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Fターム[3K107GG12]の内容

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【課題】平板ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板102と、基板102の上部に備えられ、それぞれ赤色、緑色及び青色の光を放出する副画素を備えた複数の画素と、副画素の上部に備えられた光共振層121と、を備え、光共振層121は、二つ以上の層1211、1212を備え、副画素から放出される光の波長によって光共振層の厚さが異なることを特徴とする平板ディスプレイ装置。 (もっと読む)


【課題】第2電極の外側に有機発光層が露出されないようにする有機電界発光素子を提供して寿命を向上させることを目的とする。
【解決手段】本発明による有機電界発光素子は、相互に向かい合って離隔されている第1基板及び第2基板と;第1基板の内部面に形成された第1電極と;第1部分及び第2部分を備え、第1電極の下部に形成されて第1部分及び第2部分各々が相互に向かって突出される折曲パターンと、折曲パターンによって部分的に囲まれるパターンとで構成される隔壁と;第1電極の下部に第1の厚さで形成される有機発光層と;有機発光層の下部に形成される第2電極と;第2基板の内部面に形成されて薄膜トランジスタを備えるアレイ素子と;第2電極と薄膜トランジスタを電気的に連結させる連結パターンとを含む。 (もっと読む)


本発明はマトリクス平面ディスプレイアクティブプレートを製造する方法に関するものであり、各セルが電極プレート(1)を備え、そのプレートはトランジスタ(2)により第1導電ラインに接続されており、各セルの位置にある各第1導電ラインが有している絶縁体に覆われた隆起部(11)を形成するステップと、各隆起部の端部をエッチングまたは多孔質化するステップと、エッチングまたは多孔質化された各端部に、VLS工程を用いてp-i-pまたはn-i-n半導体構造を成長させるステップと、該半導体構造の開放端にコンタクトを設置し、前記半導体構造の中央部分にゲートを形成するステップとを有することを特徴とする。
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【課題】工程短縮及び工程費用の減少が可能なCMOS薄膜トランジスタ及びそれを用いたOELD装置の製造方法を提供する。
【解決手段】第1及び第2TFT領域を有する基板を提供する段階と、基板上にゲート電極を形成する段階と、ゲート電極を含んだ基板全面上にゲート絶縁膜を形成する段階と、ゲート絶縁膜の所定領域上にマスクを利用して半導体層を形成する段階と、ゲート電極を利用してマスクを背面露光する段階と、背面露光されたマスクを利用して第1及び第2TFT領域の半導体層にn型不純物イオンを注入してチャネル領域及びソース/ドレイン領域を形成する段階と、背面露光されたマスクの両側面を灰化する段階と、灰化されたマスクを利用して、第1及び第2TFT領域の半導体層に低濃度不純物イオンを注入してLDD領域を形成する段階、及び第2TFT領域の半導体層にp型不純物イオンを注入してソース/ドレイン領域を形成する段階と、を含む。 (もっと読む)


【課題】あまり狭い幅の隔壁は形成できないため、高精細化することが困難であり、さらに発光素子としての開口率が低いという問題点があった。また、陽極が設けられた基板をEL材料を蒸着する装置に搬送する際には、静電破壊の恐れやゴミが付着する恐れがある。
【解決手段】絶縁表面を有する基板上に第1の電極と、第1の電極上に接して設けられた発光層と、発光層上に設けられた第2の電極とを有する発光素子と、を備えた発光装置であって、第1の場所で基板上にTFTおよび第1の電極を形成し、第1の電極の端部を覆う第1の隔壁を形成し、露呈している第1の電極の表面を研磨し、第1の電極および第1の隔壁を覆って全面に有機樹脂膜を形成し、第2の場所で有機樹脂膜をエッチングして第1の隔壁の側壁となる第2の隔壁を形成し、且つ、画素電極を露呈させた後、大気に触れさせることなく、第1の電極上に発光層を形成し、発光層上に第2の電極を形成する。 (もっと読む)


本発明は、複数の画素を有する上面発光ディスプレイ装置であって、前記装置は、基板上に形成されたアノード、ウェルを規定する層であって、前記ウェルを規定する層の厚さは蒸発マスクのスペーサーとして機能するには不十分である層、前記複数の画素を形成するために前記ウェルを規定する層の各壁内のアノード上に形成された有機電子発光層、電子発光層および前記ウェルを規定する層の上部表面上の金属層の両者の上に形成されるように蒸着された透明カソード層から構成され、前記金属層および前記ウェルを規定する層は自己規定され、前記金属層は前記ウェルを規定する層のパターニングに使用されたマスクと同じマスクからパターニングされることを特徴とする上面発光ディスプレイ装置を提供する。 (もっと読む)


ディスプレイの形成方法を記載する。ディスプレイは、酸化亜鉛行ドライバーおよび酸化亜鉛列ドライバーを酸化亜鉛ピクセルトランジスターと有機発光ダイオードと同一のディスプレイ基板上に一体化して有する。有機発光ダイオードは、少なくとも部分的には、ドナーシートからの熱転写プロセスを用いて作製される。
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【課題】有機EL発光層を発した光が上部電極内を横方向に伝搬することを抑制し、ならびに上部電極における電圧降下および発熱を抑制し、有機EL発光層の発光効率を向上させるために、上部透明電極の抵抗値をできる限り小さくすることできる有機EL発光素子の製造方法の提供。
【解決手段】反射性電極および有機EL発光層を形成された基板に、透明導電性酸化物層を積層する工程と;透明導電性酸化物層の上に反射層を均一に積層する工程と;反射層の上にパターニングされたレジストを設け、透明導電性酸化物層をエッチストップ層として用いて、反射層をエッチングする工程と;反射層よりも薄い上部透明電極を積層する工程とを具え、上部透明電極が有機EL発光層からの発光を透過させる領域に設けられ、反射層が該領域の周囲に形成されることを特徴とする有機EL発光素子の製造方法。 (もっと読む)


方法およびディスプレイは、ZnOチャネルを備えた画素トランジスタを制御するZnOチャネルを備えた行および列ドライバを利用し、次いで、アレイのOLEDをアドレス指定して、ディスプレイ画面の画像を生成する。ZnOの行および列ドライバとOLEDとを備えるディスプレイバックプレーンが、アパーチャマスキングまたはフォトリソグラフィとアパーチャマスキングとの組み合わせを利用することにより構成されてもよい。これによって、ZnOの行および列ドライバとZnO系画素トランジスタとのモノリシック集積が達成される。
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2ステップのエッチングを用いて、より大きいELパネルから切断されたELパネルの前電極へのアクセスを与える。当該2ステップのエッチングは、後電極(18)を前電極(12)から電気的に絶縁するセット・バック(52)を生成し、そして導電層(65)を前電極上に容易に被着するのを可能にする。キットは、必要な材料及び本方法を実施するための指図書を含む。
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本発明は、コア軸線を有する細長状のコアの形態に基部(11)を形成することにより、ファイバ又はフィラメント(10)を得る方法に関するものである。電気的に変調しうる少なくとも1つの光学特性を有する物質(13)で前記基部を直接又は間接的に被覆し、前記基部及び前記物質の双方又はいずれか一方と関連させて、前記コア軸線に対しほぼ平行な方向、又は前記コア軸線を中心とするほぼ円周的に延在する方向の電界を生じるように電気鼓舞手段(12)を構成し、前記電界により前記物質の光学特性を電気的に変化させ、これによりファイバ又はフィラメントの外観を変化させるようにする。
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フラットパネルディスプレイ(LDC、ELD、プラズマディスプレイ、LED、OLED)、タッチパネル、光学フィルター、太陽電池および他の用途における透明な電極を製造するのに適した2層型透明導体スキームが提示される。上層は典型的にインジウム・スズ酸化物からなり、より薄い下層はAlでドープされた酸化亜鉛(AZO)、または酸化ガリウムでドープされたZnO(GZO)、またはAlおよびGaの両方でドープされたZnO(AGZO)からなる。下層は上層よりも顕著に高い湿式化学エッチング速度を有し、これにより上部のITO層のより迅速でより均一なエッチングを可能にし、そうしてITO「アイランド」の形成を防止する。 (もっと読む)


トランジスタのチャネル長を規定する長さLによって分離される電子注入電極及び正孔注入電極と接触する有機半導体層を備え、発光元の有機半導体層の領域は、電子注入電極及び正孔注入電極の両方からL/10より離れている両極性発光トランジスタ。
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本発明は、基板(5)に形成され、かつ、少なくとも1つの光放出層(9)及び該光放出層の上又は上方に堆積された少なくとも1つの電極層(10)すなわちカソードを備える複数の表示画素(3)を有する表示パネル(1)に関する。表示パネル(1)はさらに、電極層(10)に分路を設ける導電構造(7)を有する。好ましくは、表示画素(3)を分離する隔壁構造が導電構造(7)として用いられる。本発明は、適当な透明性と合理的な低電気抵抗とを兼ね備えたカソード(10)を提供する。
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本発明は、単層の絶縁膜パターンで素子分離が可能となるようにして製造工程の単純化及び製造コストを低減させることができる有機ELディスプレイの製造方法に関する。本発明は、基板上に縞状の複数の第1電極を形成する段階と、複数の第1電極を含む基板上に絶縁膜を形成する段階と、絶縁膜をパターニングして、複数の第1電極と直交する第1領域と複数の第1電極の間の第2領域上に格子状の第1絶縁膜パターンを形成する段階と、第1領域上の第1絶縁膜パターンの一部の上層部を最小限に除去し、第2領域上の第1絶縁膜パターンの上層部を除去して第2絶縁膜パターンを形成する段階と、複数の第1電極上に有機発光層を形成する段階と、複数の有機発光層上に複数の第2電極を形成する段階とを含むことを特徴とする。

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