【課題】ウェットプロセスで成膜した後、熱処理を行うことにより形成した電子輸送層を含む有機機能層を有する有機ＥＬ素子の製造方法において、従来の有機ＥＬ素子よりも、さらに低電圧駆動及び発光寿命の長寿命化を実現できる有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、一対の電極と、前記一対の電極の間に少なくとも発光層及びガラス転移点が異なる２種以上の材料からなる電子輸送層を含む有機機能層と、を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記電子輸送層は、ウェットプロセスで成膜した後、熱処理を行うことにより形成され、かつ、前記２種以上の材料の全質量のうち、前記熱処理の温度よりも低いガラス転移点を有する材料を０．１質量％以上３０質量％以下含有する。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法で欠陥のある画素を修復するとともに、正常に形成された画素の劣化を避ける。
【解決手段】２層以上の有機膜を含む画素を備えた有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、第１のインクを配置し、第１の温度で焼成することによりＨＴＬ１０３を成膜する工程と、ＨＴＬ１０３上に、第２のインクを配置し、第１の温度以下の第２の温度で焼成することによりＥＭＬ１０４を成膜する工程と、欠陥のある画素Ａを検出する工程と、画素ＡのＥＭＬ１０４を除去する工程と、第３のインクを画素Ａに配置し、第２の温度以下の第３の温度で焼成することにより再生後ＥＭＬ１０６を成膜する工程と、を備え、第３のインクの沸点は前記第２のインクの沸点以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高いバリア性能を有し、尚且つ連続生産性に優れたガスバリア性フィルムの製造方法を提供すること、及び該ガスバリア性フィルムの製造方法を用いたガスバリア性フィルムを提供することである。
【解決手段】本発明によれば、基板を用意する工程と、基板の少なくとも一方の面に、金属の硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、炭酸塩、酢酸塩および蓚酸塩からなる群から選択される少なくとも一種の金属塩を含む前駆体層を形成する工程と、前記前駆体層を変換処理し、金属酸化物、金属窒化物および金属酸窒化物からなる群から選択される少なくとも一種を含むガスバリア性層を形成する工程と、を含む、ガスバリア性フィルムの製造方法、および、前記方法を用いて製造したガスバリア性フィルムが提供される。 （もっと読む）

【課題】高昇華温度で、耐熱性が高い有機材料を高純度、高収率、短時間で昇華精製することができる、有機材料の精製方法を提供すること。
【解決手段】真空度１×１０^−２Ｐａ以下での熱重量測定における１０％重量減少温度が２５０℃以上の有機材料の精製方法であって、有機材料中の無機不純物の濃度を５０００ｐｐｍ以下とした後に、該有機材料を昇華精製する。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料を溶媒に溶かしてなる液体材料から溶媒を確実に除去して蒸着を行うことで、この溶媒による基板の汚染を防止し、高品質の蒸着膜を得ることができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】有機液体材料Ｌを、蒸発装置２で有機溶媒を除去した上で蒸発させて蒸発材料とし、これを真空容器４内の基板Ｋに導き蒸着させる真空蒸着装置１であって、蒸発装置２が、有機液体材料Ｌが充填されて蒸発溶媒の排出口２２が形成された蒸発容器２０と、有機溶媒のみが蒸発して蒸着材料が蒸発しない温度に設定し得る蒸発用ヒータ１８と、排出口２２に第２開閉弁１２を介して接続された蒸発室用真空ポンプ１５と、流量調整弁１６とを有し、蒸発装置２が、流量調整弁１６を閉にすると共に、蒸発容器２０内の有機溶媒のみを蒸発用ヒータ１８で蒸発させた後、第２開閉弁１２を開にして上記ポンプ１５で蒸発容器２０内の蒸発溶媒を吸引し、有機溶媒を除去し得るもの。 （もっと読む）

【課題】 ターゲットの大型化に伴い、ターゲットに大電力が投入されてもスプラッシュを抑制することができると共に、耐食性および耐熱性に優れ、低電気抵抗の膜を形成可能な導電性膜形成用銀合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 導電性膜形成用銀合金スパッタリングターゲットが、Ｉｎ：０．１〜１．５質量％を含有し、さらにＣｕ，Ｍｇの内の１種または２種を合計で０．１〜１．０質量％を含有し、残部がＡｇおよび不可避不純物からなる成分組成を有した銀合金で構成され、銀合金の結晶粒の平均粒径が１２０〜２５０μｍであり、結晶粒の粒径のばらつきが、平均粒径の２０％以下である。 （もっと読む）

【課題】光電子デバイスで使用されるベース基板上に堆積されたラッカー層上に機能的光構造と、電気回路を保持するように構成されている溝とを同時に形成する方法を提供する。
【解決手段】ベース基板２０２上にラッカー層２０３を形成し、スタンパーを用いることによってラッカー層２０３上に溝２０６及び機能的光構造２０４を同時に複製することを含む。スタンパーは、第一部分上に溝及び第二部分上に機能的光構造のネガ像を有するあわせ面を有する。機能的光構造２０４は、光トラッピング又は光取り出しを可能にするように提供される。その後、電気回路２０８が溝２０６内に形成される。 （もっと読む）

【課題】Ａｌの這い上がり、あるいはＡｌ蒸気浸入を防止して破損の起こりにくい蒸発源を有する蒸着装置を低コストで提供することである。
【解決手段】真空チャンバ内に蒸着源ユニット２６を有する蒸着装置であって、前記蒸着源ユニット２６は、蒸発材５を収容する坩堝１と、前記坩堝１の開口部に取り付けられたノズル２と、前記坩堝１を囲み、ヒータ３を収容するヒータ室１０と、固定具７を有し、前記坩堝１の内壁と前記ヒータ室１０との間には、前記坩堝１において溶融した前記蒸発材５または前記蒸発材５の蒸気が前記ヒータ室１０に侵入することを阻止する切欠き１２を有することを特徴とする蒸着源ユニットを有する蒸着装置である。 （もっと読む）

【課題】簡便な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供する。
【解決手段】陽極３２と、陰極３４と、陽極および陰極に挟持され、陰極に接している電子注入層４４を含む複数の有機層が積層される積層構造体とを備える有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、積層構造体の少なくとも一部および陽極、又は陽極のいずれかが第１の基材２２上に設けられた第１の構造体１２を準備する工程と、積層構造体のうち、積層構造体の少なくとも一部を除く残部および陰極、又は陰極のいずれかが第２の基材２４上に設けられた第２の構造体１４を準備する工程と、第１の構造体と第２の構造体とを張り合わせて、陽極および陰極に挟持される積層構造体を形成する張り合わせ工程とを備え、第１の構造体を準備する工程または第２の構造体を準備する工程では、イオン性ポリマーを含む電子注入層を形成する、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】有機電界発光素子の作製に用いると、有機電界発光層に非発光エリアが発生するのを防止でき、経時による非発光エリアの拡大を大幅に改善することができる透明導電性基板及び該透明導電性基板の製造方法、並びに前記透明導電性基板を有する有機電界発光素子の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に開口部を有する金属パターン層９と、該金属パターン層９上に透明導電層４と、を有する透明導電性基板であって、前記金属パターン層９がゼラチン２を含有し、前記透明導電性基板の含水量が０．５μｇ／ｃｍ^２以下である透明導電性基板である。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性に優れた透明ガスバリア層を、高温に加熱せずとも、層形成時の窒化および酸化を精密に制御することで効率よく製造することが可能な、透明ガスバリア層の製造方法を提供する。
【解決手段】 スパッタリング法により透明ガスバリア層を製造する透明ガスバリア層の製造方法であって、炭化金属および炭化半金属から選択される少なくとも１種の炭化物を含むターゲット１７を用い、反応性ガスとして窒素ガスを用い、前記反応性ガスがさらに酸素ガスおよび水素ガスを含み、前記反応性ガスにおいて、前記窒素ガスに対する前記酸素ガスの混合比率が１〜１０体積％であり、前記窒素ガスに対する前記水素ガスの混合比率が０．１〜３０体積％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】蒸発源の冷却時間を短縮する。
【解決手段】蒸着準備工程では、蒸着材料３０を収納する坩堝１３、坩堝１３を加熱する加熱部１４、および坩堝１３内で気体化した蒸着材料３０を被処理物に向かって放出するノズル１２、を備える蒸発源１０、および被処理物を真空チャンバ内に配置する。次に、坩堝１３に収納された蒸着材料３０を加熱部１４により加熱して、気体化した蒸着材料ガスを発生させ、被処理物に蒸着膜を形成する。次に、蒸発源１０の外側からノズル１２を介して坩堝１３内にガス２６を供給し、かつ、加熱部１４を停止させて坩堝１３を冷却する。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、信頼性の高い半導体装置を提供する。
【解決手段】酸化物半導体膜を含むトランジスタの作製工程において、酸化物半導体膜に酸素ドープ処理を行い、その後、酸化物半導体膜及び酸化物半導体膜上に設けられた酸化アルミニウム膜に対して熱処理を行うことで、化学量論的組成比を超える酸素を含む領域を有する酸化物半導体膜を形成する。該酸化物半導体膜を用いたトランジスタは、バイアス−熱ストレス試験（ＢＴ試験）前後においてもトランジスタのしきい値電圧の変化量が低減されており、信頼性の高いトランジスタとすることができる。 （もっと読む）

【課題】低コストかつ簡便な透明導電膜の製造方法である塗布法によって形成される、高い導電性を有し、かつ良好な膜強度と優れた透明性を兼ね備える透明導電膜、及びこの透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化焼成工程が乾燥塗布膜を酸素含有雰囲気下で、少なくとも無機成分の結晶化が起こる焼成温度以上まで昇温して、有機成分を熱分解または燃焼、或いは熱分解並びに燃焼により除去し、ドーパント金属化合物を含みインジウム酸化物を主成分とする導電性酸化物微粒子が緻密に充填した導電性酸化物微粒子膜を形成する工程で、還元焼成工程が、少なくとも水素０．１体積％以上と水蒸気を含有し、かつ露点温度が−５５℃〜３０℃の還元雰囲気下で、３００℃以上の温度で焼成を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大型基板への対応が可能で、材料使用効率の高いインクジェット方式を始めとする塗布方式にて、簡易で安価に製造が可能であり、機能層の白抜け、または、混色による表示不良の無い、高品質なカラーフィルタや有機ＥＬ等の光学素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂硬化物により形成され且つ支持基板１０の面上を複数の領域３０に区画する隔壁を形成する隔壁パターン２０と、複数の領域３０にそれぞれ形成された複数の画素を有する光学素子の製造方法であって、撥インク性を有する樹脂組成物により支持基板１０の面上を複数の領域３０に区画する領域区画工程と、領域区画工程で支持基板１０の面上を複数の領域３０に区画した樹脂組成物にマイクロ波を照射して、樹脂組成物の硬化を促進させるマイクロ波照射工程を含む。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性に優れた透明ガスバリア層を、高温に加熱せずとも、層形成時の窒化および酸化を制御することで効率よく製造することが可能な、透明ガスバリア層の製造方法を提供する。
【解決手段】 スパッタリング法により透明ガスバリア層を製造する透明ガスバリア層の製造方法であって、炭化金属および炭化半金属から選択される少なくとも１種の炭化物を含むターゲット１７を用い、反応性ガスとして窒素ガスおよび酸素ガスを含む混合ガスを用い、前記反応性ガスにおいて、前記窒素ガスに対する前記酸素ガスの混合比率が１〜１０体積％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の実施例は非晶質酸化物薄膜トランジスタ及びその製造方法、ディスプレイパネルを開示する。
【解決手段】前記非晶質酸化物薄膜トランジスタは、ゲート電極、ゲート絶縁層、半導体活性層、ソース電極及びドレイン電極を含む。前記半導体活性層はチャネル層とオーミック接触層を含み、前記チャネル層は前記オーミック接触層に比べ酸素含有量が高い。また、前記チャネル層は前記ゲート絶縁層と接し、前記オーミック接触層は二つの独立したオーミック接触領域に分けられ、かつ前記二つの独立したオーミック接触領域はそれぞれ前記ソース電極、ドレイン電極と接する。 （もっと読む）

【課題】有機電子デバイス、特に有機エレクトロルミネッセンスパネルの本来の性能を低下させることなく、製造工程で混入した異物に対し段差被覆性、水蒸気透過率、成膜速度を向上させる条件でパッシベーション膜を成膜することにより、成膜時間を短縮し、かつ信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンスパネルを提供する。
【解決手段】少なくとも第一電極、有機発光層を含む有機発光媒体層、第二電極、パッシベーション層を基板上に備えた有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であって、前記パッシベーション層は３層以上から構成され、パッシベーション層最下層の被覆率が６０％以上かつ水蒸気透過率が０．０５ｇ／ｍ２／ｄａｙ、パッシベーション層中段層の被覆率が７０％以上、パッシベーション層最上層の水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙであり、各層それぞれが異なる開口のマスクでパターニング成膜されることを特徴とする。 （もっと読む）

【解決課題】輝点密度が高く、発光輝度を向上させる分散型無機ＥＬ素子を与える硫化亜鉛蛍光体粒子を提供する。
【解決手段】長軸長／短軸長で表される軸長比が１．０５〜１．５０の硫化亜鉛蛍光体粒子であって、長軸が前記粒子における硫化亜鉛立方晶の面状欠陥と平行であり、かつ前記長軸を法線とする面から硫化亜鉛蛍光体粒子を観察して得られる硫化亜鉛蛍光体粒子像の、円形度＝Ｌ^２／４πＡ（Ｌ：前記面から見た場合に観察される硫化亜鉛蛍光体粒子像の円周長、Ａ：前記面から見た場合に観察される硫化亜鉛蛍光体粒子像の面積）で定義される円形度が１．２５０以下である、硫化亜鉛蛍光体粒子およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】封止ガラスの有機ＥＬ素子側の気体／固体界面における光の反射を防止することができる封止ガラスを提供する。
【解決手段】封止ガラス３０は、ガラス基板３１と、ガラス基板３１の一側の面３１ａ上に形成され、耐熱性材料３６からなる反射防止膜３２と、を備えている。反射防止膜３２は、凹凸形状からなるモスアイ構造部３４を有している。また反射防止膜３２の耐熱性材料３６は、シロキサン樹脂を含んでいる。 （もっと読む）