【課題】溶剤の回収効率を高めて、溶剤の消費量を低減させるとともに、比較的安価な洗浄装置を提供することができる。
【解決手段】ワークの乾燥作業時において、ファン密閉部２１、洗浄・乾燥槽６、回収器１２及び配管５１〜５３は、外気とは完全に遮断された完全密閉状態を保持する。また、水分分離器１４、液戻槽１６、配管５６，６１及びその他配管も全て外気とは遮断された完全密閉状態であるように保持する。ワークの乾燥作業終了後に、洗浄・乾燥槽６に連設された冷却槽５内で、洗浄籠２及びワーク内の空気を冷却し、残存する僅かな溶剤蒸気を更に低減させ、かつ、冷却槽５内に流出した乾燥経路内の空気も冷却されるようにして溶剤蒸気濃度を更に低減させる。 （もっと読む）

【課題】複数の液処理モジュール間で共有されている共通用力系の負荷を抑えた処理装置等を提供する。
【解決手段】処理モジュール群は、基板に対して各々同一の処理を行うための多数の処理モジュールを、ｎ個（ｎ≧２）を１組としてｋ組（ｋ≧２）備え、各組の処理モジュールには各組の処理モジュールに対して共通化されると共にその最大能力がｍ個（ｍ≦ｎ）分の大きさの共通用力系が設けられている。搬送機構は各組の処理モジュールに基板を順次１個づつ搬入する動作を繰り返し、このとき（１）共通用力系が使用されている一の処理モジュールにおける処理が終了した後にその組の他の処理モジュールへ基板を搬入するか、または（２）当該一の処理モジュールの処理の終了を待たずに他の処理モジュールへ基板を搬入してから当該一の処理モジュールにおける処理が終了した後に他の処理モジュールの処理を開始する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、被洗浄対象物を効率よく洗浄することが可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗濯機１は、二酸化炭素ボンベ１２０と三方弁１２１とポンプ１３０と開閉弁１３１と、加圧手段と、減圧手段と、洗浄槽１１０とを備える。二酸化炭素ボンベ１２０と三方弁１２１とポンプ１３０と開閉弁１３１は、水と界面活性剤とを含む洗浄液に、気体状態の二酸化炭素を供給する。加圧手段は、二酸化炭素ボンベ１２０と三方弁１２１とポンプ１３０と開閉弁１３１によって供給された気体状態の二酸化炭素の少なくとも一部を洗浄液に溶解させるように、洗浄液を加圧する。減圧手段は、加圧された洗浄液を減圧することによって、洗浄液に溶解された二酸化炭素を発泡させる。洗浄槽１１０は、減圧されて発泡した二酸化炭素を含む洗浄液によって繊維構造体１０を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】炭化水素系洗浄液の沸点範囲に近い低沸点成分や高沸点成分を除去できる洗浄液の再生方法を提供する。
【解決手段】洗浄後の洗浄液を回収して、真空蒸留装置５により、沸点の異なる洗浄液成分と不純物成分とを分留して洗浄液成分を再生する。真空蒸留装置５で分留されずに、真空蒸留装置５から排気する蒸留装置用真空ポンプ８に吸引されたミスト状またはガス状の成分を、蒸留装置用真空ポンプ８の排気通路に沿って設けられた凝縮器（コンデンサ１１）および冷却器（アフタークーラ１２）により液化させて廃棄する。 （もっと読む）

【課題】洗浄水中に微細気泡が長時間浮遊することによって微細気泡洗浄と超音波洗浄の切り替え時間が長くなることを防止する。
【解決手段】洗浄水として洗浄槽気泡の合一を抑制する添加剤を加えた液を使用し、洗浄槽に微細気泡を噴射する微細気泡発生装置と、洗浄水に超音波を照射する超音波振動子とを備えた洗浄装置において、洗浄槽に洗浄水中の微細気泡を除去する機構を設けた。 （もっと読む）

【課題】最外周誘導壁によって容器の開口部を開閉することにより、占有面積の小型化、及び処理の短時間化を実現する。
【解決手段】回転式処理装置１に、容器１Ａ、回転保持機構７、処理液吐出アーム３０、誘導壁１６，１７、及びエアシリンダ２２，２３を設けた。回転保持機構７は、容器１Ａの開口部３７から搬入された被処理基板３を水平に保持して回転させる。誘導壁１６，１７は、回転保持機構７の外周側に同心状に配置され、処理液吐出アーム３０から吐出された処理液の廃液を分別して排液する。エアシリンダ２２，２３は、誘導壁１６，１７のそれぞれを上端部が回転保持機構に保持された被処理基板３よりも上方に位置する回収位置と下方に位置する退避位置との間で昇降させる。誘導壁１６，１７のうち最外周誘導壁１７は、回収位置で開口部３７を閉鎖し、退避位置で開口部３７を開放する。 （もっと読む）

【課題】、処理対象物を容器内に収容して洗浄する場合に、処理対象物を効率的に洗浄することが可能な滅菌装置及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】滅菌装置１であって、容器２０と、前記容器２０を支持する支持部材３１、３２と、前記容器２０を振動させる振動源と、前記容器２０に洗浄液を供給する洗浄液供給手段６０と、前記容器２０内に蒸気を供給する蒸気供給手段７０と、処理液排出手段６５と、処理対象物排出部２７とを備え、前記容器２０は、両端部が壁部により閉塞され略水平に配置可能とされる筒状体からなり、前記駆動源は、振動モータ５０により構成されることを特徴とする。 （もっと読む）

電極は経路に沿って端部を縦にして搬送される。電極は、底部外周端で支持されて、概ね垂直に保持される。複数の洗浄ノズルが経路に隣接してその対向する両側に配置される。ノズルからの洗浄スプレイは電極の両側面に当てられる。ノズルは、直線状に配置されてノズルアレイを形成し、電極の底部より先に上部に洗浄スプレイが当たるように角度が付けられる。リンスまたは前洗浄用の分離した部分を洗浄チャンバ内に備えてもよい。使用済みの水を回収して再利用してもよい。
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【課題】この発明は、洗浄処理に使用される洗浄液の損失が少なくて済み、消費量及びコストの低減を図ることができる被処理物洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】被処理物洗浄装置１により被処理物Ａを浸漬洗浄処理する際に、第１処理槽１Ｂ内に放出されたフッ素系溶剤Ｃの蒸気Ｃａを、第２処理槽２Ｂより下方に配置された冷却ジャケット３の冷却作用によって沸点より低い温度に冷却する。被処理物Ａを、第１処理槽１Ｂ内の第２処理槽２Ｂに貯留されたフッ素系溶剤Ｃに浸漬して浸漬洗浄処理する。浸漬洗浄処理から蒸気洗浄処理へ移行する際に、被処理物Ａを第２処理槽２Ｂに収容したまま位置を変更せずに、第２処理槽２Ｂに貯留されたフッ素系溶剤Ｃを蒸気Ｃａに入れ替えて蒸気洗浄処理する。蒸気洗浄処理から浸漬洗浄処理へ戻る際に、第２処理槽２Ｂに放出された蒸気Ｃａをフッ素系溶剤Ｃに入れ替えて浸漬洗浄処理する。 （もっと読む）

【課題】洗浄したい被洗浄部材内に収まる長さの気泡発生部材を差し込み、気泡発生部材の泡発生部から発生する泡状現象を利用して被洗浄部材の内面を洗浄するようにした被洗浄部材内面の洗浄方法及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】密閉された容器２１と、容器に充填された洗浄液２２と、容器の内圧を負圧にする真空ポンプ２３と、容器内を負圧にしたときに気泡を発生する気泡発生部１７ｃを有する気泡発生部材１７を備え、容器内の洗浄液に浸漬され内面７ｃを洗浄すべき被洗浄部材７の内部にその内面７ｃと隙間を有した状態で気泡発生部材１７を挿入し、気泡発生部１７ｃから発生した泡により被洗浄部材の内面を積極的に洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 この発明はカップ体内に設けられた仕切体を上昇させた状態及び下降させた状態のいずれであってもカップ体内を確実に排気できる処理装置を提供することにある。
【解決手段】 カップ体２内に設けられた回転テーブル３と、カップ体内の雰囲気を排出する第１の排気ブロア２１と、回転テーブルの外周とカップ体の内周との間に周方向全長にわたって設けられる固定仕切体１１及び上下駆動手段１３によって上下方向に駆動される可動仕切体１２を有し、上昇方向に駆動されたときに基板から飛散する処理液を内周面に衝突させる仕切体と、仕切体の内周面に衝突してカップ体の内底部に落下した処理液を回収する気液分離器２２と、仕切体の周壁に設けられ仕切体を上昇させて処理液を回収するときに第１の排気ブロアによる排気経路が仕切体によって遮断されるのを阻止する気体を通過して液体の通過を阻止する材料によって形成された通気性部材１２ａを具備する。 （もっと読む）

【課題】処理室内を自動洗浄することによって、洗浄の手間を省き、かつ処理室内の状態を一定に保つことができる恒温槽を得る。
【解決手段】試料が収納される処理室１８が設けられている。シャワー２０は、処理室１８の内壁に洗浄液を噴射して洗浄する。排水口２２は、洗浄に用いられた洗浄液を排出する。水質センサ２４は、排水口２２から排出される洗浄液の水質を測定する。制御部３６は、水質センサ２４の測定結果を入力し、シャワー２０を制御する。制御部３６は、シャワー２０に洗浄を開始させ、洗浄開始から所定時間が経過し、かつ洗浄液の水質が所定の値に達すると、シャワー２０を停止させる。 （もっと読む）

【課題】第１の処理液および第２の処理液を確実に分離して回収するとともに、被処理基板上にウォーターマークやパーティクル等の欠陥が生じることを確実に防止すること。
【解決手段】液処理装置１は、基板保持機構２０と、第１の処理液および第２の処理液を供給する処理液供給機構３０と、回転カップ６１と、回転カップ６１の第１の受け面６１ａで受けた第１の処理液および第２の処理液をそれぞれ排出する外側排出部１５および内側排出部１６と、外側排出部１５を開閉する排出部開閉機構３４とを備えている。回転カップ６１の第１の受け面６１ａの下端６１ｂは、基板保持機構２０によって保持された被処理基板Ｗより下方に延びている。排出部開閉機構３４が上昇した場合、第１の処理液は外側排出部１５へ向けて排出され、排出部開閉機構３４が下降した場合、第２の処理液は内側排出部１６へ向けて排出される。 （もっと読む）

【課題】基板にリンス液を供給する工程の終了後に、基板に薬液ミストが付着することを防止できる、基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板に対するレジスト剥離処理においては、処理室内において、基板にＳＰＭが供給される。このとき、基板でのＳＰＭの跳ね返りやＳＰＭ中の水分の蒸発などによるＳＰＭのミストが生じ、ＳＰＭのミストが処理室内の空間に浮遊して拡散する。基板へのＳＰＭの供給の終了後、基板にＳＰＭを洗い流すための純水が供給される。この純水の供給と並行して、処理室内の空間に微細な水滴が噴射される。これにより、処理室内の空間に拡散したＳＰＭのミストに微細な水滴がかかり、ＳＰＭのミストが微細な水滴に吸収され、ＳＰＭのミストが処理室内の雰囲気中から排除される。 （もっと読む）

【課題】ミストの漏洩防止および排気が十分になされ、加工装置が備える他の機器や部品へのミストによる悪影響を防止する。
【解決手段】ケーシング２０内の洗浄室２１に設けたスピンナテーブル３０にウェーハ（ワーク）Ｗを保持し、ケーシング２０上方の開口をフラップ２５で閉じ、洗浄室２１内を密閉した状態で、スピンナテーブル３０を回転させ、洗浄水供給ノズル５０から、回転するウェーハＷの上面に洗浄水を供給して洗浄するスピンナ洗浄装置１において、洗浄室２１内の、スピンナテーブル３０の保持面３０Ａよりも上方に配したエアブロワ７０から下向き、かつスピンナテーブル３０の回転方向に沿った方向に空気を噴出させて、発生するミストを下方におさえ込み、ケーシング２０の下部に接続した排気管６０からミストを外部に排出する。 （もっと読む）

【課題】洗浄装置において、リンス後の光学素子の水分を除去する際に、ＩＰＡや代替フロンなどを用いることなく、効率的に水分を除去することができるようにする。
【解決手段】被洗浄体であるレンズ２を洗浄治具１に保持して洗浄液５によって洗浄し、水を含むリンス液７でリンスするする洗浄リンス部１００Ａと、洗浄リンス部１００Ａでレンズ２に付着した水分を除去する水分除去部１００Ｂとを有する洗浄装置１００であって、水分除去部１００Ｂは、レンズ２を保持した洗浄治具１を収容して、洗浄治具１を回転させる回転枠１１と、回転枠１１に固定して設けられ、洗浄治具１を、洗浄治具１に保持されたレンズ２の厚さ方向が回転枠１１の回転円の径方向に略直交する方向に向くように保持する洗浄治具保持部１１ｅと、洗浄治具保持部１１ｅに向けて回転円の径方向にガスＧを噴射するガス噴射機構１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】パターンが微細化しても、パターンは破壊されずに異物を十分に除去することのできるフォトマスクの物理洗浄の方法を提供する。
【解決手段】１）密閉可能な洗浄チャンバー１０内の上部に空間Ｋを残して充填された薬液又は純水６０中にフォトマスク５０が浸漬された状態で洗浄チャンバーを密閉し、２）前記空間にＮ₂ ガスを供給して洗浄チャンバー内を高圧にした後に、３）該洗浄チャンバー内の高圧の薬液又は純水を、瞬時に洗浄チャンバーから排出し、高圧から常圧への瞬時の圧力差によってフォトマスクの異物を離脱させ除去する。 （もっと読む）

【課題】気体の吹き付けより液切りを行う一方で、当該気体の吹き付けに伴い搬入口側に運ばれる処理液等が当該搬入口から外部に漏れるのを防止する。
【解決手段】基板処理装置は、搬入口２ａから処理室１に搬入される基板Ｓに対して剥離液を供給した後、基板Ｓを搬出口３ａから搬出するように構成される。搬出口３ａの近傍には、基板Ｓに対して基板搬送方向における下流側から上流側に向かってエアを吐出することにより剥離液を除去する第１エアナイフ１３，１３が配置され、搬入口２ａの近傍には、基板搬送方向における上流側から下流側に向かってエアを吐出する第２エアナイフ１４，１４が設けられる。コントローラ３０は、第１エアナイフ１３，１３によるエアの吐出動作中に第２エアナイフ１４，１４からエアが吐出されるようにエアの吐出動作を制御する。 （もっと読む）

【課題】処理室間においてミスト状処理液の侵入を防止する。
【解決手段】基板処理装置は、剥離液により剥離処理を施す第１剥離処理室１と、前記剥離液よりも低濃度の剥離液により剥離処理を施す第２剥離処理室３と、各処理室１，３の間に介設される中間室２と、第１剥離処理室１、中間室２及び第２剥離処理室３の隔壁１１，１３に形成される基板搬送用の開口部１１ａ，１３ａを各々開閉するシャッタ２５，３４等と、中間室２において少なくとも第２剥離処理室３側の開口部１３ａが開放されているときに、当該開口部１３ａに向かってエアを吐出するエアナイフ３６，３６と、エアナイフ３６，３６と前記開口部１３ａとの間に排気口４０を有し、この排気口４０を通じて中間室２内を排気する排気手段とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板保持部において、前記基板が嵌入される角型の凹部の洗浄処理に要する時間を短縮し、前記基板へのパーティクルの付着を抑えること。
【解決手段】塗布ユニットは、角型の基板Ｇが嵌入される角型の凹部３を備え、鉛直軸周りに回転自在に設けられたスピンチャックＳを備え、このスピンチャックＳを洗浄するときには、回転されるスピンチャックＳに対して前記凹部の辺に沿って洗浄液ノズル６１から洗浄液を供給し、次いで洗浄液が供給された後のスピンチャックＳ対して、ガスノズルから洗浄液の乾燥を促進させるための乾燥用気体を、前記凹部の辺に沿って供給する。 （もっと読む）