【課題】引き回し領域が占有する領域を狭めた場合でも、下層側の第１配線と上層側の第２配線との位置関係が配線毎にばらつくことのない半導体装置の製造方法、半導体装置、および電気光学装置を提供すること。
【解決手段】半導体装置において、第１配線３ｓを覆う層間絶縁膜７の表面には、第１配線３ｓが反映されてなる凸部７ａが形成されている。第２導電膜６を形成した後、レジストマスク１５０を形成し、このレジストマスク１５０をアッシングすると、凸部７ａに挟まれた溝７ｂ内にレジストマスク１５０を選択的に残すことができる。従って。レジストマスク１５０を用いて第２導電膜６をエッチングすると、第１配線３ｓに対して自己整合的に第２配線６ｓを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】簡便な手法により複数種の発光層を高精度に塗り分けることができ、優れた動画特性を得ることができる表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】この表示装置の製造方法は、電極１１上に正孔輸送層１３および赤色発光層１４Ｒを形成する工程と、赤色発光層１４Ｒ上に絶縁層２２ａを形成する工程と、絶縁層２２ａ上にフォトレジスト２１を形成し、フォトレジスト２１をマスクに絶縁層２２ａおよび正孔輸送層１３および赤色発光層１４Ｒをドライエッチング法によりエッチングするエッチング工程と、エッチング工程後、赤色発光層１４Ｒ上に残存した絶縁層２２ａを除去する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】補助配線の構成によらず、低消費電力を確保すると共に表示品質を向上させることが可能な表示装置を提供する。
【解決手段】第２電極２０と補助配線１８Ｂとの間は、導電性のコンタクト部１５Ｂを介して電気的に接続される。コンタクト部１５Ｂは、最下層のＴｉ層１５Ｂ１（第１導電層）と、中間層のＡｌ層１５Ｂ２（第２導電層）と、最上層のＭｏ層１５Ｂ３（第３導電層）との積層構造を有している。Ｔｉ層１５Ｂ１はＡｌ層１５Ｂ２およびＭｏ層１５Ｂ３よりも幅広となっており、この拡幅部Ｗにおいて第２電極２０とＴｉ層１５Ｂ１が直接接触している。Ａｌ層１５Ｂ２が大気中で自然酸化し、光取り出し側電極（第２電極２０）との間で良好な電気接続ができなくなったとしても、最下層のＴｉ層１５Ｂ１と光取り出し側電極との間において良好な電気接続を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】既存の表示装置用基板の製造プロセスを大きく変更することなく、薄膜トランジスタの寄生容量の影響を小さくすることができる表示装置用基板、表示装置、及び表示装置用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極３及びゲート電極３と電気的に接続される第１容量電極２が形成された基板１と、ゲート電極３及び第１容量電極２を被覆するように基板上に形成された絶縁層４と、絶縁層４を介してゲート電極３と一部が対向するソース電極５と、絶縁層４を介してゲート電極３と一部が対向するドレイン電極６と、絶縁層４を介して第１容量電極２と対向する第２容量電極７と、を備える表示装置用基板において、第１容量電極２と第２容量電極７との間に位置する絶縁層４の厚みを、ゲート電極３とソース電極５との間及びゲート電極３とドレイン電極６との間に位置する絶縁層４の厚みより小さくする。 （もっと読む）

【課題】光利用効率の高い面発光光源を提供する。
【解決手段】基板１４の上にカソード電極１７、発光層１１およびアノード電極層１５がこの順で形成された面発光光源において、発光層１１を複数の発光領域に区画し、かつ、この発光層１１の端面と対向する面に反射面を有するカソード電極層１２を形成することで、発光層１１の端面から出射した光をカソード電極層１２が反射して、この光を照射面に導く。これにより、面発光光源１の端部から漏出する光を照明光として利用することができ、光の利用効率を高めることができる。 （もっと読む）

本開示は発光ダイオードの外部効率を向上させることに関し、また特に回折格子（２８０、２８３．２８６）を利用して有機発光ダイオード（２００）からの光の外部結合を強化することに関する。
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【課題】色度ずれや発光輝度（発光強度）のばらつきを抑制して、画像のにじみやぼけのない表示特性に優れた表示パネル、及び、該表示パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る表示パネルの製造方法は、トランジスタＴｒ１１、Ｔｒ１２のゲート絶縁膜１３のパターニング工程に先立って、各表示画素ＰＩＸに設けられる有機ＥＬ素子ＯＬＥＤの画素電極１２が基板１１上に直接形成され、その後にゲート絶縁膜１３上に形成されるトランジスタＴｒ１２のソース電極Ｔｒ１２ｓが上記画素電極１２に直接接続される。 （もっと読む）

【課題】成膜工程及びフォトリソグラフィー工程の繰り返し回数を低減しつつ、３原色を出射する各々の画素毎に異なる共振長を設定する。
【解決手段】第１の発光領域８５Ｒと、第３の発光領域８５Ｂと、に第１の層厚を有する第１の透明材料層５１を形成する第１の工程と、第２の発光領域８５Ｇと、第１の発光領域８５Ｒと、第３の発光領域８５Ｂと、の３つの発光領域を少なくとも含む領域に、第１の透明材料層５１に対して選択的にエッチング可能な第２の層厚を有する第２の透明材料層５２を形成する第２の工程と、第１の発光領域８５Ｒと第２の発光領域８５Ｇに形成された第２の透明材料層５２上にレジスト層７９を形成する第３の工程と、レジスト層７９で覆われていない領域の第２の透明材料層５２をエッチングして除去する第４の工程と、を順に行なうことを特徴とする表示装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】例えば、有機ＥＬ装置における陽極及び陰極間に生じる短絡不良を低減する。
【解決手段】基板（１０）上の画像表示領域（１１０）を構成する複数の画素領域（７０ｇ）の夫々に形成された陽極（９ａ）の一部が陽極（９ａ）上に向かって突出した部分である凸部（２０１）が露出するように陽極（９ａ）上にレジスト膜（２１０）を形成する。特に、レジスト膜（２１０）の膜厚を凸部（２０１）の高さより小さくすることによって、レジスト膜（２１０）を形成しただけでレジスト膜（２１０）から凸部（２０１）が露出することなり、レジスト膜（２１０）上からエッチング処理を施すことによって、レジスト膜（２１０）から露出した凸部（２０１）がエッチングされ、凸部（２０１）を簡単に除去可能である。 （もっと読む）

【課題】屈曲させた際に有機電界発光素子への応力負荷が抑制される構造を有する有機電界発光表示パネルを提供する。
【解決手段】剛性支持基材２１と、有機電界発光素子が存在する発光素子部２２と、発光素子部２２よりも剛性の低い可撓部２３とを配列した構造を有する。有機電界発光素子は、対向する可撓性を有するパネル支持層（下部パネル支持層１８、上部パネル支持層１９）により挟まれている。剛性支持基材２１は、有機電界発光素子の少なくとも一方の面と可撓性を有するパネル支持層（下部パネル支持層１８）との間に形成されている。 （もっと読む）

【課題】残存金属層に起因した短絡、誤動作、電圧低下等の不具合を抑制できる画像表示装置の製造方法およびそれに用いる露光マスクを提供する。
【解決手段】
露光マスクを介して前記レジストに光を照射する第１露光工程の後、前記露光マスクを前記第１露光工程における前記素子基板との位置関係とは異なる位置に配置して露光マスクを介して前記レジストに光を照射する第２露光工程を備えており、前記第４工程において、前記レジストのうち、各画素部の外形または各パターンの外形に対応する部分には、前記第１露光工程及び前記第２露光工程のうち、いずれか一方でのみ光が照射されるとともに、前記平坦化膜のエッジ部に対応する部分には、前記第１露光工程および前記第２露光工程のいずれでも光が照射されることを特徴とする。 （もっと読む）

複数の画素を有する有機半導体デバイスを製造する方法が提供される。この方法は、パターニングされたウェル画定バンク（３０８）の層を含む基板を設けることと、第１の導電材料（３１０，３１２）の層を、ウェル画定バンク（３０８）上とウェル内に形成することであって、第１の導電材料が、ウェル内に第１の電極（３１０）を形成し、前記第１の電極との間に電気的断絶部を有するバスバー（３１２）をウェル画定バンク（３０８）上に形成することと、ウェル内において有機半導体層（３１８）を第１の電極（３１０）上に形成することと、第２の導電性材料（３２０）の層を有機半導体層（３１８）とバスバー（３１２）の両方の上に形成して、連続的な第２の電極（３２０）を有機半導体層（３１８）及びバスバー（３１２）の上に形成することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】製造工程の複雑化及び薄膜トランジスタの特性劣化を引き起こす、紫外線照射による、表示装置の電極表面の洗浄工程を省いた、新規な表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１上に駆動回路と発光部を形成する表示装置の製造方法である。発光部を形成する工程は、発光層に電荷を印加する透明アノード電極８を形成する工程と、透明アノード電８上に第１の被覆層９と第２の被覆層１０を形成する工程と、第２の被覆層１０をマスクとして第１の被覆層９をエッチングにより除去する工程と、第１の被覆層９が除去された透明アノード電極８上に発光層を含む層を形成する工程と、を有する。透明アノード電極８は、紫外線照射による洗浄を施したものと同等に清浄な表面となる。 （もっと読む）

【課題】導電性インクで配線を形成する場合に、配線形成の生産性および微細加工性を高め、配線の上層に形成されるデバイスまたは配線の断線の可能性を低くしてデバイスの信頼性を高める配線基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】基板の上に、少なくとも硬化した後に絶縁体となる樹脂層を塗布する段階と、樹脂層に溝を形成する段階と、少なくとも硬化した後に導電性となる導電性インクを、溝の領域に選択的に供給する段階と、を備える配線基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】表示素子の性能に影響を与えることなく、高精度なパターニングの可能なパターニング方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも１つの有機領域と、少なくとも１つの無機領域とからなるガスバリア層を有する表示素子用基板のパターニング方法であって、ウェットエッチングを行い、かつ、該エッチングに、弱酸または弱塩基のエッチング液を用いることを特徴とする表示素子用基板のパターニング方法。 （もっと読む）

【課題】抑制された製造コストでの、ソース・ドレイン等電極の間あるいは配線の間の微細加工を実現する。
【解決手段】透光性の基板と、基板の上に形成された遮光性ソース／ドレイン電極と、遮光性ソース／ドレイン電極が属する平面に形成され、遮光性ソース／ドレイン電極との間に間隙を挟んで配置された透光性ソース／ドレイン電極と、遮光性ソース／ドレイン電極と透光性ソース／ドレイン電極との間の間隙に形成されたチャネル層と、間隙に形成されたチャネル層に電界を印加するゲート電極と、を備える薄膜能動素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】薄くて割れにくい発光素子または表示素子を提供する。
【解決手段】樹脂フィルムまたは樹脂層と、ガラス基板と、発光デバイス積層体または表示デバイス積層体と、ガスバリアフィルムとを、該順に有する、発光素子または表示素子。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ、Ａｌ添加ＺｎＯ（ＺＡＯ）等の透明導電層を陽極として用い、Ｒ，Ｇ，Ｂ三色に対応させる場合、Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に層厚を変えてスパッタを行い、フォトリソグラフ・エッチング技術によりパターニングを行う必要がある。このように発光色毎に透明導電層の層厚を変える場合は成層（スパッタ）・フォトリソグラフ・エッチング工程を３度繰り返す必要があり、多くの資材と時間を要するという課題がある。
【解決手段】バンク部２１６を形成した後、液滴吐出法によりバンク部２１６内にエッチング液を供給し、透明導電層のエッチングを行う。エッチング条件を変えることで陽極２３（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の厚さを各発光色に適した厚さとなるよう制御する。各発光色に対応する島状導電層の厚さを制御する。そのため、島状導電層の厚さを各発光色の波長と合わせて設定することが可能となり、発光効率の向上をはかることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、量子ドットを含有する発光層を有し、リフトオフ法により発光層を安定してパターニングすることが可能であり、寿命特性が良好なＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、第１電極層が形成された基板上にフォトレジスト層を形成するフォトレジスト層形成工程と、上記フォトレジスト層をパターン露光し、現像して、発光領域の上記フォトレジスト層が除去されるように上記フォトレジスト層をパターニングするフォトレジスト層パターニング工程と、上記フォトレジスト層がパターン状に形成された上記基板上に、周囲にシランカップリング剤が配置された量子ドットを含有する発光層形成用塗工液を塗布し、硬化して、発光層を形成する発光層形成工程と、残存する上記フォトレジスト層を除去して、上記フォトレジスト層上の上記発光層をリフトオフする発光層パターニング工程とを有することを特徴とするＥＬ素子の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークの検出精度が高いマスクを容易に製造できるマスクの製造方法及びマスクを提供すること。
【解決手段】単結晶シリコン基板で形成されたアライメント基板５の面方位によりエッチングレートが異なるエッチャントを用いたウェットエッチングにより、アライメント基板５の一面を粗面化する工程と、アライメント基板５に、被成膜基板との位置合わせに用いるマスクマークを形成してアライメントチップ３を製造する工程と、被成膜基板に形成される薄膜パターンの少なくとも一部の形状に対応する開口部が形成されたマスクチップを製造する工程と、アライメントチップ及びマスクチップを、支持基板上に固定する工程とを備える。 （もっと読む）