【課題】有機溶剤を含んだ二酸化炭素を超臨界状態の洗浄剤として、この洗浄剤を洗浄チャンバー内に配された被洗浄物に接触させることにより、前記被洗浄物の洗浄を行う洗浄方法及び洗浄装置において、洗浄時間の短縮化を図ること。
【解決手段】界面活性剤と有機溶剤と超臨界状態の二酸化炭素を混合し、混合流体を被洗浄物に接触させて洗浄する洗浄方法において、前記混合を管内混合手段で行い、該管内混合手段の直後に被洗浄物を配置するとともに、前記混合流体においての重量割合は、二酸化炭素に占める有機溶剤の重量割合を２０％以下とし、かつ界面活性剤の重量比率を有機溶剤と略同重量としたことを特徴とする洗浄方法及び洗浄装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】製品の汚染を防止し、さらに、気泡を残さずにラミネートを行う。
【解決手段】ラミネート装置１において、減圧チャンバ２と、その減圧チャンバ２内に設けられたヒータ台３と、減圧チャンバ２内であってヒータ台３の上方に設けられた押圧部材４とを備え、その押圧部材４は、ヒータ台３に向き合う弾性シート４ａと、その弾性シート４ａを区分して支持し、供給気体の圧力によりヒータ台３側に弾性シート４ａを膨張させる膨張室Ｒ１を区分毎に形成する支持枠４ｂとを具備している。 （もっと読む）

【課題】有機エレクトロルミネッセンス素子の製造工程途中において、基板上に発光層を形成した後、素子を劣化させずに欠陥を検出することが可能な製造装置を提供する。
【解決手段】透明電極と対向電極との間に有機エレクトロルミネッセンス層が介在されている有機エレクトロルミネッセンス素子からなる画素を複数備えた有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造装置であって、装置内を不活性ガスで満たし、酸素濃度を１００ｐｐｍ以下とする機構と、前記基板に７８０ｎｍ以下の可視光乃至紫外線光を照射する機構を有する機構と、前記基板に照射した光の透過光、反射光、散乱光、若しくは前記照射光により励起された有機エレクトロルミネッセンス層からの発光の光学像を観測し、有機エレクトロルミネッセンス層の欠陥を検出する機構を有する有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造装置とする。 （もっと読む）

【課題】結晶性の良好な半導体膜を成膜する。
【解決手段】処理室１０と、処理室１０の内部に互いに対向するように配置された第１電極２１及び第２電極２５とを備え、第１電極２１の第２電極２５側にはガス導入口２３を内部に有する凹部２２が設けられ、凹部２２は、ガス導入口２３から導入された原料ガスのプラズマ状態における電子密度を高めるように構成されたホロー放電部２２ｈと、ホロー放電部２２ｈで解離させた原料ガスの反応を促進させて処理室１０の内部に供給するためのバッファ部２２ｂとを有している。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ装置において、画素定義膜からのアウトガス量を減少させて、有機膜の劣化を防止する。
【解決手段】画素定義膜からのアウトガス量を減少させて、前記アウトガスによる発光部の劣化を防ぐことができるように前記画素定義膜上に少なくとも一つのバリア層を形成して、またレーザ熱転写法を用いた後工程をし易いようにするために厚さが十分薄い画素定義膜を備えるエレクトロルミネッセンスディスプレイ装置のために、基板と、前記基板上に備えられた複数の画素電極と、前記画素電極上に位置しながら前記各画素電極の所定部分を露出する開口部を備える画素定義膜と、前記画素定義膜の上部及び／または内部に位置する少なくとも一つのバリア層とを備えることを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高導電性と高透明性を併有する有機薄膜とその製造法、ならびにそれらを用いて製造される有機デバイスを提供する。
【解決手段】先ず、導電性高分子とこの導電性高分子材料の溶解性を高めるための絶縁性の高分子材料からなるドーパントとを溶媒に溶解し、導電性を高めるために1次粒子を分割して粒径の小さく揃った溶液を基板の表面に供給すると共に、当該基板を回転させ、前記基板の表面に１次コロイド粒子の単層又は数層からなる塗布膜を形成する。続いて前記基板を加熱して前記塗布膜中の溶媒を除去し、高導電性と高透明性を併有する有機薄膜を形成する。また前記溶液を基板の中心部に供給する前に、当該溶液に対して基板の漏れ性を高めるためにプリウエット液を基板の表面に塗布してもよい。 （もっと読む）

【課題】歩留まりの向上する有機発光素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による有機発光素子３０は、基板１と、基板１上に配置した有機発光層３と、有機発光層３を覆うように配置した樹脂膜６と、樹脂膜６上の周縁部に配置した下駄部６ｂと、樹脂膜６を介して有機発光層３を封止する封止板７とを備える。樹脂膜６は、軟化した状態で封止板７を押圧して有機発光層３と接着させ、下駄部６ｂの領域に、はみ出し部６ａを有し、はみ出し部６ａ以外の樹脂膜６の周縁部にへこみ部６ｋを有する。 （もっと読む）

【課題】エッジカバーや層間絶縁膜の内部に含まれている水分が経時に伴ってしみ出し、有機ＥＬ層や第２電極に損傷を与え、有機ＥＬ発光特性が低下することを抑制することを目的とする。
【解決手段】本発明の有機ＥＬ素子３０は、基板２０上に発光領域１１及びそれ以外の領域の少なくとも一部を含むように設けられた第１電極３１と、基板２０上の発光領域１１以外の領域における第１電極３１の周縁部を覆うように設けられたエッジカバー３２と、基板２０上の第１電極３１及びエッジカバー３２の上層における少なくとも発光領域１１を覆うように設けられた有機ＥＬ層３４と、有機ＥＬ層３４の上層における少なくとも発光領域１１を覆うように設けられた第２電極３５と、を備える。基板２０上の発光領域１１以外の領域において、エッジカバー３２よりも上層に捕水層３３が設けられている。 （もっと読む）

減圧乾燥方法が提供されている。この方法は：フィルム形成性材料および少なくとも１種の溶剤を含有する液体組成物をワークピース上に堆積させて湿潤層を形成するステップ；ワークピース上の湿潤層を、凝縮器を備える減圧チャンバに入れるステップ；および、湿潤層を、−２５〜８０℃の範囲内の制御温度、および、１０^-6〜１，０００Ｔｏｒｒの範囲内の適用された減圧下で、１〜１００分間の間処理するステップ；を含み、ここで、凝縮器は、溶剤が適用された減圧で液体として凝縮されることとなる温度で維持される。
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実質的に平坦なプロファイルを有する電気活性材料の層を形成する方法が提供されている。この方法は：少なくとも１つの活性領域を有するワークピースを提供するステップ；電気活性材料を含む液体組成物をワークピースにおける活性領域上に堆積させて、湿潤層を形成するステップ；ワークピース上の湿潤層を、−２５〜８０℃の範囲内の制御温度、および、１０^-6〜１，０００Ｔｏｒｒの範囲内の減圧下で、１〜１００分間の第１の期間の間処理して部分乾燥層を形成するステップ；部分乾燥層を、１〜５０分間の第２の期間の間１００℃を超える温度に加熱して乾燥層を形成するステップを含む。
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【課題】真空装置を用いることなく、容易に被転写基板に密着させ、ドナー基板と被転写基板との間の内部空間を減圧することが可能なドナー基板およびこれを用いた表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ドナー基板４０の基体４１に、被転写基板１１Ａとの対向面から反対側の面まで貫通孔４５を設ける。ドナー基板４０および被転写基板１１Ａを重ね合わせて、ステージ６０に載置する。吸着孔６２および内部通路６３を介して排気することにより、凹部６１内が減圧され、ドナー基板４０がステージ６０に吸着される。これと同時に、貫通孔４５を介して、ドナー基板４０と被転写基板１１Ａとの間の内部空間Ｓが減圧される。大気圧下で容易に内部空間Ｓを減圧してドナー基板４０と被転写基板１１Ａとを容易に密着させることが可能となり、被転写基板１１Ａを大型化した場合に極めて有利である。 （もっと読む）

【課題】真空中でドナー基板と被転写基板とを容易に分離することが可能な表示装置の製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】ドナー基板４０および被転写基板１１Ａを重ね合わせた状態で、ドナー基板４０の裏面の辺４０Ａ近傍に本体５１の曲面５１Ａの一端を当接させる。ドナー基板４０の裏面の上で本体５１を矢印Ｒ１方向に回動させることによりドナー基板４０の裏面を曲面５１Ａに巻きつけると共に、静電チャック５２により曲面５１Ａに密着させる。これにより、ドナー基板４０は、辺４０Ａから曲面に変形されると共に被転写基板１１Ａから剥離される。ドナー基板４０と被転写基板１１Ａとの剥離位置４０Ｃは、変形を開始した辺４０Ａから対辺４０Ｄに向かって移動する。剥離位置４０Ｃが対辺４０Ｄに到達すると、完全にドナー基板４０が被転写基板１１Ａから剥離される。 （もっと読む）

【課題】透明電極の仕事関数を向上させ、低消費電力化を達成でき、良好な表示特性が得られる積層型の有機ＥＬ表示装置を得る。
【解決手段】有機層１３と１５の間、有機層１５と１７の間に挟まれる透明電極１４、１６の陽極となる面に対して、１０Ｐａ〜１００００Ｐａの圧力下で、少なくとも酸素を含む気体を雰囲気中に導入しながら、紫外線照射処理を行う。 （もっと読む）

【課題】基体５８上に有機薄膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】基体５８上に有機薄膜を形成する方法であって、その方法は、複数の有機前駆物質（１４、４８）を気相で与え、前記複数の有機前駆物質（１４、４８）を大気圧未満で反応させる工程を有する。そのような方法により製造された薄膜及びそのような方法を実施するのに用いられる装置も含む。本方法は、有機発光デバイスの形成及び他のディスプレイ関連技術によく適している。 （もっと読む）

【課題】インクジェットプリンティング法に採用でき、機能材料として、非極性あるいは極性の弱い材料を使用でき、吐出時の目詰まりを防ぎ、安定な吐出を達成し、吐出中の内容物の析出、成膜時の相分離を防ぐ組成物、これを用いて形成された、均一、均質な機能膜及びその作製法並びに有機ＥＬ素子等の表示装置及びその製造方法である。
【解決手段】本発明の組成物は、１以上の置換基を有し、該置換基の炭素の総数が３以上のベンゼン誘導体の少なくとも１種を含む溶媒と、機能材料とからなる構成としたものである。本発明の機能膜は、上記組成物を用いて形成したものである。本発明の表示装置は、二つの電極間に、上記組成物を用いて形成した発光材料層を具備するものである。上記表示装置は、有機ＥＬ素子等である。 （もっと読む）

【課題】バリアー性および透明性に優れた有機素子の封止膜を備える有機電子デバイスを提供するとともに、該有機電子デバイスの製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】基板処理システムＳｙｓでは、蒸着装置ＰＭ１、マイクロ波プラズマ処理装置ＰＭ３を含む基板処理装置１０がクラスタ構造に配置され、基板Ｇの搬入から搬出までに基板Ｇが移動する空間を所望の減圧状態に保ちながら有機電子デバイスを製造する。蒸着装置ＰＭ１にて有機ＥＬ素子を形成し、マイクロ波プラズマ処理装置ＰＭ３にてマイクロ波のパワーによりＡｌ（ＣＨ_３）_３ガス、ＳｉＨ_４ガス、Ｎ_２ガスをプラズマ化し、有機ＥＬ素子を覆うようにＳｉＡｌＯＮ膜１４を形成する。 （もっと読む）

【課題】有機発光素子の正孔注入層上に、親水性領域と疎水性領域とに区分可能な介在膜（ｉｎｔｅｒｌａｙｅｒ）をさらに設け、シャドウマスク無しで発光層を含む複数枚の層を形成することによって収率及び工程効率を向上させた有機発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】この方法は、複数個の画素領域がマトリクス状に定義された基板を用意する段階と、各画素領域に正極を形成する段階と、正極上に正孔注入層を溶液工程で形成する段階と、正孔注入層上に、疎水性の特徴を有する介在膜を、溶液工程で形成する段階と、介在膜に紫外線を選択的に照射し、該介在膜に親水性領域を定義する段階と、介在膜上に溶液工程で発光層を形成する段階と、発光層を含む基板上に負極を形成する段階と、を含む。 （もっと読む）

環境感応性素子をシーリングする方法が開示される。該方法は、第１基板及び第２基板を提供する段階と、第１基板と第２基板との間に、環境感応性素子を設置する段階と、露出部分を含む接着剤で、第１基板及び第２基板を共にシーリングする段階と、バリア層または、少なくとも１層のデカップリング層及び少なくとも１層のバリア層を含むバリア・スタックで、接着剤の露出部分を覆う段階と、を含む。
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【課題】有機発光装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】有機発光部が形成された素子基板と封止基板との間に備わった充填材；有機発光部と充填材との間に介在され、一つ以上の熱蒸着可能な有機物質からなる有機保護層を具備した有機発光装置及びその製造方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】所望の厚さの薄膜を、薄膜としての機能を低下させることなく、液滴吐出法で形成できるようにした薄膜の形成方法と、有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】固形分と溶媒とを含む第１の液状体７１ａを、液滴吐出法で基板上に配し、第１の液状膜７１を形成する工程と、第１の液状膜７１を、第１の液状体７１ａの溶媒の飽和蒸気圧より高い圧力雰囲気で乾燥し、第１の乾燥膜７２を形成する工程と、第１の乾燥膜７２上に、固形分と溶媒とを含む第２の液状体７３ａを液滴吐出法で配し、第２の液状膜７３を形成する工程と、第２の液状膜７３および第１の乾燥膜７２を、第２の液状体７３ａの溶媒の飽和蒸気圧以下の圧力雰囲気で乾燥し、第２の液状膜７３および第１の乾燥膜７２からなる薄膜７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）を形成する工程と、を備えた薄膜の形成方法。 （もっと読む）