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Fターム[3C081CA16]の内容

マイクロマシン (28,028) | プロセス (6,263) | 加工方法、手段 (4,742) | 除去加工 (2,002) | エッチング (1,585) | 停止層を使用するもの (63)

Fターム[3C081CA16]に分類される特許

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【課題】異なる厚さを有する少なくとも2つの領域を備える活性部を備え、これらの領域の少なくとも一つが単結晶半導体材料からなる構造を製造する、コストを減少させ欠点を有しない方法を提案すること。
【解決手段】第1の基板と異なる厚さの第1及び第2の懸架領域を備える活性部を備える構造を製造する方法であって、前記方法は、以下の、a)第1の基板の前面を加工して第1の基板よりも薄い第1の厚さの少なくとも1つの第1の懸架領域の水平方向の輪郭を画定し、b)懸架領域下部の第1の懸架領域のエッチング停止層を形成し、これが第1の懸架領域下部に配置された半導体材料を除去する段階に先立って行われ、c)第1の基板の前面上に犠牲層を形成し、d)第1の基板の背面から加工して犠牲層をリリースし、少なくとも1つの第2の懸架領域を形成し、第1の懸架領域の停止層に到達させ、e)第1及び第2の懸架領域をリリースする段階を備える。 (もっと読む)


【課題】不要な振動モードが生じることを抑制できるMEMS振動子を提供する。
【解決手段】MEMS振動子100は、基板10と、基板10の上方に配置された第1電極20と、第1電極20との間に空隙を有した状態で配置され、第1電極20との間の静電力によって基板10の厚み方向に振動可能となる梁部32、および梁部32を支持する支持部34を有する第2電極と、を含み、第2電極30は、梁部32を複数有する。 (もっと読む)


【課題】製造における可動部の形状ばらつきを従来よりも小さくして、可動部の回動時の慣性モーメントを低減することができるアクチュエーター、光スキャナーおよび画像形成装置を提供すること。
【解決手段】光スキャナー1は、光反射性を有する光反射部211と、光反射部211を備え、かつ所定の回動中心軸まわりに回動可能な板状の可動部21と、可動部21に連結し、かつ前記可動部21の回動に伴って捩り変形する連結部23、24と、連結部23、24を支持する支持部22と、を有し、可動部21は、可動部21の板厚方向からの平面視にて四角形の四隅の部分をそれぞれ矩形に欠いた形状(十字状)をなす。 (もっと読む)


【課題】可撓梁の厚みのばらつきを小さくすることができる梁構造デバイスと、その製造方法とを実現する。
【解決手段】第一面と第二面とを有する可撓梁形成基板21を用意し、可撓梁形成基板21の第一面側を厚み方向に削り、可撓梁の固定部3Cと空洞部21Aとを可撓梁形成基板21に形成する第一工程と、支持基板2を用意し、可撓梁形成基板21の第一面が支持基板2に対向するように、可撓梁形成基板21と支持基板2とを接合して、固定部3Cを支持基板2に固定する第二工程と、可撓梁形成基板21の第二面を研削して可撓梁形成基板21を薄化させる第三工程と、可撓梁形成基板21の第二面側を厚み方向に削り、可撓梁を形成する第四工程と、を有し、第三工程において、可撓梁が形成される位置とは異なる位置であって、可撓梁形成基板21と支持基板2との間に、支持柱7が配置されている。 (もっと読む)


【課題】高い周波数精度を有するMEMS振動子を提供する。
【解決手段】本発明に係るMEMS振動子100は、基板10と、基板10の上方に配置され、開口部22が形成された第1絶縁層20と、開口部22を覆って、第1絶縁層20の上方に配置された第2絶縁層30と、第2絶縁層30の上方に配置された第1電極40と、第1電極40との間に空隙を有した状態で配置され、基板10の厚み方向に静電力によって振動可能となる梁部52、梁部52の一端を支持し第2絶縁層30の上方に配置された第1支持部54、および梁部52の他端を支持し第2絶縁層30の上方に配置された第2支持部56を有する第2電極50と、を含み、基板10の厚み方向からの平面視において、開口部22の少なくとも一部は、第1支持部54と第2支持部56との間に配置されている。 (もっと読む)


【課題】高い信頼性を有する電子装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る電子装置100は、基板10と、基板10の上方に形成された機能素子20と、機能素子20が配置された空洞部1を画成する包囲壁40と、基板10の上方に形成され、機能素子20に接続された配線層30,32と、を含み、配線層30,32は、基板10と包囲壁40との間を通って、包囲壁40の外側まで延出され、包囲壁40は、窒化シリコン層42と、金属層およびシリコン層の少なくとも1層である導電層と、を有し、配線層30,32と導電層44との間には、窒化シリコン層42が配置されている。 (もっと読む)


【課題】製造における可動部の形状ばらつきを従来よりも小さくして、可動部の回動時の慣性モーメントを低減することができるアクチュエーター、光スキャナーおよび画像形成装置を提供すること。
【解決手段】光スキャナー1は、光反射性を有する光反射部211と、光反射部211を備え、かつ所定の回動中心軸まわりに回動可能な板状の可動部21と、可動部21に連結し、かつ前記可動部21の回動に伴って捩り変形する連結部23、24と、連結部23、24を支持する支持部22と、を有し、可動部21は、可動部21の板厚方向からの平面視にて四角形の四隅の部分をそれぞれ矩形に欠いた形状(十字状)をなし、連結部23、24の回動中心軸に垂直な断面は、可動部21の第1の面から前記第1の面に対向する第2の面側に向けて幅が漸増する形状をなす。 (もっと読む)


【課題】機械構造及びこれらの機械構造を基板に固定するためのアンカーを含むMEMS装置及びその製造技術を提供する。
【解決手段】アンカー30a、30b、30cは、機械構造20a、20b、20cの解放プロセスによる影響を比較的受け難い材料で形成される。エッチング解放プロセスは、機械構造20a、20b、20cをアンカー30a、30b、30cを構成する材料に固定する材料に対し、選択的又は優先的である。更に、アンカー30a、30b、30cは、絶縁層の除去が機械構造20a、20b、20cの基板14に対する固定にほとんど又は全く影響を及ぼさないように基板14に固定される。 (もっと読む)


【課題】可動基板をエッチングする際の深さ寸法のばらつきを抑制し、保持部の厚み寸法の精度を向上できる干渉フィルターの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の干渉フィルターの製造方法は、固定基板と、可動部521および保持部522を備えた可動基板52と、固定反射膜と、可動反射膜57と、を備える干渉フィルターの製造方法であって、固定基板を製造する固定基板製造工程と、可動基板52を製造する可動基板製造工程と、固定基板と可動基板52とを接合する基板接合工程と、を備え、前記可動基板製造工程は、第一母材524Aおよび第二母材525Aを、プラズマ重合膜526Cを介して接合させる母材接合工程と、プラズマ重合膜526Cをエッチングストッパーとして、第二母材525Aをエッチングして、保持部522を形成する保持部形成工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】 特に、安定して高精細の流路部を形成することが可能な流路デバイスの製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】 本発明の流路デバイスの製造方法は、第1基材1の基材表面に流路の形状パターンからなるマスク層3を形成する工程、前記基材表面から前記マスク層の表面にかけて第2基材2を接合する工程、前記第1基材あるいは前記第2基材の少なくとも一方に前記マスク層3にまで貫通する貫通孔4を形成する工程、前記貫通孔4から前記マスク層3を除去して前記流路を形成する工程、
を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】強誘電体膜の結晶性および性能の向上を図れ、且つ、デバイス特性のより一層の向上を図れる強誘電体デバイスを提供する。
【解決手段】強誘電体デバイスは、シリコン基板10の上記一表面側に形成された下部電極14aと、下部電極14aにおける第1の基板10側とは反対側に形成された強誘電体膜14bと、強誘電体膜14bにおける下部電極14a側とは反対側に形成された上部電極14cとを備え、強誘電体膜14bが、シリコンとは格子定数差のある強誘電体材料により形成されている。下部電極14aの直下に、シリコンに比べて強誘電体膜14bとの格子整合性の良い材料からなる緩衝層14dが設けられ、第1の基板10に、緩衝層14dにおける下部電極14a側とは反対の表面を露出させる空洞10aが形成されている。 (もっと読む)


【課題】第1の貫通口と連通する複数の第2の貫通口が形状精度よく形成された構造体を歩留まりよく得ることが可能なシリコン基板の加工方法を提供する。
【解決手段】第1のシリコン基板102と、第2のシリコン基板101と、第1のシリコン基板102と、第2のシリコン基板101との間に設けられ、複数の凹部109が設けられた中間層103と、の組を用意し、第1のシリコン基板102の中間層103との接合面の裏の面側から、第1のマスクを使用して第1のシリコン基板102をエッチングして第1の貫通口107を形成し、中間層103の複数の凹部109に対応する部分を露出させ、凹部109の底部部分を除去して中間層に複数の開口を形成し、開口が形成された中間層をマスクとして第2のシリコン基板101に第2のエッチングを行うことにより第2の貫通口108を形成する。 (もっと読む)


【課題】電力コストの低い電気機械装置を提供すること。
【解決手段】本発明の電気機械装置はメカニカルスイッチを含む。メカニカルスイッチは第1及び第2の安定湾曲状態を持つバイレイヤーを含む。第1の状態から第2の状態へのバイレイヤーの変形によってスイッチが閉じる。 (もっと読む)


【課題】最適駆動式圧電メンブレンの製造方法を提供する。
【解決手段】上部電極フィルムEtopと下部電極フィルムEbotの間に置かれた圧電材料フィルム30と、該圧電フィルムを担持する弾性フィルム20とを含む薄膜多層を基板10の上に構成するメンブレンの製造方法であって、少なくとも1つの変曲点が画定されるような形でフィルムの平面に対し平行な軸に沿って前記メンブレンの少なくとも1つの凹面/凸面曲率を決定することで、凹状部分と凸状部分またはその逆に対応する第1の領域と第2の領域を画定するステップと、圧電材料フィルムと、下部電極フィルムと上部電極フィルムとを含む薄膜多層を基板表面上に被着させるステップと、フィルム面に対して垂直な電場を内部に印加する第1のメンブレン領域と、フィルムの平面に対して平行な電場を印加する第2の領域とを画定するように電極フィルムのうちの少なくとも一方を構造化するステップとを含む。 (もっと読む)


本発明は、無機エレクトレットベースの電気機械デバイスおよびその作成方法に関する。前記デバイスは、少なくとも1つのエレクトレット層2Eを含む誘電性積層、および誘電性積層の2つの反対面18、22上の2つの電極16、20を含む。エレクトレットは、無機エレクトレットであり、また、電気機械結合を形成する恒久的な電荷を含む。エレクトレット層の厚さは、数ナノメートルから数十マイクロメートルまで選択することができるが、略1μm未満または略1μmに等しいことが好ましい。本デバイスは、特に遠隔通信の分野に使用される。
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微小電気機械システム(MEMS)(10)を形成する方法は、キャップ基板(52)を提供するステップと、支持基板(12)を提供するステップと、支持基板上に導電材料(22)を堆積させるステップと、導電材料のパターニングを行ってギャップ停止部(40,44)と接点とを形成するステップとを含む。ギャップ停止部は、開口(36,38)によって接点から分離され、接点上で且つ開口中の結合材料(58)を形成する。ギャップ停止部と接点とは、結合材料を形成するステップによって、結合材料が開口から外側に延びてキャップ基板が支持基板に取り付けられるのを防止する。さらに、その構造が記述される。
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【課題】簡単な構造のマイクロバルブを提供する。
【解決手段】溝3が形成された主基板1にカバー基板13が貼り合わされて流路が形成される。主基板1は第1主基板層1a、第2主基板層1b、第3主基板層1cの積層構造をもつ。溝3に形成された弁体5は、第1主基板層1aと同じ材料からなり、溝3の第1側壁3aから突出し、第1側壁3aに対向する第2側壁3bとは間隔をもって形成され、流路内を流れる流体圧力で変形可能な膜厚をもつ。溝3の底面3cと弁体5との間に第2主基板層1bが除去されて形成された空隙7が形成されている。弁体5の下流側の流体圧力が弁体5の上流側の流体圧力よりも大きい状態とき、弁体5の自由端は第2側壁3bに設けられた突起部9に当接して移動量が規制される。それとは逆の流体圧力状態のとき、弁体5の自由端は第2側壁3bから離れる方向に移動し、弁体5の自由端が突起部9に当接した状態に比べて流路が開く。 (もっと読む)


安定的かつ音響的感度が高いマイクロフォン構造体を有する素子と、このようなマイクロフォン構造体を有する素子を簡単かつ低コストで製造する方法とを提供する。このマイクロフォン素子は、音響的に動作するダイヤフラム(11)と、音響透過性であり固定された対向エレメント(12)とを有する。前記ダイヤフラムは、マイクロフォンコンデンサの変位可能な電極として機能し、前記対向エレメントは、該マイクロフォンコンデンサの対向電極として機能する。さらに前記マイクロフォン構造体は、前記マイクロフォンコンデンサの容量変化を検出および評価するための手段を有する。前記ダイヤフラム(11)は、前記素子の半導体基板(1)上のダイヤフラム層(3)で実現され、該半導体基板の裏面に設けられた音響空洞(13)上に架かるように形成されている。前記対向エレメント(12)は、前記ダイヤフラム(11)上の別の層(5)で実現されている。本発明では、前記別の層(5)が実質的に素子面全体にわたって延在し、該別の層(5)に応じて素子表面が十分に平坦になるように該別の層(5)は高低差を補償する。このことにより、ウェハ結合体において露出されたマイクロフォン構造体の層構成体上に膜を設けることができ、この膜により、本発明の複数の素子の分離を標準的なソーイング法で行うことができる。
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【課題】可動部とストッパとの間のギャップを精度良く確実に設定でき製造歩留まりが高いMEMSを提供する。
【解決手段】支持部と、前記支持部に対して相対的に運動する可動部と、を有するダイと、前記可動部の運動範囲を制限する位置において前記可動部に対向するストッパと、前記可動部の運動範囲が制限される方向において前記ストッパと前記支持部とに挟まれている樹脂であって封止樹脂よりも硬質の硬質樹脂からなるスペーサと、前記スペーサより前記可動部とは反対側において前記支持部と前記ストッパとを結合している接着層と、を備え、前記スペーサは前記接着層と前記可動部との間において前記接着層と前記可動部との間を遮る方向に延びている、MEMS。 (もっと読む)


【課題】MEMSセンサの錘部の厚さを均一化する。
【解決手段】支持部と、一端が前記支持部と結合し可撓性を有する可撓部と、前記可撓部の他端に結合している連結部と、前記可撓部の変形を検出する検出部とを備える積層構造体を形成し、前記連結部の底面に結合する錘部となる領域に外接する環状溝を前記積層構造体とは別体のウエハの上面に異方性エッチングにより形成し、前記ウエハの上面に前記環状溝を埋める犠牲膜を形成し、前記ウエハの上面が露出するまで前記犠牲膜の表層を除去し、前記ウエハの前記犠牲膜で埋められた前記環状溝の内側領域を前記連結部の底面に接合し、少なくとも前記犠牲膜が露出するまで前記ウエハの底面を後退させることによって前記錘部の厚さを調整し、前記連結部に接合された前記ウエハから前記犠牲膜を除去する、ことを含むMEMSセンサの製造方法。 (もっと読む)


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