【課題】有機膜の剥がれの発生を抑え、表示不良の少ない画像表示装置を提供する。
【解決手段】基板１と、基板１上に形成される第１有機膜２と、第１有機層２上に形成される共通電極層３と、共通電極層上に形成される第２有機膜４と、を備え、基板１は、複数の画素からなる表示領域及び該表示領域周囲の外周領域からなり、第１有機膜２、共通電極層３、及び第２有機膜４は表示領域と外周領域の境界を跨ぐように形成されている。外周領域に位置する共通電極層３に貫通穴９が設け、貫通穴９を介して第１有機膜２と第２有機膜４とを接続する。 （もっと読む）

【課題】光透過性が高く、且つ、表面抵抗率が低く、さらに可撓性に優れた電極部を有する自発光表示装置を提供する。
【解決手段】支持体１２と、該支持体１２上に設けられ、且つ、導電性金属からなる細線構造部１４と透光性の導電膜１６とを有する第１電極部２２と、該第１電極部２２上に積層された発光層２６を有する表示部２４とを備えた自発光表示装置２０であって、第１電極部２２の細線構造部１４の体積抵抗が１０^-4オーム・ｃｍ以下及び／又は表面抵抗が１００オーム／ｓｑ以下であり、導電膜１６の体積抵抗が０．０５オーム・ｃｍ以上及び／又は表面抵抗が１００オーム／ｓｑ以上であり、屈曲試験を行う前の第１電極部２２の表面抵抗をＲ１、屈曲試験を行った後の第１電極部２２の表面抵抗をＲ２としたとき、Ｒ２／Ｒ１＜１８を満足する。 （もっと読む）

本発明は押印プロセスを用いてパターン層を基板上に形成するための方法に関する。本方法によれば、第1の層が基板に供され、凹部のパターンが、パターニング手段を伴った層を押印することによって、第1の層に供される。この後、第1の層が硬化される。硬化の後に、第1の層を親水性にするために、第1の層上へ第1の表面処理を実施するステップと、この後、サブエリアを疎水性にするために、第1の層の表面の選択されたサブエリア上へ第2の表面処理を実施するステップと、が続く。サブエリアは凹部間の表面部分を含み、凹部そのものは含まない。最後に、導電性のパターン材が凹部に蒸着される。
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【課題】本発明の目的は、配線の低抵抗化を図ることのできる、特に、複数層からなる陽極補助配線の製造方法を提供することにある。
【解決手段】有機ＥＬ素子の陽極配線と接続するように陽極補助配線を形成するにあたり、基板上に第１の陽極補助配線を形成する工程Ａ、第１の保護層を形成する工程Ｂ、第２の陽極補助配線を形成する工程Ｃ、第２の保護層を形成する工程Ｄ、およびバリアメタルを形成する工程Ｅを含む、陽極補助配線の製造方法。 （もっと読む）

【課題】積層構造体上の上部電極の部分と補助配線上の上部電極の部分とを結ぶ上部電極の部分の変質を確実に防止することができる有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ表示装置は、（Ａ）下部電極２１、（Ｂ）開口部２６を有し、開口部２６の底部に下部電極が露出した絶縁層２４、（Ｃ）補助配線２５、（Ｄ）開口部２６の底部に露出した下部電極２１の部分の上から、開口部２６を取り囲む絶縁層２４の部分２４’に亙り設けられ、有機発光材料から成る発光層を備えた積層構造体２３、及び、（Ｅ）上部電極２２を具備した有機ＥＬ素子を複数有しており、積層構造体２３は、補助配線２５と接する部分２３’を有しており、絶縁層２４及び補助配線２５は、複数の有機ＥＬ素子において共通して設けられており、上部電極２２は、複数の有機ＥＬ素子を構成する積層構造体２３及び補助配線２５の全面を覆っている。 （もっと読む）

【課題】基板を通じて光を放出する構造を持ち画素内の電圧降下を抑制することが可能な有機ＥＬ装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ装置は、透光性を有する基板１０と、基板１０上に形成された有機ＥＬ素子１２とを備える。有機ＥＬ素子１２は、透光性を有する画素電極１６と、この画素電極１６に対向する対向電極２０と、それらの間に配置された発光機能層１８を有し、有機ＥＬ素子１２内の領域において、画素電極１６には部分的に線状の導体１５が接触しており、線状の導体１５は画素電極１６よりも抵抗率が小さい材料から形成されている。有機ＥＬ素子１２内つまり画素内の領域において、導体１５が画素電極１６に接触しているために、画素内つまり有機ＥＬ素子１２内の電圧降下を抑制することが可能である。 （もっと読む）

【課題】電圧降下を抑えること。
【解決手段】ＥＬディスプレイパネル１は、絶縁基板２と、絶縁基板２上にマトリクス状に配列された駆動トランジスタ２３と、駆動トランジスタ２３のゲート２３ｇとともにパターニングされ、互いに平行となるよう配列された信号線Ｙ₁〜Ｙ_nと、信号線Ｙ₁〜Ｙ_n及び駆動トランジスタ２３を被覆した保護絶縁膜３２と、駆動トランジスタ２３それぞれのドレイン２３ｄに導通した画素電極２０ａと、画素電極２０ａそれぞれに成膜された有機ＥＬ層２０ｂと、有機ＥＬ層２０ｂを被覆した対向電極２０ｃと、隣り合う画素電極２０ａの間で信号線Ｙ₁〜Ｙ_nと平行となるよう保護絶縁膜３２上に形成され、保護絶縁膜３２に形成されたコンタクトホール５３を介して駆動トランジスタ２３のソース２３ｓに導通した給電配線９０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 高反射率と配線の低抵抗化を実現可能な電極構造とした表示装置を提供する。
【解決手段】 基板上に、複数のアクティブ素子と、複数のアクティブ素子を覆う第１絶縁膜と、前記第１絶縁膜上画素毎に分離した状態で配置された導電膜と、前記導電膜の上層に配置された発光層と、前記発光層の上層に配置された共通電極と、を備えた表示装置であって、
前記導電膜は、第1導電膜、第２導電膜、第３導電膜の積層膜を備え、
前記第１導電膜はITO又はクロムを含む材料で構成され、前記第1導電膜は前記第２導電膜よりも前記基板近くに配置し、前記第２導電膜は表面にアルミナを備えたAlを含む材料で構成され、前記第２導電膜は前記第１導電膜の外縁を覆い、前記第３導電膜はITOを含む材料で構成され、前記第３導電膜は前記第1導電膜及び前記第２導電膜よりも前記共通電極に近い層とし、前記第１導電膜と前記第３導電膜を接触させた構造とする。 （もっと読む）

【課題】有機層の補助電極上に形成された部分を真空雰囲気中でレーザ照射により除去することができる表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】真空雰囲気中で素子基板１０と対向基板６１とを突起構造１５を間にして重ね合わせることにより、重ね合わせ基板６２を形成する。次いで、素子基板１０と対向基板６１との間の空間Ｓを真空雰囲気に維持した状態で重ね合わせ基板６２を大気中に取り出す。続いて、重ね合わせ基板６２にレーザ光ＬＢを照射することにより有機層１６の補助電極１４上の部分を除去する。素子基板１０と対向基板６１との間の空間Ｓは真空雰囲気に維持されているので、大気中に取り出した重ね合わせ基板６２にレーザ光ＬＢを照射しても、有機層１６の補助電極１４上に形成された部分１６には真空雰囲気中でレーザ光ＬＢが照射される。 （もっと読む）

【課題】有機膜の発光層を陽極と陰極とで挟んで構成される発光装置において、発光層の形成を容易にする。
【解決手段】有機膜の発光層１０を陽極として機能する第１電極２０と陰極として機能する第２電極３０とで挟んで構成される発光装置であって、第１電極２０は、発光単位に形成され、第１電極２０同士の間に、第２電極３０と同極の第３電極４０を設け、発光層１０は、第１電極２０と第３電極４０とを覆うように連続して形成される。また、第１電極２０と第２電極３０との間に絶縁材を設ける。 （もっと読む）

【課題】有機層の補助電極上に形成された部分の完全な除去を促進し、表示品位を高めることができる表示装置の製造方法および表示装置を提供する。
【解決手段】第１の有機層１６Ａにレーザ光ＬＢを照射することにより、第１の有機層１６Ａと第２の有機層１６Ｂとの補助電極１４上に形成された部分を選択的に除去する。レーザ光ＬＢを照射すると第１の有機層１６Ａが昇華して、補助電極１４と第１の有機層１６Ａとの密着力が大きく低下し、第１の有機層１６Ａの除去と共に、第１の有機層１６Ａの上に形成された第２の有機層１６Ｂも一緒に除去される。第１の有機層１６Ａは、補助電極１４よりも低融点の材料により構成されていることが好ましく、また、昇華性材料、すなわち、レーザ光の照射により昇華する材料により構成されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】低い表面抵抗率及び面内均一性の高い電気的導通性を有し、表面上に接触される隣接層と高い密着性を有する透光性導電体を提供する。
【解決手段】透光性導電体１は、支持体３０上に、導電性ポリマーを含有する透光性導電層２０と、細線パターン状に設けられた金属導電部１０とを備えている。金属導電部１０の上面１０ｓと、透光性導電層２０の上面２０ｓとは、支持体３０から実質的に等距離にあり、透光性導電層２０の上面２０ｓが略平滑に形成されている。 （もっと読む）

【課題】光透過性が高く、且つ、表面抵抗率が低い可撓性に優れた透明導電性フイルムを提供する。
【解決手段】透明性の支持体１２と、該支持体１２上に設けられ、且つ、導電性金属からなる細線構造部１４及び透光性の導電膜１６とを有する。細線構造部１４は、その断面形状が略台形状となるように形成されている。細線構造部１４の側面と上面とのなす角θの好適な範囲は、θ＞１００度が好ましく、θ＞１２０度がさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】 電極、補助電極、有機ＥＬ層と、それらの周囲との、反射率の差や色合いの差に起因した不要な視認を防抑制ることができる、発光型の有機ＥＬ表示パネルを提供する。
【解決手段】 少なくとも透明な第１の支持体、第１の電極、有機ＥＬ層、第２の電極、第２の支持体を、この順に積層し、且つ、第１の電極と第２の電極との間に、発光領域を開口し、非発光領域を覆うように、区画された絶縁層を形成し、第１の支持体側を発光取り出し側（観察者側とも言う）とする、発光型有機ＥＬ表示パネルであって、前記第２の電極、補助電極、前記有機ＥＬ層の１以上と、それらの周囲との、反射率の差や色合いの差による視認を抑制するための、視認抑制層を配設している。 （もっと読む）

【課題】エッチング工程を使用せずに、低抵抗の埋め込み電極を形成し、低抵抗の埋め込み電極をＩＴＯ透明電極に接触させて、ＩＴＯ透明電極の配線抵抗を低減させるとともに、多層基板を通過する光を増大する機能を有する多層基板及び多層基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】第１基板と、第２基板と、埋め込み電極と、ＩＴＯ透明電極と、を有する多層基板において、埋め込み電極の材料を導電性材料とし、第２基板を第１基板の上に積層し、埋め込み電極を第２基板に表面を露出する状態で埋め込み、ＩＴＯ透明電極を埋め込み電極が埋め込まれた第２基板の上に積層し、埋め込み電極とＩＴＯ透明電極とを電気的に接触させる。 （もっと読む）

エレクトロルミネッセンス・デバイスであって、第1の電極および第2の電極と、その両者の間に形成されていて量子ドットを含む発光層を備えるELユニットと；導電性であって第2の電極の一部として形成されるか、第2の電極と電気的に接続されていて、少なくとも一部が発光領域内に位置する1つ以上の反射要素とを備えており、第1の電極と第2の電極が1つ以上の発光領域を規定していて；第2の電極の少なくとも一部は透明であって、ELユニットから発生した光が、このエレクトロルミネッセンス・デバイスで第2の電極により近い第1の側から見られることになるエレクトロルミネッセンス・デバイス。 （もっと読む）

【課題】 遮光層からなる視認抑制層を配設している発光型有機ＥＬ表示パネルに対して、更に、発光取り出し側（観察者側とも言う）に絵柄層をパネル全面に配設した発光型有機ＥＬ表示パネルであって、絵柄層が絵柄層より下層の色に影響され目立たなくなるという問題や、遮光層開口のエッジが目立つという問題を解決することができる、発光型の有機ＥＬ表示パネルを提供する。
【解決手段】 発光取り出し側に遮光層からなる視認抑制層を配設し、該視認抑制層の外側に、絵柄層をパネル全面に配設したもので、絵柄層が絵柄層より下層（第２の支持体側）の色に影響されないようにするための、半透過半反射層あるいは白色の拡散層からなる調整層を、視認抑制層を直接覆い絵柄層の下側に、あるいは、視認抑制層と絵柄層との間に、配設している。 （もっと読む）

【課題】ノズルの特性に応じた駆動信号を高精度に設定するのに適した駆動信号設定方法を提供すること。
【解決手段】所定条件の駆動信号の供給に係る吐出量に基づき、複数のノズルを複数のグループに分類するステップと、グループに係る吐出量の統計値に基づいて、各グループにそれぞれ対応する駆動信号の適正条件を算出するステップと、ノズル毎に、複数のグループにそれぞれ対応する適正条件の中から一を選択して設定するステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】素子電極と補助電極との接着状態を検査して、素子電極に対する補助電極の接続状態を高精度に判定することが可能な照明用有機ＥＬパネルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】照明用有機ＥＬパネル１は、ＥＬ発光層が積層して形成してある透明基板１１、透明基板１１の裏面の外周に導出された素子電極１２（プラスの電位が印加されるプラス素子電極１２ｐとマイナスの電位が印加されるマイナス素子電極１２ｍとで構成される。）、素子電極１２に接着して接続される補助電極１３（プラス素子電極１２ｐに接続されるプラス補助電極１３ｐ、マイナス素子電極１２ｍに接続されるマイナス補助電極１３ｍとで構成される。）、ＥＬ発光層を封止して保護する封止部１４を備える。補助電極１３は、素子電極１２に対する反対側の面から導電性接着剤１６を介して素子電極１２に接着される側の面にかけて貫通させて形成された複数の貫通孔１３ｈを有する。 （もっと読む）

【課題】挟持型の補助電極と素子電極との接続精度および信頼性を向上させた照明用有機ＥＬパネルを提供する。
【解決手段】照明用有機ＥＬパネル１は、ＥＬ発光層が積層してある透明基板１１、透明基板１１の裏面の外周に導出された素子電極１２、素子電極１２に当接して接続され外部から電力を供給する補助電極１３、ＥＬ発光層を封止して保護する封止部１４を備える。補助電極１３は、透明基板１１と平面状に接触する第１当接部１３ｆと、第１当接部１３ｆに対向して配置され素子電極１２と平面状に接触する第２当接部１３ｓと、第１当接部１３ｆおよび第２当接部１３ｓを連結して透明基板１１および素子電極１２を挟持する連結部１３ｂとを備える。第２当接部１３ｓは第１当接部１３ｆに対して分割された分割板部１３ｓｄで構成してある。連結部１３ｂは第２当接部１３ｓと連結する側に弾性を持たせた弾性曲部１３ｂｃを有する。 （もっと読む）