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Fターム[3C058AA18]の内容

仕上研磨、刃砥ぎ、特定研削機構による研削 (42,632) | 装置の構造(工具) (12,061) | 複数工具を有するもの (433)

Fターム[3C058AA18]に分類される特許

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【課題】パイプ状部材の何ヵ所のメッキ部位を削り取るのに、手作業で行っていたが、手間が掛かりすぎる非効率性と、精度の悪さの問題を解消する。
【解決手段】装置テーブル10に、複数のサンダー固定具9を適当なる位置に設け、この各固定具に上下動手段と傾角動手段を設けた、ベルトサンダー3を設ける。さらにテーブルの中央に部材固定具4を設け、この固定具に、さらに研削部材を位置決めして固定するクランプ手段2を設ける。これらに研削部材であるパイプ成型品1を、各ベルトサンダー3の研削するベルト部7と、適切な位置決めをして、クランプ手段2でもって固定して設ける。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の主表面を平坦度30nm以下に研磨することができる、EUVL光学基材用ガラス基板の研磨方法の提供。
【解決手段】両面研磨装置10のガラス基板22の両主表面を研磨するEUVL光学基材用ガラス基板の研磨方法であって、前記研磨パッド24が、微多孔が形成された表面層を有し、圧縮率が20%以上である第1の軟質プラスチックシートと、前記第1の軟質プラスチックシートの前記研磨面の背面側に接合された、圧縮率が20%未満である第2の軟質プラスチックシートと、を備えており、前記第2の軟質プラスチックシートの前記第1の軟質プラスチックシートが接合された反対面側をバフ処理した後、前記第2の軟質プラスチックシートのバフ処理された面を前記両面研磨装置の上下定盤の側にして、前記研磨パッドを該上下定盤に取り付けた状態で、前記研磨面側をドレス処理してから、前記ガラス基板の両主表面を研磨する。 (もっと読む)


【課題】 サファイア基板を高スループットで平坦化加工して薄肉化した反りのない異物の付着が少ない加工基板を製造することができる平坦化加工装置の提供。
【解決手段】 3軸の研削砥石ヘッド34h,34h,34hを備える研削装置30と、2基のワーク吸着ヘッド22,22を備えるラップ盤20間のサファイア基板の移送を多関節型搬送ロボット4のアーム4aを利用して行う。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の接合面の表面精度の向上を図り、キャビティ内の気密を確保することができるガラス基板の研磨方法、パッケージの製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器並びに電波時計を提供する。
【解決手段】研磨剤を供給しつつリッド基板用ウエハ50の接合面53を研磨する、研磨工程を有するガラス基板の研磨方法であって、研磨工程は、研磨剤に酸化セリウムを主成分とする第1研磨剤を用いてリッド基板用ウエハ50の接合面53を研磨する前段ポリッシュ工程と、研磨剤にコロイダルシリカを主成分とする第2研磨剤を用いてリッド基板用ウエハ50の接合面53を研磨する後段ポリッシュ工程と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】従来装置と比較してより高い張力で、ワイヤ断線なくワークの切断を素早く実現する。
【解決手段】複数の溝付ローラ2,3間に巻き付けられた切断用のワイヤ4の一方端が第1ダンサローラ10を介して供給ボビン5に巻き付けられ、その他方端が第2ダンサローラ13を介して回収ボビン6に巻き付けられ、複数の溝付ローラ2,3間のワイヤ4の複数列でワーク7を切断するワイヤソー装置1Aにおいて、供給ボビン5に対する第1トラバーサ22Aのワイヤ折り返し移動による張力変動および、回収ボビン6に対する第2トラバーサ23Aのワイヤ折り返し移動による張力変動を吸収する第1ワイヤ張力変動吸収手段が設けられている。 (もっと読む)


【課題】 倣いローラによる表面のすれを抑制することができる研磨装置を提供する。
【解決手段】 基準となる一直線上に軸が位置決めされた状態で軸周りに回転している金属管の外表面の一部に研磨部材を接触させるとともにこの研磨部材が接触する箇所と反対側の金属管の箇所を倣いローラに接触させてこの研磨を行う箇所の金属管の軸を一直線上に保持させながらこの研磨部材を金属管の軸方向に移動させて金属管の外表面の研磨を行う。倣いローラが、一直線に平行な軸周りに回転可能に支持され、この倣いローラを揺動可能に支持する揺動部を設ける。 (もっと読む)


【課題】主平面の研磨工程での研磨パッドの目詰まりを抑制して、ドレス処理の頻度を低減するとともに研磨速度を安定させ、主平面の平滑性に優れ、異なるロットのガラス基板間の板厚のばらつきが小さい磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、形状付与工程と、主平面研磨工程と、洗浄工程とを備え、前記主平面研磨工程は、前記ガラス基板の主平面を両面で5μm以上の研磨量で研磨する粗研磨工程を有する。そして、前記粗研磨工程では、気泡を含有し、研磨面に開口する前記気泡の平均直径が80〜300μmであり、かつ1.1〜2.5%の圧縮率を有する研磨パッドと、砥粒を含有する研磨液を用いて主平面を研磨することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】簡易な機構で加工部の加工直径を調節することができる加工装置を提供することを課題とする。
【解決手段】ドローバー引張機構90は、一端が主軸台20に揺動自在に係止されるレバー92と、このレバー92の他端と主軸台20の間に渡されピストンロッド94がほぼドローバー61に平行に延ばされレバー92を揺動させるレバー揺動シリンダ95と、レバー92の途中に揺動可能に止められドローバー61へ延ばされ軸受98を介してドローバー61の一端に連結される連結部材99とからなり、てこの原理でレバー92でドローバー61を軸方向へ移動させるようにした。
【効果】連結部材をレバーの途中に揺動可能に止め、レバー揺動シリンダでレバーを移動させるだけであるので、ドローバー引張機構を簡易且つ安価な機構にでき、装置全体としても簡易な機構で加工部の加工直径を調節することができる加工装置となる。 (もっと読む)


【課題】電極板の一部を構成するハンガーバーの下面のブスバーと接触するコンタクト部とその近傍に付着した酸化皮膜、電解液の結晶などの付着物を簡単かつ確実に除去でき、メンテナンスも容易な電極板のハンガーバー研磨装置を提供する。
【解決手段】金属の電解精錬に用いられる電極板のハンガーバーの下面に付着した酸化皮謨、電解液の結晶などの付着物を除去するための電極板のハンガーバー研磨装置であって、コンベアにより搬送されてくる電極板のハンガーバーの下面に対して下方向から押し付けるように、付勢機構によって上方向に付勢された回転ブラシを備える。 (もっと読む)


【解決手段】本発明は、回転砥石による磁石切削又は研削加工において、ワックスによる接着固定が不要で、被切断物の着脱が容易で且つ切断中及び切断後の磁石のずれがなく精度よく加工可能となる磁石固定治具を提供する。
【効果】円板状又は円筒状の台金の外周部に砥石を固着した外周刃又は研削砥石を回転軸に取り付け希土類磁石を切削又は研削加工する際に使用する希土類磁石を固定するための磁石固定治具であって、磁石を挟む一対の固定治具は、金属からなる部品と円柱状のゴムから構成され、金属部品にはゴムの直径よりも浅い溝を設け、その溝の中にゴムをはめ込むと共に、溝の体積はゴムの体積以上の空間を持つようにして、ゴムの突き出しを設け、磁石に先ずゴムが接触しゴムとの摩擦力で横ずれが防止され、更にゴムが突き出し分変形して金属部と磁石が接触することで把持方向のずれがなくなり、強固に保持することができる。 (もっと読む)


【課題】 研磨による傷の発生を軽減し、安定した研磨が行えること。
【解決手段】 センターギアと、このセンターギアを回転軸とする上定盤と、このセンターギアを回転軸としつつ前記上定盤と向かい合うように配置される下定盤と、この下定盤の縁側に配置されるインターナルギアとから構成される研磨装置が用いられ、前記下定盤と前記上定盤との間に水晶ウェハを配置して前記水晶ウェハを研磨する水晶ウェハの研磨方法であって、前記水晶ウェハと前記上定盤および前記水晶ウェハと下定盤との間に所定のガスを気泡化したナノバブルを含むフッ化カリウム水溶液、水酸化ナトリウムと炭酸ナトリウムとの混合溶液、水酸化カリウム溶液の何れか1つの溶液を介在させて水晶ウェハを研磨することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】研磨時に盛り上がったバックパッドが研磨パッドと接触して破れるのを防止し、板状体に掛かる研磨パッドの圧力偏重を緩和するとともに、連続研磨において次の研磨対象への研磨パッドの乗り継ぎ不良を防止する。
【解決手段】板状体の研磨装置は、板状体の主表面における第1の面を吸着保持すべく構成されたバックパッドと、前記板状体の前記主表面における第2の面に押し付けられ、該第2の面を研磨すべく構成された研磨パッドを備え、前記研磨パッドの押し付けによる前記板状体の周囲の前記バックパッドの盛り上がりを防止すべく構成された補助プレートが前記板状体の周囲または周囲の一部に配置されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 研磨後のウェハの厚みばらつきを軽減する。
【解決手段】 センターギアと、このセンターギアを回転軸とする下定盤と、この下定盤の縁側に配置されるインターナルギアと、前記センターギアを回転軸としつつ前記下定盤と向かい合うように配置される上定盤とから構成される研磨装置と、前記研磨装置を内部に配置し研磨で使用した前記溶液を溜める溶液漕と、所定の溶液内にナノバブルを生成するナノバブル発生装置と、前記ナノバブルを含む前記所定の溶液を攪拌する攪拌部と、この攪拌部から前記研磨装置の上定盤に前記ナノバブルを含む前記溶液を供給する第一のポンプと、前記溶液漕に溜まった前記溶液を前記攪拌部へ供給する第二のポンプと、から構成される循環系設備と、を備え、前記研磨装置と前記溶液漕と前記循環系設備との前記溶液が接触する表面に、フッ素樹脂を設けたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 研磨後のウェハの厚みばらつきを軽減しナノバブルの密度を高くする。
【解決手段】 ウェハを下定盤と上定盤とで挟んで研磨する研磨装置と、ナノバブルを含む所定の溶液を溜める溶液漕と、ナノバブル発生装置と、溶液を攪拌する攪拌部と、前記攪拌部から前記溶液漕へ接続する第一配管部と第二配管部と、第一配管部から分岐し攪拌部へ戻る第三配管部と、第一配管部内に設けられるアノード電極と、アノード電極と対向して設けられる第一カソード電極と、アノード電極と対向して設けられる第二カソード電極と、アノード電極と対向して設けられる第三カソード電極と、各電極が接続される電場発生装置と、から構成される循環系設備と、を備えて構成されることを特徴とするナノバブル循環型研磨装置。 (もっと読む)


【課題】リテーナリングが摩耗した場合でも、リテーナリングを研磨パッドから離したウェーハの研磨中に、ウェーハがリテーナリングから飛び出すことを防止可能であり、かつ、リテーナリングの長寿命化を図れる研磨装置を提供する。
【解決手段】研磨装置の研磨ヘッド4は、ウェーハチャック41と、リテーナリング47を保持するリテーナ保持部材42と、回転軸部材43と、ウェーハチャック41とリテーナ保持部材42とにより第1加圧室P1を形成する第1ダイアフラム48と、リテーナ保持部材42と回転軸部材43とにより第2加圧室P2を形成する第2ダイアフラム49と、ウェーハチャック41に対するリテーナ保持部材42の最大上昇量を規定するメカストッパ44と、当該最大上昇量を調整する上昇量調整手段45と、を備える。 (もっと読む)


【課題】球体の加工品質を向上させるとともに、研磨加工効率を高めることができる球体研磨装置を提供する。
【解決手段】軸方向に圧力を加えながら回転盤体3を固定盤体2に対して回転させることにより球体を研磨加工する球体研磨装置1において、加工中の球体5の直径を測定する球径測定器6と、球径測定器6の測定値により球体5を研磨する研磨加工能率を制御するPLC7と、を備え、球径測定器6は、被測定球体5の姿勢を変更する姿勢変更機構64を有し、PLC7は、加工完了寸法を設定する設定手段71と、測定値Dmより平均直径を算出する加工能率演算部72と、設定手段71により設定された設定値及び平均直径に応じて加工能率の目標値を設定する加工能率演算部72と、測定値Dmと加工完了寸法とを比較して加工を停止させる加工能率演算部72と、を有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、基材に塗布された接着剤を介して取り付けられたブラシ毛、および基材に開口部が成形されたブラシ毛からなるロールブラシに関するものである。
【解決手段】本発明のロールブラシは、パイルからなるブラシ毛が植毛される基材と、前記基材を巻回している巻き芯とから少なくとも構成されている。前記ブラシ毛が植毛されているロールブラシは、平面部材の表面を研磨し、前記ブラシ毛が磨り減った場合に、前記巻き芯を巻回することにより、新しいブラシ毛表面が現れて、所望の研磨ができるような構造になっている。また、ロールブラシは、ブラシ毛となる基材に開口部が成形されている。前記開口部が成形された基材は、巻き芯に一端から他端に向けて巻回されている。前記ロールブラシは、開口部を有する基材部分が回転されながらワークの表面を研磨する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、研磨量を正確に制御することのできるワークの研磨方法及び研磨装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、ワークの両面を研磨するに当たり、排スラリーの温度変化率の変化を捉えることにより、ワークの研磨量を制御するものである。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の主平面の研磨において、上側研磨パッドへのガラス基板の張り付きを防止するとともに、ガラス基板のリーチング痕を防止し、主平面の面内における均一な平滑性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板の形状付与工程と、ガラス基板の主平面研磨工程と、洗浄工程とを有し、主平面研磨工程において、研磨パッドの研磨面の実効面積率((A−B)/A×100)を、上側研磨パッドにおいて75〜98%とするとともに、下側研磨パッドにおいて99%以上(より好ましくは100%)とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、縦型平面部材の左右面を同時に研磨および/または洗浄を行うことができる自動研磨・洗浄装置に関するものである。
【解決手段】本発明の自動研磨・洗浄装置は、大型太陽電池あるいは大型液晶画面等の縦型平面部材の左右面を同時に研磨および/または洗浄をすることができる。前記縦型平面部材は、前記研磨・洗浄中に、砥粒および/または香料の入った研磨液および/または洗浄液が掛けられて研磨・洗浄が簡単で、かつ、素早く行える。本発明の自動研磨・洗浄装置は、縦型平面部材に合った素材から構成されている複数組のブラシ組立により、左右面を同時に研磨および/または洗浄を行うことができるようになっているため、前記縦型平面部材の左右両面の研磨および/または洗浄を迅速、かつ、効率良く行うことができる。 (もっと読む)


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