【課題】流体加熱装置において、吐出時における流体温度の高温化と、流体温度の安定した制御を実現する。
【解決手段】流体加熱装置は、流体を圧送するための第１の配管２と、マイクロ波を照射するための発振器３と、マイクロ波の照射範囲を限定するための導波管１とを備え、第１の配管２は、導波管１内に配置される部分と、導波管外に設けられた流体吐出口２１とを備える。 （もっと読む）

【課題】被洗浄基板へのミストの再付着を確実に防止できるスピン洗浄装置を提供する。
【解決手段】吐出ノズル11の周囲にノズル用排気ダクト12を設ける。スピン部15の基板チャック３の周囲に、排気ダクト８に連通する風路部７を設ける。吐出ノズル11の近傍のミストを、ノズル用排気ダクト12によって瞬時に排出し、スピン部15にてスピンする被洗浄基板Ｂの周囲へと飛散するミストは、風路部７によって瞬時に排出することで、被洗浄基板Ｂへのミストの再付着を確実に防止できる。 （もっと読む）

簡単に構築され、かつその溢水室が迅速に充填および再び排出できる、清掃すべき工作物（１９４）を収容するための溢水室（１１８）と、溢水室を液状の清掃手段で溢水させるための溢水装置とを有する清掃装置（１００）を提供するために、溢水室が清掃手段リザーバ（１０４）と接続可能であり、かつ溢水装置が、溢水室内の圧力を減少させるための送風機（１４２）を有するので、溢水室内の減少された圧力に基づいて、清掃手段が清掃手段リザーバから溢水室内へ吸い込まれることが、提案される。
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【課題】 建物等の構造物に付着しているアスベスト除去する場合、その除去作業により曝露されたアスベストを吸い込む危険性や周囲に与える悪影響を全て回避できるアスベスト除去の施行方法を提唱すること。
【解決手段】 建築物のアスベスト施工面に付着しているアスベスト層を除去するにあたり、アスベスト層に対しコンニャク芋，粉，粒，すり身，小塊，ぺーストまたはエキス等のコンニャク芋加工品と水などとの混合物であるコンニャク混合液を浸透させて、前記アスベスト層を半固溶体の状態にするコンニャク混合液付与行程と、その半固溶体の状態とされた前記アスベスト層を前記アスベスト施工面から剥離するアスベスト層剥離行程からなる。 （もっと読む）

【課題】短い時間で基体から有機被膜を除去できる有機被膜除去方法及び有機被膜除去装置を提供する。
【解決手段】洗浄槽１１内部を真空脱気してから、基体５に向かってＩＰＡ供給ノズル１３からＩＰＡガスまたはＩＰＡ液を噴射することで、硬化層表面における疎水性の影響を受けにくくし、大きい拡散速度で、硬化層に作られた細孔にすばやく浸透させ、硬化層より下部の有機被膜層に拡散・溶解させ、その有機被膜層を膨潤させることによって、硬化層を遊離させる。その後、オゾン水供給ノズル１４からオゾン水を噴射することにより、イオン注入の影響による硬化が生じていない残存した有機被膜層を、容易に酸化分解によって除去する。 （もっと読む）

【課題】比抵抗低減気体中の不純物による基板汚染や基板上の金属膜腐食の問題を抑制しつつ、基板の帯電を抑制または防止できる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】薬液ノズル５から基板上に薬液を液盛りして薬液工程が行われる。基板の回転によって薬液を排液した後、純水ノズル６から基板上に純水を液盛りして１回目のリンス工程が行われる。純水を排液した後、純水ノズル６から基板上に純水を液盛りして２回目のリンス工程が行われる。基板上に純水が液盛りされた状態で、ガスノズル７から炭酸ガスが供給され、基板の上面付近の雰囲気が炭酸ガス雰囲気とされる。これにより、炭酸ガスが純水中に溶け込む。その後、基板の回転によって、炭酸ガスが溶解した純水が基板外に排液される。 （もっと読む）

【課題】特定ガス溶解水から脱気処理により特定ガスを分離回収し、回収した特定ガス及び脱気処理水を有効に利用することができる特定ガス溶解水の製造方法、製造装置及び循環方法を提供する。
【解決手段】特定ガス溶解水を脱気処理して、脱気処理水と排出ガスとに分離し、排出ガスから特定ガスを回収し、回収した特定ガスを脱気処理水に溶解して、特定ガス溶解水を得る特定ガス溶解水の製造方法、特定ガス溶解水を脱気処理水と排出ガスとに分離する脱気処理装置、排出ガスから特定ガスを回収する特定ガス回収装置、回収した特定ガスを脱気処理水に溶解して特定ガス溶解水を得る特定ガス溶解装置を有する特定ガス溶解水の製造装置、及び、ユースポイントから特定ガス溶解水を貯留槽に返送する際に、脱気処理水と排出ガスとに分離して特定ガスを回収し、回収した特定ガスを脱気処理水に溶解して、特定ガス溶解水を得る特定ガス溶解水の循環方法。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、その表面に硬化層を有するレジストであっても除去することができる、基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】ウエハＷを加熱しつつ、そのウエハＷの表面に、ＳＰＭと窒素ガスとの混合流体（液滴の噴流）を供給する。ウエハＷの表面上のレジストがその表面に硬化層を有していても、ウエハＷが加熱されることによって、そのレジストの表面の硬化層は軟化する。そのため、混合流体がウエハＷの表面に供給されると、その軟化した硬化層は、その混合流体が衝突するときの衝撃により破壊される。この後、ウエハＷの表面にＳＰＭを供給する。レジストの表面の硬化層が破壊されているので、その硬化層の破壊された部分からレジストの内部にＳＰＭを浸透させることができ、ＳＰＭの化学的な力により、レジストをウエハＷの表面から硬化層ごと剥離させて除去することができる。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、その表面に硬化層を有するレジストであっても除去することができる、基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】プレート２によって、ウエハＷの裏面を吸着保持して、そのウエハＷを回転させる。その一方で、回転しているウエハＷを加熱しつつ、そのウエハＷの表面に、ＳＰＭノズル３から超音波振動の付与されたＳＰＭを供給する。ウエハＷの加熱によって、ウエハＷの表面上のレジストの硬化層が軟化するので、超音波振動の付与されたＳＰＭがウエハＷの表面に供給されると、その硬化層は、超音波振動の物理的なエネルギーによって破壊される。レジストの表面の硬化層が破壊されると、その破壊された部分からレジストの内部にＳＰＭを浸透させることができ、そのＳＰＭの化学的な力により、レジストをウエハＷの表面から硬化層ごと剥離させて除去することができる。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、その表面に硬化層を有するレジストであっても除去することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】加熱処理部２には、ウエハＷの裏面（レジストが形成されている表面と反対側の面）を吸着保持して、そのウエハＷを加熱するためのプレート５と、プレート５に保持されたウエハＷの表面付近の空間を包囲するための包囲部材６とが配置されている。プレート５にウエハＷが保持されて、そのウエハＷの表面に包囲部材６が近接して配置され、包囲部材６からウエハＷの表面上の雰囲気が吸引されつつ、プレート５に内蔵されたヒータ１１によってウエハＷが加熱される。この加熱によって、ウエハＷの表面温度が約３００℃以上の高温に達して、ウエハＷの表面上のレジストにポッピング現象が生じ、レジストの表面に硬化層が破壊される。 （もっと読む）

【課題】洗浄室内の洗浄流体の急激な密度変化を防止することができ、洗浄後の被洗浄物がダメージを受けることがない洗浄システムを提供する。
【解決手段】洗浄システム１０では、洗浄室に収容された被洗浄物を洗浄した後、コントローラ１７が流体圧力逓減手段、容器温度低下手段、流入量制御手段、タンク温度低下手段を同時に実行し、それら手段によって洗浄室内の洗浄流体の温度を略一定の下り勾配で低下させるとともに、洗浄室内の洗浄流体の密度を略一定の下り勾配で低下させる。 （もっと読む）

【課題】 基板を水平に保持して回転する基板保持体の下方において発生する気流が、排気や排液の流れに与える影響を極力低減できる液処理装置および液処理方法を提供する。
【解決手段】 液処理装置１００は、ウエハＷを水平に保持する保持部材１４を有し、ウエハＷとともに回転可能な回転プレート１１と、前記回転プレート１１を回転させる回転モータ３と、ウエハＷに処理液を供給する表面処理液供給ノズル５と、回転プレート１１の回転中心からみて保持部材１４よりも径方向外側に設けられ、前記回転プレート１１の下方に形成される気流を遮蔽する遮蔽壁５５と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】移送水路やプールの凹凸のある底部を清掃する際に、水を抜かずに、作業効率よく清掃できる装置を提供する。
【解決手段】移送水路６１の水底部に敷設されている既設のレール６１２上を移動可能な自走式台車１１と、その台車１１に固定された吸引ノズル１２と、前記吸引ノズル１２に接続された吸水ホース３１と、前記吸水ホース３１に接続されたポンプ３２と、前記ポンプ３２に接続されたフィルタユニット４１，４２とを備えている。その吸引ノズル１２は、台車１１の移動方向と直角水平方向に広がっていて吸引口は下向きに向けられており、全体としてはレール３１２などの水底部の凹凸に合わせたノズル形状になっている。 （もっと読む）

【課題】複数種類のパレットを、簡単な装置構成で、作業性よく効率的に脱水処理できる複数種類のパレットに対応可能な脱水装置及びこれを用いた洗浄設備を提供する。
【解決手段】荷物の運搬に使用した複数種類の使用済みのパレット１１の側方周囲を囲むカバー部材と、パレット１１を水平状態で搬送するパレット搬送手段１９と、このパレット１１を設定位置に停止するパレット停止手段２３と、停止させたパレット１１の搬送方向と直交する方向の位置調整を行うパレット位置調整手段２７と、パレット１１を載置する回転テーブル４６を備えこれを回転可能及び昇降可能に支持する昇降手段４７と、カバー部材の内側に設けられ、昇降手段４７によって上昇させたパレット１１をその形状に対応してその両側からガイドする逆階段状となった一対の嵌合部５９、６０、５９ａ、６０ａを備える固定部材６１と、このパレット１１を回転させる駆動手段６５とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板を回転しながら基板の処理又は乾燥を行う際、処理液のミストが基板に付着するのを抑制し、かつ処理液のミストが装置の外へ漏れるのを防止する。
【解決手段】上カップ４０に吸気口４２を設け、下カップ３０の基板１より下の位置に排気口３２を設け、かつ下カップ３０の基板１の周囲の内壁に斜め下向きに傾斜した傾斜板３４を設ける。処理室内では、吸気口４２から基板１の表面を通り排気口３２へ向かう下向きの空気の流れが形成される。そして、基板１の表面を通った空気が、下カップ３０の内壁に設けられた傾斜板３４に沿って斜め下向きに流れ、基板１の回転による空気の流れの乱れが小さくなる。下カップ３０内で発生した処理液のミストを含む空気は、この斜め下向きの空気の流れに押されて、基板１の表面及び裏面へ回り込むことがほとんどなく、さらに上カップ４０と下カップ３０との隙間から処理室の外へ流れることもない。 （もっと読む）

物品を汚染除去する方法であって次のステップが含まれる。すなわち、（ａ）既知温度の複数の物品を第１の通路に沿って移動させ、（ｂ）細長いプレナムを含む第２の通路に沿ってキャリヤガスを搬送し、第２の通路はプレナムより下流で第１の通路に交差し、（ｃ）キャリヤガスをプレナムの上流位置で少なくとも約１０５℃に加熱し、（ｄ）プレナムにおいてキャリヤガスに既知濃度の液体過酸化水素の噴霧ミストを注入し、（ｅ）（１）第２の通路に沿うキャリヤガスの容積流量と、（２）キャリヤガスに注入される過酸化水素の容積と、（３）第１の通路が第２の通路と交差する箇所のキャリヤガス中の蒸気過酸化水素の濃度が物品の既知温度より低い露点温度をもつようにプレナム内に注入されるキャリヤガスの温度とを制御するステップが含まれる。 （もっと読む）

【課題】蛍光塗料が付着したウエスを洗浄することで該ウエスを再利用可能にし、且つ金属蛍光体を回収することが可能なウエス洗浄装置を提供すること。
【解決手段】内部に空間を有する洗浄機本体Ａ１内に、蛍光塗料が付着したウエスから蛍光塗料を除去するための洗浄液剤又は濯ぎ液剤を貯留するための洗浄タンクＡ２を備え、該洗浄タンクＡ２の上方に前記洗浄タンクＡ２内に貯留された洗浄液剤又は濯ぎ液剤に浸漬させながらウエスを巻き取るための、第１のリールａ１と第２のリールａ２とを備える。また、洗浄液剤中に溶解する蛍光塗料を除去し、且つ蛍光塗料除去後の洗浄液剤を貯蔵するための洗浄液剤供給回収部Ｂと、濯ぎ液剤中に溶解する蛍光塗料を除去し、且つ蛍光塗料除去後の濯ぎ液剤を貯蔵するための濯ぎ液剤供給回収部Ｃと、洗浄機本体Ａ１内に供給されるガスから気化した洗浄液剤又は濯ぎ液剤を液化させて回収するための排ガス分離部Ｄとを備える。 （もっと読む）

【課題】被処理基板に略均一に乾燥流体を供給するようにして乾燥不良をなくした基板処理装置提供すること。
【解決手段】薬液や純水等の処理液を貯留し、この貯留された処理液に被処理基板を浸漬して処理する洗浄槽３と、この洗浄槽３の上方に配置して洗浄済み被処理基板を洗浄槽から引上げて乾燥処理する乾燥室６とを備え、洗浄槽３と乾燥室６との間には、これらの間を仕切るともに乾燥流体を排出させる排気穴を有するシャッター部材８がスライド移動自在に配設されている。 （もっと読む）

【課題】運転停止と同時に所定水圧の洗浄水を所定流量だけ所定時間だけ噴射ズルに流すことによって噴射ノズルを自動的に自己洗浄することができる洗浄装置を提供すること。
【解決手段】洗浄水供給管（流体供給ライン）２から供給される洗浄水（洗浄流体）の設定圧によって噴射口を絞り、洗浄流体を噴射するとともに、洗浄流体の圧力が設定値よりも低下すると噴射口を広げて該噴射口を洗浄水で自己洗浄する噴射ノズル４を備えた洗浄装置において、該洗浄装置の運転時に前記洗浄水供給管２を流れる洗浄水の一部を貯留するアキュームレータ１４と、該アキュームレータ１４に貯留された洗浄水を洗浄装置の運転停止時に減圧して前記噴射ノズル４へと流して該噴射ノズル４の自己洗浄に供する開閉弁（減圧手段）Ｖ３を設ける。 （もっと読む）

【課題】基板上の異物残留を低減できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理槽１３内に設置される基板Ｗ上に処理液を供給する位置と該処理液を供
給する位置から退避する位置との間を移動可能な吐出口６ｂを有するノズル６を備えた基
板処理装置１において、ノズル６が処理液を供給する位置から退避したときに、吐出口６
ｂが配置される空間領域と基板Ｗが配置される空間領域とを遮断する可動な遮断手段８、
１４が設けられている。 （もっと読む）