【課題】有機ＥＬ素子の発光層が不均一な膜厚で形成されることを防止し、装置全体で均一な発光輝度を実現できる表示装置および表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体素子（２１，２２）および有機ＥＬ素子２４が設けられるとともに、電源に接続される金属基板３０１と、半導体素子（２１，２２）および有機ＥＬ素子２４と、金属基板３０１との間に設けられ、コンタクトホール４ａが形成された層間絶縁膜３と、コンタクトホール４ａ内に形成され、ソース電極８ａ，８ｄ、ドレイン電極８ｂ，８ｃおよび有機ＥＬ素子２４のアノード電極１２のうちの少なくともいずれか一つと、金属基板３０１とを電気的に接続するコンタクト内配線４と、を備えた。 （もっと読む）

ビーム放射装置を開示する。当該ビーム放射装置は基板（１０）と、当該基板（１０）上の少なくとも１つの有機機能層（１００）と、当該少なくとも１つの有機機能層（１００）上の第２の電極（８０）を有している。基板（１０）はプラスチック薄膜（１）と金属フィルム（３）を含んでおり、当該金属フィルム（３）は前記プラスチック薄膜（１）と前記少なくとも１つの有機機能層（１００）との間に配置されており、第１の電極として構成されている。さらに、このような装置を製造する方法を開示する。
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タイル型ディスプレイが、放射画像エリアを設けるように位置合わせされる複数のディスプレイタイルを備え、ディスプレイタイルはそれぞれ、放射画像エリアでピクセルグループ内に配置される複数の発光ピクセルと、複数の順次に配置されるピクセル駆動回路であって、ピクセルの光放射を制御するために特定のピクセルグループに電気的に接続される、ピクセル駆動回路と、各ピクセル駆動回路の動作を制御するためのデータを与える、１つ又は複数の信号通信線とを備え、各ピクセル駆動回路は、ピクセル駆動回路の対応するピクセルグループの光放射を制御し、次の順次ピクセル駆動回路に情報を与えて、そのような次の順次ピクセル駆動回路に、次の順次ピクセル駆動回路の対応するデータに応答させて、次の順次ピクセル駆動回路の発光ピクセルグループの動作を制御させると共に、所定の数のピクセル駆動回路が所望の光放射を引き起こすまで、この動作を繰り返す。
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有機電子構成部材を製造する方法であって、当該方法は以下のステップを有している：すなわち、Ａ）以下の部分ステップによって少なくとも１つの機能的積層体（１０）を製造する：Ａ１）柔軟な第１の基板（１）を提供する、Ａ２）少なくとも１つの有機層（２）を当該第１の基板（１）上に、バンド積層設備（９０）を用いて大面積で被着する、Ａ３）前記少なくとも１つの有機層（２）を有する第１の基板（１）を複数の機能的積層体（１０）に個別化する、Ｂ）前記第１の基板（１）よりも、低い柔軟性と、湿気および酸素に対する高い密閉性を有する第２の基板（５）を提供する、Ｃ）当該第２の基板（５）上に、前記有機層（２）と反対側にある前記第１基板（１）の表面（１１）でもって、前記複数の機能的積層体（１０）のうちの少なくとも１つを被着する。
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【課題】
上部透明電極の配線抵抗を低くして、配線抵抗による消費電力の低減が可能な有機発光装置を提供する。
【解決手段】
有機発光装置は、下部反射電極４，正孔輸送層７，白色発光層８，電子輸送層９，電子注入層１０及び上部透明電極１１を有する有機発光素子が、金属基板２上に配置されている。上部透明電極１１は、コンタクトホール１２の接続電極５を介して金属基板２に電気的に接続されている。これにより、上部透明電極１１による配線抵抗が低くなり、消費電力が低減される。 （もっと読む）

【課題】半導体ナノ粒子を埋め込んだＳｉ絶縁膜を有するＥＬ素子を製造する方法を、高品質かつ信頼性の高い提供する。
【解決手段】本発明に係る半導体ナノ粒子を埋め込んだＳｉ絶縁膜を有するＥＬ素子を製造する製造方法は、下部電極を準備し、準備した下部電極を被覆するように、ＮおよびＣからなる群より選択される元素を含む半導体ナノ粒子を埋め込んだＳｉ絶縁膜を堆積する。次いでアニール処理することにより、半導体ナノ粒子を埋め込んだＳｉ絶縁膜は、波長６３２ｎｍでの０．０１〜１．０の範囲の減衰係数（ｋ）、３ＭＶ／ｃｍより小さい電場としたときに１Ａ／ｃｍ^２よりも大きい電流密度を示す。他の態様では、半導体ナノ粒子を埋め込んだＳｉ絶縁膜は、波長６３２ｎｍでの１．８〜３．０の範囲の屈折率（ｎ）、３ＭＶ／ｃｍより小さい電場としたときに１Ａ／ｃｍ^２よりも大きい電流密度を示す。 （もっと読む）

【課題】導電性が低く静電気を帯びやすいガラス板を使用した場合、パーティクル等の異物により、有機ＥＬ素子の寿命が低下する等の虞があった。
【解決手段】本発明に係るガスバリア性フィルム状基材は、有機エレクトロルミネッセンス素子の封止に用いられるガスバリア性フィルム状基材であって、厚さが３０μｍ以上３００μｍ以下のガラス基材と、前記基材の少なくとも一方の面に形成された導電膜層と、前記導電膜層上に形成された樹脂層とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大面積化が可能で、放熱性、絶縁性に優れるフラットパネルディスプレイ用の紫外ＥＬ発光素子に使用される基板を提供する。
【解決手段】単結晶状のＡｌ板の表面に、厚さ５〜８０nmの配向性に優れた結晶質のＡｌＮ層を設ける。
このＡｌＮ層としては、酸化物層を介することなくＡｌ板上に直接形成されていることが、さらには、Ａｌ板表面の酸化物除去後に、気相法で形成されたものが好ましい。
導電性を有する単結晶状Ａｌ板を基材としているため透明導電膜を形成する必要はなく、また、Ａｌ板の表面に形成したＡｌＮ層は絶縁耐圧性に優れるばかりでなく、放熱性にも優れる。
したがって、性能に優れたＥＬ発光素子用基板が安価に提供できる。 （もっと読む）

【課題】 柔軟性を保ちつつ、強い力による曲げ変形に対する機械的耐久性が高められた表示装置を提供する。
【解決手段】 支持基板（１）と透明な表示基板（６）とを有するフレキシブルディスプレイ（２０）、および前記フレキシブルディスプレイの外側に設けられたダイラタント流体収容部材（１２）を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、内面及び外面を持つ可撓性基板１０３、並びに前記可撓性基板１０３の前記内面に配設される発光ダイオード１０１を有する発光ダイオード構成と、前記発光ダイオード構成を少なくとも部分的にはさむように、前記可撓性基板１０３の前記外面及び前記発光ダイオード１０１の表面を少なくとも部分的に覆う成形素子１０５、１０７であって、前記発光ダイオード構成の形状を決定するよう形成される成形素子１０５、１０７とを有する発光ダイオード装置に関する。
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【課題】 有機発光素子間のつぎ目による明暗の発生を改善した有機発光装置及び有機発光装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明による有機発光装置１０は、基板１上に陽極２及び陰極４に挟まれた有機発光層３が配置され、陽極２及び陰極４と共に有機発光層３を封止板７で封止した、複数の有機発光素子１１と、有機発光素子１１を固定するための取付け孔９を有する支持基板８とを備え、有機発光素子１１は、折曲した端部１１ａを複数有しており、かつ有機発光層３が折曲した端部１１ａの領域に延伸して配置されており、有機発光素子１１の折曲した端部１１ａを取付け孔９に挿入して、互いに隣接して配置される。 （もっと読む）

【課題】 有機発光装置が備える有機発光素子の特性の経時的な劣化を抑制または防止することができる有機発光装置、および、かかる有機発光装置を備える電子機器を提供することにある。
【解決手段】有機ＥＬ装置１は、基板２と、基板２上に設けられた有機ＥＬ素子５と、有機ＥＬ素子５を封止する封止部材４と、基板２と封止部材４とを接合する接合膜３とを有し、接合膜３は、金属原子と、該金属原子と結合する酸素原子と、前記金属原子および前記酸素原子の少なくとも一方に結合する脱離基とを含み、この接合膜３は、その少なくとも一部の領域にエネルギーを付与することにより、接合膜の表面付近に存在する前記脱離基が、前記金属原子および前記酸素原子の少なくとも一方から脱離し、前記接合膜の表面の前記領域に発現する接着性によって、封止部材４と基板２とを接合している。 （もっと読む）

電気的閉ループ構造を有する抵抗加熱素子を備えている、フリットシールされた装置、およびこの加熱素子を用いて装置をフリットシーリングするプロセスである。この素子は、アンバー（登録商標）および／またはコバール（登録商標）などの金属で有利に作製することができる。本発明は、シール内の残留応力が低減された気密性のフリットシーリングを可能とする。本発明は、特にＯＬＥＤディスプレイ装置の気密シーリングに有利である。
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好適には閉ループ構造を有しているスペーサユニットと抵抗加熱素子とを備えている、気密シールされた装置、および、この加熱素子とスペーサユニットとを用いて装置を気密シーリングするプロセスである。フリットは、クラックの伝搬を防ぐために、複数の閉ループを形成してもよい。加熱素子は、アンバー（登録商標）および／またはコバール（登録商標）などの金属で有利に作製することができる。本発明は、大型ディスプレイのシール内の残留応力が低減された気密性のフリットシーリングを可能とする。本発明は、例えば１０インチ（２５ｃｍ）超の大型のＯＬＥＤディスプレイ装置の気密シーリングに特に有利である。
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【課題】ディスプレイ製造工程においては薬品処理や高温処理に耐え、かつ製造後には高いガスバリア性を有し、最終製品にはシリコーン樹脂層が残らないようにし、薄い、軽い、ベンダブル、フレキシブルなどの特徴を有するディスプレイを製造するに適したディスプレイ基板用部材を提供する。
【解決手段】厚さ１０μｍ以上７５μｍ以下のガラス板、厚さ１μｍ以上５００μｍ以下のシリコーン樹脂層、支持体がこの順に積層され、支持体が金属シートまたはプラスチックシートであるディスプレイ基板用部材。 （もっと読む）

【課題】高輝度化を図ることが可能なトップエミッション型の有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】基板１と、基板１に支持された有機層３と、有機層３を挟んで基板１とは反対側に位置する透明電極層４と、を備える有機ＥＬ素子Ａ１であって、基板１は、金属または熱伝導率が１０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上である半導体からなる。 （もっと読む）

本発明は、主要面（１１）上に複合電極（２）を支持している基材（１）であって、当該複合電極が、金属及び／又は金属酸化物をベースとする導電性材料のストランドで構成される層である導電性ネットワーク（２１）を含むとともに、５５０ｎｍで少なくとも６０％の光透過率を有し、ネットワークのストランド間の間隙にはいわゆる導電性充填材料が充填されている基材に関する。複合電極はまた、導電性ネットワークを被覆しかつストランドに電気的に接続されていて充填用材料とは別のものでもそうでなくてもよい導電性コーティング（２２）をも含み、このコーティングは４０ｎｍ以上の厚み及び１０⁵Ω・ｃｍより低くしかもネットワークの抵抗率よりも高い抵抗率ｐｉを有する。このコーティングは電極の平滑な外表面を形成する。複合電極はまた、１０Ω／□以下の表面抵抗をも含む。本発明は、複合電極の製造及び前記電極を含む有機エレクトロルミネッセントデバイス（１００）にも関する。
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本発明は、主要面（１１）上に複合電極（２）を支持している基材（１）であって、当該複合電極が、金属及び／又は金属酸化物をベースとする導電性材料のストランドで構成される導電性ネットワーク（２１）を含むとともに、５５０ｎｍで少なくとも６０％の光透過率を有し、ネットワークのストランド間の間隙にはいわゆる絶縁性充填材料が充填されている基材に関する。複合電極はまた、導電性ネットワークを被覆しかつストランドに電気的に接続されている導電性コーティング（２２）をも含み、このコーティングは４０ｎｍ以上の厚み及び１０５Ω・ｃｍより低くしかもネットワークの抵抗率よりも高い抵抗率ｐｉを有する。このコーティングは電極の平滑な外表面を形成する。複合電極はまた、１０Ω／□以下の表面抵抗をも含む。本発明は、複合電極の製造及び前記電極を含む有機エレクトロルミネッセントデバイス（１００）にも関する。
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【課題】簡素な構造で放熱性に優れ、かつ短絡による発光不良を生じにくい有機ＥＬ装置および該有機ＥＬ装置を簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】支持基板１０と封止基板３０と有機エレクトロルミネッセンス素子２０とを備える有機エレクトロルミネッセンス装置１Ａであって、前記有機エレクトロルミネッセンス素子が、前記支持基板上に搭載されていると共に前記支持基板と前記封止基板の間に囲繞されており、前記支持基板または前記封止基板のいずれか一方は、２Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導度を有する材料で形成され、かつ、前記熱伝導度を有する材料で形成された前記支持基板および／または前記封止基板の一面であって前記装置の外装を構成する面の表面粗さ（Ｒａ値）が１０ｎｍ以上、１ｍｍ以下であり、前記熱伝導度を有する材料で形成された基板と前記有機エレクトロルミネッセンス素子との間に絶縁層４０が介在する、有機ＥＬ装置。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬパネルへの振動アクチュエータの確実な取り付けを図ることができ、また、音振動の特性の向上を図ることができる有機ＥＬパネルスピーカを提供すること。
【解決手段】 有機エレクトロルミネッセンスパネル３と振動アクチュエータ４１とを有し、有機エレクトロルミネッセンスパネル３の一部を構成する基板８に対して振動アクチュエータ４１を取り付けた有機エレクトロルミネッセンスパネルスピーカ１。 （もっと読む）