【課題】高効率、長寿命、高輝度であり、少ないプロセスで安価に提供することが可能な、有機ＥＬ素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板２と、基板２上にパターン化して形成された複数の第一電極４と、基板２上に形成され、且つ各第一電極４の側面を覆う隔壁６と、各第一電極４及び隔壁６上に形成された発光媒体層８と、基板２及び発光媒体層８上に形成された第二電極１０を備える有機ＥＬ素子１であって、発光媒体層８と第二電極１０との間において、隔壁６上にパターン化して形成された撥液層１２を備え、発光媒体層８は、各第一電極４上及び隔壁６上を覆うように形成されたキャリア注入層１４と、キャリア注入層１４上のうち各第一電極４上にパターン化して形成された有機発光層１６を含み、撥液層１２は、キャリア注入層１４と第二電極１０との間に形成されている。 （もっと読む）

【課題】ＥＬ膜、陰極の断線を防止する技術を提供することを課題とする。陰極と陽極に
挟まれた部分で、ＥＬ膜の膜厚が局所的に薄くなることを抑えることができ、ＥＬ膜に局
所的に電界が集中することを防ぐことができる。
【解決手段】陽極１００上に絶縁膜１０１を形成し、絶縁膜１０１上にＥＬ膜１０２、陰
極１０３を形成したＥＬ素子において、絶縁膜１０１の下端部、上端部を曲面形状とする
。また、絶縁膜１０１の中央部のテーパー角を３５°以上７０°以下とする。 （もっと読む）

【課題】トランジスタの作製工程を簡略化し、フォトマスクの枚数を従来よりも少なくするだけでなく、新たな工程を増やすことなく発光表示装置を作製することを目的とする。
【解決手段】トランジスタを構成する半導体層に真性または実質的に真性な高抵抗の酸化物半導体を使用することによって、個々のトランジスタに対して半導体層を島状に加工する工程を省くことができる。半導体層の上層に形成した絶縁層を開口する工程において該半導体層の不要な部分を同時にエッチングし、フォトリソグラフィ工程を削減する。 （もっと読む）

【課題】本発明では発光素子の下部に発生した凹凸が発光素子に悪影響を及ぼすことが無い表示装置の作製方法を提供することを課題とする。もしくは、透湿性の高い膜を通しての表示発光装置内部への水の侵入を工程数の大幅な増加なしに低減できる表示装置の作製方法を提供することを課題とする。もしくはその両方を同時に満たすことが可能な表示装置及びその作製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】上記課題を解決することが出来る本発明の表示装置は、基板上に形成された絶縁表面上に薄膜トランジスタと、発光素子とを有し、発光素子は第１の電極と第２の電極との間に発光積層体を挟んでなっており、第１の電極は薄膜トランジスタ上に形成された第１の絶縁膜上に形成され、第１の電極と絶縁膜との間には第１の電極に対応して平坦化膜が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】正孔輸送層及び有機発光層に代表される有機発光媒体層を、凸版印刷法を用いて基板上に形成した場合に、隔壁に起因して発生する塗工不良を解決し、均一な発光が可能な有機ＥＬ素子を得ること。
【解決手段】基板と、基板上の片面に設けた第一電極と、第一電極と同一面上の対応する位置に設けて長方形に画素を仕切り絶縁性を有する感光性樹脂よりなる隔壁と、隔壁に区画された画素領域内に凸版印刷法により形成した有機発光媒体層と、有機発光媒体層を被う第二電極と、を具備する有機ＥＬ素子であって、長方形に画素を仕切る二方向の隔壁の内、有機発光媒体層の印刷方向に平行な隔壁の高さが、それと垂直な方向の隔壁の高さより高く、有機発光媒体層が高い方の隔壁で仕切られるとともに低い方の隔壁を乗り越えてある。 （もっと読む）

【課題】画素内で発生する発光ムラや色度の変化を抑制することが可能な、有機ＥＬ素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板２と、基板２上に形成された第一電極４と、基板２上に形成され且つ第一電極４の周囲を囲む隔壁６と、隔壁６内で第一電極４上に形成された発光媒体層８と、隔壁６及び発光媒体層８上に形成された第二電極１０を備える有機ＥＬ素子１であって、発光媒体層８が、隔壁６から離れた部分ほど厚さが減少している有機発光層１４と、有機発光層１４上に形成され且つ発光媒体層８の厚さ方向から見た面積が有機発光層１４の面積よりも小さい電子注入層１６を含む。 （もっと読む）

【課題】低電流、低電圧駆動が可能で発光寿命を飛躍的に延ばすことができる有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板２の上部に形成された画素トランジスタ１１〜１３と、画素トランジスタ１１〜１３を被覆するとともに、画素トランジスタ１１〜１３の電極１２Ｓ、１３Ｓの一部を露出させるコンタクトホール３２ｂ、３２ｃが設けられた絶縁膜３２と、絶縁膜３２の上部に設けられるとともにコンタクトホール３２ｂ、３２ｃを介して画素トランジスタ１１〜１３の電極１２Ｓ、１３Ｓと接続される第一電極４１と、第一電極４１が露出するような開口８を有する隔壁６と、第一電極４１上に形成された少なくとも一層からなる有機ＥＬ層４３、４４と、隔壁６及び有機ＥＬ層４３、４４上に形成された第二電極４５、４６と、を備える発光パネル１０である。 （もっと読む）

【課題】発光装置を良好に封止すること。
【解決手段】複数のＥＬ素子８が配列されてなる発光領域Ｒが上面に設けられた基板１０と、その基板１０の上面側に対向した封止基板２２とをシール材１５で貼り合わせて、基板１０と封止基板２２の間に発光領域Ｒを封止したＥＬパネル１において、相対的に接着力が強い第二接着面１５２を封止基板２２側に向け、相対的に接着力が弱い第一接着面１５１を基板１０の上面側に向けたシール材１５で基板１０と封止基板２２を貼り合わせるようにした。 （もっと読む）

【課題】パネル毎に熱履歴の管理と、存在する異物とパッシベーション膜の被覆率を管理できる有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも透光性基材、第一電極層、有機発光媒体層、第二電極層、パッシベーション層からなる有機ＥＬ素子において、前記透光性基材上に隔壁状インジケータを有し、前記隔壁状インジケータ上には前記パッシベーション層のみ積層されていることを特徴とする有機ＥＬ素子としたもの。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子を複数積層した有機ＥＬ表示装置において、バンク層の表面に異物が付着した場合においても、第二電極と第三電極との短絡が起こらない有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】第一サブピクセルＰ１に、対向する第一電極２１と第二電極２２との間に挟持された発光層を含む第一有機化合物層３１を有し、第二サブピクセルに、対向する第一電極２１と第二電極２２との間に挟持された発光層を含む第二有機化合物層３２を有し、第一サブピクセルＰ１及び第二サブピクセルＰ２に共通に、対向する第二電極２２と第三電極２３との間に挟持された発光層を含む第三有機化合物層３３を有し、第一電極２１の端部はバンク層１３によって覆われ、バンク層１３の開口領域においてのみ、第二電極２２と第三電極２３とが対向している。 （もっと読む）

【課題】押圧力や歪みによる不良の発生を抑制して製造歩留まりや品質の向上を図ることができるとともに、良好な画質を実現することができる発光パネル及びその製造方法、発光装置、並びに、電子機器を提供する。
【解決手段】画素アレイ１１１に配列された隣接する画素ＰＩＸ間の隔壁２５上の互いに離間した位置に、素子基板１１側（隔壁２５）と対向基板１２側の双方に接着されて素子基板１１と対向基板１２とを接着する複数の接着層３１が設けられている。各接着層３１は、例えば光硬化性あるいは熱硬化性の樹脂材料により形成される。これにより、素子基板１１の一面側と対向基板１２の接着面側との間隙は、表示パネル１１０の素子基板１１と対向基板１２が対向する略全域において、素子基板１１の一面側に形成された画素アレイ１１１の上面に対向基板１２が接触しないように、所定の値で、かつ、略均一に設定される。 （もっと読む）

【課題】微細な画像を形成できる画像形成装置を提供する。
【解決手段】インクベタ膜形成部（３０）と、インクベタ膜形成部に形成されたインクベタ膜（３３）が転写され、インク画像（４３）が形成されるインク画像形成部（４０）と、インク画像が転写されるインク画像転写部（６０）と、を有し、インクベタ膜形成部は回転胴（３１）および回転胴の表面に形成されたベタ膜形成ブランケット（３２）を有し、インク画像形成部は転写胴（４１）および転写胴の表面に形成された画像形成ブランケット（４２）を有し、ベタ膜形成ブランケットの最表面は第一の表面ゴム（３２−１）で構成され、画像形成ブランケットの最表面は第二の表面ゴム（４２−１）で構成され、第二の表面ゴムの転写胴が存在しない側の表面には凹凸が形成され、第二の表面ゴムの表面エネルギーは第一の表面ゴムの表面エネルギーより大きい画像形成装置。 （もっと読む）

【課題】有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成された薄膜トランジスタの活性層と、活性層及び第１絶縁層上に形成され、第１透明導電層及び第１金属層を備えるゲート電極と、ゲート電極及び第２絶縁層上に形成され、第２絶縁層に形成されたコンタクトホールを通じて前記活性層に連結された第２金属層、第２金属層上に形成された第３金属層、及び第３金属層上に形成された第２透明導電層を備えるソース及びドレイン電極と、第１絶縁層上に形成され、第１透明導電層、第３金属層、及び第２透明導電層を備える画素電極と、画素電極上に配置され、有機発光層を備える中間層と、中間層を挟んで画素電極に対向して配置される対向電極と、を備える有機発光ディスプレイ装置である。 （もっと読む）

【課題】低コスト化を図りつつ表示画質を向上させることが可能な有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】隔壁１５が、濡れ性が異なる２種類以上の無機材料膜を有する積層構造からなるようにする。湿式法（塗付法）を用いて画素内に有機層（正孔注入層１６Ａ、正孔輸送層１６Ｂおよび発光層１６Ｃ）を形成する際に、撥液性膜１５Ｂ１，１５Ｂ２，１５Ｂ３によって、有機材料溶液の充填位置正確性が確保されると共に、隔壁１５の側面での濡れ上がりによる上部電極１７とのショート不良や画素間リーク等の発生が抑えられる。また、親液性膜１５Ａ１，１５Ａ２，１５Ａ３によって、乾燥過程において有機材料溶液がはじかれることが抑えられ、有機層における膜厚のばらつきが低減する。更に、このような積層構造からなる隔壁１５を、単一の工程にて連続的に形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出ヘッドを移動させつつ液滴を吐出する場合において、インク尾が目的該の領域に付着等する現象を低減して、信頼性等の向上した有機ＥＬ装置を得る。
【解決手段】基板１０上に、平面視で画素電極２９と該画素電極とＹ方向において隣り合う領域である非発光領域７の少なくとも一部を含めて囲むように隔壁８を形成する工程と、液滴吐出ヘッド４１と基板１０とをＹ方向に相対移動させつつ、隔壁８で囲まれた領域である機能層形成領域５に、発光機能層形成材料を含む機能液を吐出する工程と、を有する有機ＥＬ装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 インクジェット法等の塗布法による液状材料を用いた色層の形成に際し、簡易な工程で、液状材料中の成分が充填されない領域の発生を抑制でき、良好な表示品位が実現できる表示装置用基板及びその製造方法並びに表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 基板の主面上に、樹脂材料からなるバンクと、上記バンクによって囲まれた複数の絵素領域に配置された色層とを備えた表示装置用基板であって、上記色層は、液状材料から形成され、上記バンクは、上記液状材料中の成分を含有する含浸領域を備える表示装置用基板である。 （もっと読む）

【課題】開口率の向上に有利であると共に、優れた表示性能を有する表示装置を提供する。
【解決手段】この表示装置は、基体１１上に、第１電極層１３、発光層を含む有機層１４、および第２電極層１６が各々順に積層されてなり、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に配列された複数の有機発光素子１０と、Ｘ軸方向に隣り合う有機発光素子１０同士に挟まれた間隙領域ＶＺに配置され、２組以上の段差を形成する凹部２４Ｇを含む素子分離絶縁層２４とを備える。Ｘ軸方向に隣り合い、かつ、互いに異なる色光を発する有機発光素子１０における有機層１４同士および第２電極層１６同士は、凹部２４Ｇによって分断されている。 （もっと読む）

【課題】改良された有機電子デバイスおよびその製造技術を提供すること。
【解決手段】本発明は、有機電子デバイスの液滴堆積ベースの製造のための構造における液滴堆積ウェルの形成方法を提供する。前記方法は、基板上に親水性材料層を堆積させる工程、前記親水性材料層の上にバンク材料層を堆積させる工程、前記バンク材料層をパターニングして１または２以上の前記液滴堆積ウェルを形成するバンクを規定する工程、前記パターニングされたバンク材料層をレジストとして使用して自己整合プロセス中において前記親水性材料層をエッチングする工程を含む。 （もっと読む）

【課題】程数や製造コストの増大を招くことなく、各画素の周囲に配置される絶縁層と蒸着マスクとの接触面積を低減し、蒸着マスクから絶縁層への付着物の転写を防止できる有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】基板１０上に形成された第１の絶縁層１１と、第１の絶縁層１１の上にマトリクス状に配設された複数の第１の電極１３と、第１の電極１３の周囲において第１の絶縁層１１に形成され開口１５と、開口１５と重なる領域に配置された第２の絶縁層１２と、第１の電極１３を覆う有機化合物層と、有機化合物層の上に設けられる第２の電極と、を備え、開口１５の内部には第１の電極１３の形成材料が存在せず、第２の絶縁層１２の表面には、第１の絶縁層１１の開口１５を反映した凹部１７であって、基板面に対して垂直方向の凹部１７が形成される。 （もっと読む）

【課題】溶液を成膜することにより大気中で安定な電子注入層を形成可能な電子注入性材料の他の選択肢を提供し、該電子注入性材料を用いて、製造コストの低減が可能であって、製造プロセスにおける安定性を確保可能な、有機ＥＬディスプレイ装置の製造方法及び該製造方法により得られる有機ＥＬディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】本発明の製造方法は、各画素に対応する複数の陰極が形成された基板上に、電子注入性材料としてイオン性ポリマーを含む溶液を全画素に共通に塗布し、成膜することにより電子注入層を形成する工程と、前記電子注入層の表面に直接または他層を介して、画素パターンに対応した複数の発光層を形成する工程と、前記発光層あるいは発光層と他の層とが順次に形成された基板上に全画素に共通に陽極材料を成膜することにより陽極を形成する工程とを含む。 （もっと読む）