縁部に形成された処理膜を除去する基板処理装置において、基板単位の処理時間を短縮し、処理膜形成のスループットを向上すると共に、歩留まりの低下を抑制する。
【解決手段】基板Ｇを基板搬送路に沿って平流しに搬送する基板搬送手段２１と、前記基板搬送手段により第一の搬送方向に搬送される前記基板Ｇの、搬送方向に沿った両側縁部の処理膜を除去する第一の除去手段５ｂと、前記第一の除去手段により前記両側縁部の処理膜が除去された基板の搬送方向を、前記第一の搬送方向に直交する第二の搬送方向に転換する搬送方向転換手段７と、前記基板搬送手段により第二の搬送方向に搬送される前記基板Ｇの、搬送方向に沿った両側縁部の処理膜を除去する第二の除去手段６ｂとを備える。 （もっと読む）