【課題】内部短絡を防ぐ表示装置を提供する。また、内部短絡を防ぐ前記表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態に係る表示装置は、基板１１１と、前記基板上に形成された半導体層１３３と、前記半導体層上に形成された有機絶縁膜１７０と、前記有機絶縁膜上に形成された複数の導電配線１８４，１８５，１８７，１８８，１８９と、前記複数の導電配線の間で前記有機絶縁膜に形成されたオープングルーブ７０８０とを含む。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の劣化を防止しつつ、長期間にわたる連続運転を可能とする。
【解決手段】るつぼホルダ１３内に、赤外線を主な波長とする加熱波を放射する放射加熱器２１を、赤外線を透過可能な材質からなる加熱波透過管２２に内装して配置し、放射加熱器２１からの加熱波をるつぼ本体１２内の蒸着材料Ｍの表面に照射して加熱し、蒸着材料Ｍの表面のみを蒸発または昇華させる。蒸発または昇華された蒸着材料Ｍが、加熱波透過管２２の表面やるつぼ本体１２、るつぼホルダ１３の内面に付着しても、加熱波により加熱されて再蒸発または再昇華される。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板全体を加熱できないような場合においても、封着材料層を良好に形成することができる封着材料層付きガラス部材の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板２上の封着材料ペーストの枠状塗布層８にレーザ光９Ａ、９Ｂを照射し、少なくとも一方を枠状塗布層８に沿って走査しながら照射して封着材料層を形成する。照射開始位置と照射終了位置の少なくとも一方で、一対のレーザ光の外周の一部が重なる、外周が隣接する、もしくはレーザ光のビーム径以下の間隔で外周が離間するように、レーザ光９Ａ、９Ｂを照射する。 （もっと読む）

【課題】低いプロセス温度で形成でき、高い水蒸気バリア性と高い光透過性とを備え、かつ、プラスチック基板等のフレキシブルな有機材料からなる基板の封止に使用できる、ＳｉＮｘ膜のバリア膜を提供する。
【解決手段】
表面波プラズマＣＶＤ装置を用いて、窒素Ｎと珪素Ｓｉの原子比率を表す比率Ｎ／（Ｓｉ＋Ｎ）が０．６０から０．６５の間である窒化珪素（ＳｉＮ_ｘ）からなるバリヤ膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】塗布法によって形成された有機膜を焼成する装置において、有機膜への水分の侵入を防止し、水分による有機素子の劣化防止を図る。
【解決手段】焼成装置３は、有機膜が形成された基板４を投入するための投入部５と、基板４上の有機膜に含まれる溶媒を加熱除去して、その有機膜を焼成する焼成部６と、焼成部６から基板４を取り出すための取り出し部７と、を備える。投入部５、焼成部６、及び取り出し部７は、各々の内部が雰囲気として区画されている。これにより、焼成後の有機膜に焼成前及び焼成中の有機膜から水分を含んだ溶媒成分が侵入することが防止され、高品質で欠陥のない有機膜を提供できる。 （もっと読む）

【課題】成膜室の真空槽内で従来より効率的に成膜マスクから付着物を除去できる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】
真空槽１１内に配置され、薄膜材料４５の蒸気を放出する放出容器３１に、ガス供給装置５０から反応ガスを導入する。放出容器３１の放出孔３４から放出される反応ガスは成膜マスク２１の付着物と反応して反応生成物ガスを形成し、反応生成物ガスは真空排気される。放出容器３１と成膜マスク２１との間に電圧を印加して反応ガスをプラズマ化することもできる。成膜マスク２１に周期的に負電位を印加すると、プラズマ中のイオンが成膜マスク２１に引き寄せられて衝突するのでより効率的に付着物を除去できる。成膜マスク２１に負電位を印加する間に放出容器３１に負電位を印加すると、放出容器３１からも付着物を効率的に除去できる。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体膜を用いる薄膜トランジスタにおいて、安定した電気特性を有する信頼性のよい薄膜トランジスタを提供することを課題の一つとする。
【解決手段】酸化物半導体膜を用いる薄膜トランジスタのチャネル長が１．５μｍ以上１００μｍ以下、好ましくは３μｍ以上１０μｍ以下の範囲において、−２５℃以上１５０℃以下の動作温度範囲で、チャネル幅が１μｍあたりのオフ電流の値を１×１０^−１２Ａ以下とすることで、安定した電気特性を有する半導体装置を作製することができる。特に半導体装置の一態様である表示装置において、オフ電流の変動に起因する消費電力を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】異物の付着が少なく、塗布工程での塗布性に影響がなく、ダークスポットの発生が抑制された有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法とそれにより得られる有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】可撓性基材上に透明導電膜を形成した後、該透明導電膜上に、発光層を含む少なくとも１層の有機化合物層と対向電極層とを形成して製造する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、可撓性基材上に該透明導電膜を形成し、該透明導電膜の表面を洗浄用有機溶媒で洗浄した後、該透明導電膜上に、該洗浄用有機溶媒の蒸気圧と同等以上の蒸気圧を有する塗布用有機溶媒を含有する塗布液を用いて該有機化合物層の少なくとも１層を形成して製造することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】１枚の大型ガラス基板上に画素ピッチ幅が異なる複数種のカラーフィルタが面付けされるカラーフィルタ基板において、画素ピッチ幅の違いによって生じる画素膜厚の差を低減する事が可能な製造方法、及びその方法により製造されたカラーフィルタ、並びに、このカラーフィルタを用いて作成されたカラー表示装置を提供する。
【解決手段】画素のピッチ幅が最も広い部分と最も狭い部分の比が１．５から８の範囲である多面付けカラーフィルタ基板の製造方法において、前記画素の製造がフォトリソグラフィー法によるものであり、前記基板上に溶剤を７５〜９０質量％含む感光性樹脂組成物を塗布した後該感光性樹脂組成物を減圧下にて溶剤を乾燥する減圧乾燥工程を有し、前記減圧乾燥工程において２００Ｐａ以下に減圧する過程において１０００Ｐａから２００Ｐａに到達するまでにかかる時間を５秒から２０秒の範囲とする。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化することを目的の一とする。
【解決手段】酸化物半導体膜を含むトランジスタにおいて、酸化物半導体膜に接し、且つソース電極及びドレイン電極を覆う帯電防止機能を有する金属酸化膜を形成し、加熱処理を行う。この加熱工程によって、水素、水分、水酸基又は水素化物などの不純物を酸化物半導体膜より意図的に排除し、酸化物半導体膜を高純度化する。また、金属酸化膜を設けることで、トランジスタにおいて酸化物半導体膜のバックチャネル側に寄生チャネルが発生することを防止できる。 （もっと読む）

【課題】製造工程に対する投資を抑え、余分な部材を使用せず、製品のコストを上げることなく製造工程に発生する異物付着に起因するリークの発生を抑制することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法及び有機ＥＬ素子の提供。
【解決手段】基材上に、第１の電極と、少なくとも１層の有機機能層と、第２の電極と、封止層とを順次積層した構成を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記製造方法は除電工程を含み、少なくとも前記除電工程の環境が、酸素濃度１００ｐｐｍから１０００ｐｐｍであることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】有機電界発光素子の有機層を湿式成膜法により形成するに当たり、グローブボックス等の装置を用いて窒素置換を行うなどの特別な環境制御を必要とすることなく成膜中の劣化を防止して、安価な製造コストで、高効率で駆動寿命が長い有機電界発光素子を提供する。
【解決手段】有機電界発光素子の陽極と陰極との間の有機層を、有機電界発光素子材料及び溶剤を含有する組成物を用いて、以下の成膜環境１〜３のいずれかの環境下に湿式成膜法で成膜した後乾燥する。
成膜環境１：二酸化炭素濃度０．７ｇ／ｍ^３以下で酸素濃度１８〜２２体積％
成膜環境２：硫黄酸化物濃度２．２μｇ／ｍ^３以下で酸素濃度１８〜２２体積％
成膜環境３：窒素酸化物濃度３．１μｇ／ｍ^３以下で酸素濃度１８〜２２体積％ （もっと読む）

【課題】下層の溶解を回避しつつ、表面平滑性の高い薄膜を、ウェットプロセスで作製可能な方法の提供。
【解決手段】溶質を溶媒中に溶解及び／又は分散してなる原料液を噴霧して液滴を形成すること、液滴中の溶媒を揮発させ濃縮すること、濃縮された液滴を基板上もしくは基板上に設けられた薄膜の上に堆積させること、を順次含む薄膜の作製方法であって、固形分濃度Ｃ₁の液滴を堆積させた後、Ｃ₁＞Ｃ₂を満足する固形分濃度Ｃ₂の液滴を堆積させることを特徴とする薄膜の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、塗布法による有機層の積層構造化、且つ高性能化を可能とする有機電子素子及び有機電子素子の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、陽極と陰極との間に有機層が塗布法により形成され、前記有機層は基板側に配置された前記陽極若しくは前記陰極側から順に配置される第１、第２有機層を少なくとも有する有機電子素子であって、前記第１有機層の表面には、エステル結合を有する高分子材料が形成されている。 （もっと読む）

【課題】発光層の表面均一性を向上させることができる有機電界発光素子の製造方法の提供。
【解決手段】有機電界発光素子の製造方法は、陽極２と陰極８の間に、発光層５及び該発光層に隣接する隣接層を含む有機層を有してなる有機電界発光素子の製造方法であって、前記発光層を、発光材料と、ホスト材料とを溶媒に溶解乃至分散させた塗布液を前記隣接層に塗布し、前記ホスト材料の融解温度よりも高く、かつ前記溶媒の沸点よりも高い温度で加熱して、形成することを含み、前記発光層の純水に対する接触角Ａ（°）と、前記隣接層の純水に対する接触角Ｂ（°）との差の絶対値が１３（°）以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】封止部材およびスペーサを備える電気装置において、封止部材およびスペーサを形成する際に必要となる工程数が増加することを抑制することのできる構成の電気装置を提供する。
【解決手段】支持基板と、該支持基板上に設定される封止領域内に設けられる電気回路と、封止領域を取囲んで前記支持基板上に設けられる封止部材と、前記封止部材を介して、前記支持基板に貼り合わされる封止基板と、前記支持基板および前記封止基板間に配置されるスペーサとを有する電気装置であって、前記電気回路は、有機層を有する電子素子を備え、前記封止部材と前記スペーサとは、同じ材料を用いて形成されている、電気装置。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の素子特性、寿命の低下を抑制し、その種々特性を向上させることが可能な有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１上に第一電極２を形成し、その上に有機発光層５を含む発光媒体層６を積層する。発光媒体層６を焼成又は乾燥する前又は後に、発光媒体層６を不活性ガス雰囲気に曝露して保存する。不活性ガス雰囲気は、酸素ガス濃度が１０００ｐｐｍ以下、露天温度が‐１０℃以下であることが望ましい。不活性ガス雰囲気下で所定時間保存する工程を設けることで、エイジングにより膜質が安定し、発光効率、駆動寿命、駆動電圧の安定化、及び特性向上する。 （もっと読む）

【課題】紫外線の影響により特性が悪化することを防止することが可能である。
【解決手段】アクティブマトリクス表示装置は、波長２００ｎｍから３２０ｎｍにおける光線透過率が１０％以下であり、波長４５０ｎｍ、波長５４０ｎｍおよび波長６２０ｎｍにおける光線透過率が８０％以上であるプラスチック基板２上に、酸素（Ｏ）と窒素（Ｎ）の混合物で、酸素（Ｏ）に対する窒素（Ｎ）の比（Ｎ数密度／Ｏ数密度）が０乃至２である非金属元素を含む半導体層７をチャネルに用いて形成した薄膜トランジスタ１を有する。また、波長２００ｎｍから３７０ｎｍにおける光線透過率が１０％以下である遮光層８を有し、波長４５０ｎｍ、波長５４０ｎｍおよび波長６２０ｎｍにおける光線透過率が８０％以上であるプラスチック基板２上に、酸素（Ｏ）と窒素（Ｎ）の混合物で酸素（Ｏ）に対する窒素（Ｎ）の比（Ｎ数密度／Ｏ数密度）が０乃至２である非金属元素を含む半導体層をチャネルに用いて形成した薄膜トランジスタ１を有する。 （もっと読む）

【課題】長寿命のフレキシブル発光装置を簡便に提供することを目的の一とする。また、表示ムラが生じず、良好な表示特性を有し、歩留まりが高く、信頼性の高いフレキシブル発光装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】可撓性及び可視光に対する透光性を有する基板と、基板上に設けられた接着剤層と、接着剤層上に形成された可視光に対する透光性を有する導電層と、導電層上に位置する絶縁層と、絶縁層上に設けられたトランジスタと、トランジスタを覆う層間絶縁層と、層間絶縁層上に形成され、トランジスタのソース電極又はドレイン電極と電気的に接続する第１の電極、第１の電極と対向する第２の電極、及び第１の電極と第２の電極との間に設けられた発光性の有機化合物を含む層とを備える発光素子と、発光素子を覆う封止層と、を有するフレキシブル発光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】パネルの表面温度が低く、長寿命で信頼性の高いフレキシブル発光装置を提供することを目的の一とする。また、当該フレキシブル発光装置の簡便な作製方法を提供することを目的の一とする。
【解決手段】可撓性及び可視光に対する透光性を有する基板と、基板上に設けられた第１の接着剤層と、第１の接着剤層上に位置する絶縁層と、絶縁層上に形成された第１の電極、第１の電極と対向する第２の電極、及び第１の電極と第２の電極との間に設けられた発光性の有機化合物を含む層とを備える発光素子と、第２の電極上に形成された第２の接着剤層と、第２の接着剤層上に設けられた金属基板と、金属基板上に形成された放熱材料層とを有するフレキシブル発光装置を提供する。 （もっと読む）