【課題】封止ガラスの有機ＥＬ素子側の気体／固体界面における光の反射を防止することができる封止ガラスを提供する。
【解決手段】封止ガラス３０は、ガラス基板３１と、ガラス基板３１の一側の面３１ａ上に形成され、耐熱性材料３６からなる反射防止膜３２と、を備えている。反射防止膜３２は、凹凸形状からなるモスアイ構造部３４を有している。また反射防止膜３２の耐熱性材料３６は、シロキサン樹脂を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】発光素子用の材料が、ホスト材料若しくはゲスト材料として有効か否かについて評価する。
【解決手段】発光素子用材料の吸収強度を測定する第１のステップと、発光素子用材料に対し、所定の時間、光を照射する第２のステップと、繰り返す。光を照射した時間に対して、吸収強度の変化について評価することで、発光素子用材料がホストまたはゲストとして適当であるかを判断することができる。発光素子用材料に照射する光は、発光素子用材料において励起に係る骨格に因って吸収される波長成分を含む光であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】可撓性表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】可撓性表示装置の製造方法は、キャリア基板上に抵抗を有する導電物質を含む発熱部を形成する段階と、発熱部上に可撓性基板を形成する段階と、可撓性基板上に薄膜トランジスタを含む駆動回路部を形成する段階と、駆動回路部上に発光素子および封止部材を形成する段階と、発熱部に電圧を印加してジュール熱を発生させることによって可撓性基板に直接熱を加えて発熱部から可撓性基板を分離する段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】寿命が長い有機エレクトロルミネッセンス装置を提供する。
【解決手段】
基板、該基板上に設けられた第１の電極、該第１の電極上に設けられ複数の画素を画成する隔壁、及び該隔壁に囲まれた前記第１の電極上に形成された有機層を備える有機エレクトロルミネッセンス装置であって、前記有機層は、電荷注入層、電荷輸送層及び発光層のうちのいずれか１つであり、前記有機層の表面において、飛行時間二次イオン質量分析によって測定される炭素のイオン強度に対するフッ素のイオン強度の比によって定義されるフッ素化合物量を２５以下とする。 （もっと読む）

【課題】発光寿命の長い有機ＥＬ素子を製造しうる有機ＥＬ素子の製造方法、該製造方法で製造された有機ＥＬ素子、該有機ＥＬ素子を備える面状光源、照明装置及び表示装置を提供すること。
【解決手段】第１の電極と、第２の電極と、該第１の電極及び第２の電極間に設けられる有機層とを有し、該有機層が有機化合物を含む有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、該有機層は、体積基準で１０ｐｐｍ以下の水分濃度を有する低湿度雰囲気下において、該有機層が上に形成される層の表面上に、塗布法により有機化合物を含む有機薄膜を形成する有機薄膜形成工程と、２．０×１０^−３ｋｇ／ｋｇ（乾燥空気）以上の重量基準の絶対湿度を有する高湿度雰囲気下において、該有機薄膜形成工程によって得られた有機薄膜を保管する有機薄膜保管工程とを、包含する方法によって形成される、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
平坦化膜への水分吸着を効果的に防止することにより、高い信頼性と長寿命を期待できる有機発光装置を提供する。
【解決手段】基板１０の片面に、平坦化膜１１、被覆膜２０、陽極２、ホール注入層４を形成する。平坦化膜１１は被覆膜２０で被覆する。ホール注入層４上にホール輸送層６Ａ、発光層６Ｂ、陰極８を順次積層して有機発光装置１を構成する。被覆膜２０及びホール注入層４は所定の成膜条件で成膜した膜厚２ｎｍ以上の酸化タングステン層とし、かつ、その電子状態において、価電子帯で最も低い結合エネルギーよりも１．８〜３．６ｅＶ低い結合エネルギーの範囲内に占有準位を存在させる。ソース電極１７と陽極２とを被覆膜２０を介して電気接続する。 （もっと読む）

【課題】処理ガスを大量に活性化させ、かつ失活させずに供給することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを支持する基板支持体３と、触媒板５と、触媒板５に接触させて活性化させる第１処理ガスを供給する第１処理ガス供給部７０aと、触媒板５を誘導加熱する誘導加熱コイル６とを備え、基板支持体３は、触媒板５の一面側に配され、誘導加熱コイル６は、触媒板５の他面側に配され、触媒板５は、処理室１を、誘導加熱コイル６側の第１空間及び基板支持体３側の第２空間に隔てる。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法で均一な膜厚および膜質の蒸着膜を成膜可能な蒸発源およびこれを備えた蒸着装置ならびに蒸着方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ表示装置１の有機層１６を真空蒸着法によって形成する。底部が平坦な加熱用容器２１に、溶媒に溶解または均一に分散させた有機材料を流し込む。加熱用容器２１を加熱することにより溶媒を除去し、加熱用容器２１の底部に均質に分散した有機膜２２を形成する。この有機膜２２を蒸発源２とすることより、基板１１の大きさにかかわらず、均一な膜厚および膜質の有機層１６を容易に形成することが可能となる。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ_1-xＢ_x）₃Ｃ₅Ｏ₁₂（式中、ＡはＹ，Ｇｄ及びＬｕから選ばれる１種以上の希土類元素、ＢはＣｅ，Ｎｄ及びＴｂから選ばれる１種以上の希土類元素、ＣはＡｌ及びＧａから選ばれる１種以上の元素であり、ｘは０．００２≦ｘ≦０．２である。）で示されるガーネット相を含有し、複数の一次粒子で構成された球形の多結晶体二次粒子であり、二次粒子の平均粒子径が５〜５０μｍである蛍光体粒子。
【効果】本発明の蛍光体粒子は、蛍光体粒子を分散させる樹脂、無機ガラス等の材料中において、励起光の吸収率を向上させ、蛍光体と封止樹脂との熱膨張率の差により発生する材料間界面応力による剥離を抑制することができる。また、発光に寄与しないフラックスに起因する不純物がないため、ＬＥＤの光取出し効率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】透光性、耐熱性および粘着性（ベタツキ）を顕著に改善することができる封止材用透光性樹脂、該透光性樹脂を含む封止材および電子素子を提供する。
【解決手段】本発明による封止材用透光性樹脂は、末端にケイ素原子に結合した水素原子（Ｓｉ−Ｈ）を有する第１ポリシロキサン、および末端にケイ素原子に結合したアルケニル基（Ｓｉ−Ｖｉ）を有する第２ポリシロキサンを含み、前記ケイ素原子に結合したアルケニル基（Ｓｉ−Ｖｉ）の数（ｎ_Ｖｉ）に対する前記ケイ素原子に結合した水素（Ｓｉ−Ｈ）の数（ｎ_Ｈ）の割合（ｎ_Ｈ／ｎ_Ｖｉ）は、１〜１．２である。 （もっと読む）

【課題】作製工程を削減し、低コストで生産性の良い表示装置を提供する。消費電力が少なく、信頼性の高い表示装置を提供する。
【解決手段】トランジスタの、ゲート電極となる導電層、ゲート絶縁層となる絶縁層、半導体層、およびチャネル保護層となる絶縁層を連続して形成する。ゲート電極（同一層で形成される他の電極または配線を含む）と島状半導体層の形成を、一回のフォトリソグラフィ工程で行う。該フォトリソグラフィ工程と、コンタクトホールを形成するフォトリソグラフィ工程と、ソース電極及びドレイン電極（同一層で形成される他の電極または配線を含む）を形成するフォトリソグラフィ工程と、画素電極（同一層で形成される他の電極または配線を含む）を形成するフォトリソグラフィ工程の、４つのフォトリソグラフィ工程で表示装置を作製する。 （もっと読む）

【課題】合金形態の半導体結晶、その製造方法及び有機電界発光素子を提供する。
【解決手段】本発明に係る半導体結晶の製造方法は、（ａ）１種以上の１２族金属前駆体を分散剤及び溶媒と混合し、これを加熱して１２族金属前駆体溶液を得る段階と、（ｂ）１種以上の１６族元素前駆体をこれと配位可能な溶媒に溶解して１６族元素前駆体溶液を得る段階と、（ｃ）前記１種以上の１２族金属前駆体溶液と１種以上の１６族元素前駆体溶液とを混合して反応させた後、結晶を成長させる段階と、を含み、前記結晶のサイズ分布を表す光励起発光スペクトルの半値幅が５０ｎｍ以下、かつ、発光効率が３０％以上であり、前記１２族金属前駆体溶液、及び前記１６族元素前駆体溶液の濃度は０．００１Ｍないし２Ｍであり、前記（ａ）段階において、加熱が１００ないし４００℃であり、前記（ｃ）段階において、反応温度は５０℃ないし４００℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スパッタ法でトランジスタ、ダイオード等の半導体用途に好適な材料を提供する。具体的には結晶性の高い酸化物半導体膜を形成する作製プロセスを提供する。
【解決手段】意図的に窒素を酸化物半導体に対して添加することにより、六方晶であり、ウルツ鉱型結晶構造を有する酸化物半導体膜を形成する。酸化物半導体膜において、窒素を含む領域の結晶性は、窒素をあまり含まない領域、或いは窒素を意図的に添加していない領域に比べて高くなる。この結晶性の高いウルツ鉱型結晶構造を有する酸化物半導体膜をトランジスタのチャネル形成領域として用いる。 （もっと読む）

【課題】厚みが１０μｍ以下の光学特性の高い有機ＥＬ表示装置用偏光膜を提供する。
【解決手段】二色性物質を配向させたポリビニルアルコール系樹脂からなる連続ウェブの有機ＥＬ表示装置用偏光膜であって、非晶性エステル系熱可塑性樹脂基材に製膜された前記ポリビニルアルコール系樹脂層を含む積層体が空中補助延伸とホウ酸水中延伸とからなる２段延伸工程で延伸されることにより、１０μｍ以下の厚みにされたものであり、かつ、単体透過率をＴ、偏光度をＰとしたとき、Ｔ≧４２．５、およびＰ≧９９．５の条件を満足する光学特性を有するようにされたものである。 （もっと読む）

【課題】ＥＬデバイス（特にＯＬＥＤ）、光電池、および半導体デバイス（有機電界効果トランジスタ、薄膜トランジスタ、および集積回路一般など）を含む、電子または光電子デバイス（特に導電ポリマーを含むデバイス）の製造において、基板、特に可撓性基板として使用するのに適した、改善されたバリア特性を有するフィルムを提供すること。
【解決手段】ポリマー基板、平坦化被覆層、および無機バリア層を含む複合フィルムであって、前記バリア層は、２ｎｍから１０００ｎｍの厚さを有し、マイクロ波で活性化された反応性マグネトロンスパッタリングによって得ることができる前記複合フィルム。 （もっと読む）

【課題】厚みが１０μｍ以下の光学特性の高い有機ＥＬ表示装置用偏光膜を提供する。
【解決手段】二色性物質を配向させたポリビニルアルコール系樹脂からなる連続ウェブの有機ＥＬ表示装置用偏光膜であって、非晶性エステル系熱可塑性樹脂基材に製膜された前記ポリビニルアルコール系樹脂層を含む積層体が空中補助延伸とホウ酸水中延伸とからなる２段延伸工程で延伸されることにより、１０μｍ以下の厚みにされたものであり、かつ、単体透過率をＴ、偏光度をＰとしたとき、Ｔ≧４２．５、およびＰ≧９９．５の条件を満足する光学特性を有するようにされたものである。 （もっと読む）

【課題】水分や不純物による劣化を抑制できる有機光デバイスを提供する。
【解決手段】支持体と、支持体上に設けられた機能層と、機能層上に設けられた有機化合物を含む発光体とを有し、機能層は、ガリウム又はアルミニウムと、亜鉛と、酸素とを含む絶縁膜を有し、支持体及び機能層は、波長が４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域で透光性を有する有機光デバイスを提供する。ガリウム又はアルミニウムと、亜鉛と、酸素とを含む絶縁膜を保護膜として用いることで、有機化合物や金属材料への水分や不純物の侵入を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】色変換発光シート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】一面に複数の凹凸構造が形成された光学シートと、光学シートの他面に形成された伝導性膜と、伝導性膜の上面に形成され、バインダ樹脂及び色変換発光物質を含有するナノファイバ及びナノビーズの混合物を含む色変換発光層と、色変換発光層の上面に形成され、有機高分子保護層及び無機薄膜保護層の積層構造を有する保護層と、を含む色変換発光シート及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 昇華材料からなる剥離層を用いて発光層をパターニング形成する有機ＥＬ表示装置の製造方法において、昇華材料を塗布により形成すると有機化合物層を一貫した真空下で成膜ができなくなり、製造コストやタクトタイムが長くなってしまう。
【解決手段】 所定の画素に、前記発光層の蒸発温度よりも低い昇華温度を有する剥離層を真空蒸着にて形成する工程と、前記基板の全体に真空蒸着にて前記発光層を形成する工程と、前記剥離層の昇華温度よりも高く前記発光層の蒸発温度よりも低い温度で前記基板を加熱し、前記所定の画素に形成された前記剥離層および前記発光層を除去する工程と、を含む製造方法により、有機ＥＬ表示装置を形成する。 （もっと読む）

【課題】均一な蒸着膜厚分布と材料利用効率向上を実現し，かつ熱による基板に形成された蒸着膜へのダメージを与えず，ノズルつまりも防止する真空蒸着装置を実現する。
【解決手段】複数のノズル４が第１の方向に配列した蒸発源ユニット３１が複数幅方向に配列して蒸発源３を形成している。ノズル４の出口において、蒸発源３から放射される蒸発物質を左右から挟む形で第１の反射散乱板５と第２の反射散乱板６を配置する。蒸発源３に近い第１の反射散乱板５は加熱手段によって加熱され、蒸発源３から遠く、基板に近い第２の反射散乱板６は加熱手段を有さず、冷却手段を有する。これによって、基板における蒸着膜厚分布を均一化でき、蒸着材料の利用効率を上昇させ、基板に形成された蒸発物質に対する熱によるダメージを抑えることが出来、蒸着ノズル付近における蒸発物質の堆積を防止することが出来る。 （もっと読む）