【課題】高い電界効果移動度を有し、しきい値電圧のばらつきが小さく、かつ高い信頼性を有する酸化物半導体を用いたトランジスタを提供する。また、該トランジスタを用い、これまで実現が困難であった高性能の半導体装置を提供する。
【解決手段】トランジスタに、インジウム、スズ、亜鉛およびアルミニウムから選ばれた二種以上、好ましくは三種以上の元素を含む酸化物半導体膜を用いる。該酸化物半導体膜は、基板加熱しつつ成膜する。また、トランジスタの作製工程において、近接の絶縁膜または／およびイオン注入により酸化物半導体膜へ酸素が供給され、キャリア発生源となる酸素欠損を限りなく低減する。また、トランジスタの作製工程において、酸化物半導体膜を高純度化し、水素濃度を極めて低くする。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で、抵抗値が低く、電流の均一性に優れ、かつ長期保存での導電性の劣化がなく、安定性の高い透明導電性基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板２上に、金属を含有する細線電極３と導電性ポリマー含有層４とが形成され、該細線電極３が金属粒子及び溶剤を含有する導電性インクにより形成され、該導電性インクを基板２上に付与した後、該導電性インクの焼成温度Ｔ_０（℃）より低く、かつ該導電性インク成分の揮発温度Ｓ_Ｔ（℃）よりも高い温度Ｔ_１（℃）でＳ_１（分）加熱された後に、焼成温度Ｔ_０（℃）でＳ_２（分）加熱され、かつ該焼成温度Ｔ_０（℃）と該溶剤の揮発温度よりも高い温度Ｔ_１（℃）との差が、２００℃＞Ｔ_０−Ｔ_１＞５０℃の関係を満たす透明導電性基板１を形成する。 （もっと読む）

【課題】寿命を改善し、信頼性を向上させることが可能な有機ＥＬ素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１上に光透過性の陰極２、有機発光層４ｂ、４ｃ、金属材料からなる陽極５を少なくともこの順に積層形成してなる有機ＥＬ素子であって、陽極５の形成後に９０℃以上１４０℃以下で熱処理を行ってなることを特徴とする。前記熱処理を、電圧無印加状態で行ってなることを特徴とする。前記熱処理を、有機発光層４ｂ、４ｃを主に構成する有機材料のガラス転移温度Ｔｇ+１０℃以下で行ってなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
有機ＥＬ素子の材料や構造を変更することなく、駆動電圧を低く抑え、かつ電流効率を容易に向上させることができる有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】
一対の電極間に少なくとも有機層を狭持してなる有機ＥＬ素子の製造方法であって、有機ＥＬ素子を形成する第一工程後に、前記有機ＥＬ素子の素子容量を増加させる第二工程を有し、前記第二工程は、前記有機ＥＬ素子を加熱処理をしながら、逆バイアスを所定時間印加する製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高い配向度、高い外部量子効率および高い耐久性を満足することができる有機電界発光素子を転写により作製するためのドナーシートを提供すること。
【解決手段】支持体上に、少なくとも、電荷輸送性化合物を含有する有機層と、ホスト化合物及びアスペクト比が３より大きい発光性化合物を含有する有機層とをこの順に有し、前記少なくとも２層の有機層は転写により同時に転写される層である、有機電界発光素子用ドナーシート。なお、前記発光性化合物のアスペクト比は、前記ホスト化合物として、非液晶性のホスト化合物を使用する際は（分子長／分子厚み）と定義し、液晶性のホスト化合物を使用する際は（分子コア直径／分子コア厚み）と定義する。 （もっと読む）

【課題】、発光素子に熱的なダメージを与えずに、該発光素子が形成された素子基板と封止基板を貼り合わせ、エレクトロルミネセンス材料を用いたエレクトロルミネセンス装置を提供する。
【解決手段】ＥＬ素子１０４が設けられた素子基板１０２と、該素子基板１０２に対向して張り合わされる封止基板１０６の一方又は双方の外周部に少なくとも二種類の金属層が積層された異種金属積層シート１０８を挟み込み、該シート部分に集光ビームを照射して、該照射部分を加熱することで少なくとも二種類の金属を合金化させ、その合金化に伴う発熱で素子基板１０２と封止基板１０６を貼り合わせる。 （もっと読む）

【課題】高いバリア性能を有し、尚且つ連続生産性に優れたガスバリア性フィルムの製造方法を提供すること、及び該ガスバリア性フィルムの製造方法を用いたガスバリア性フィルムを提供することである。
【解決手段】本発明によれば、基板を用意する工程と、基板の少なくとも一方の面に、金属の硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、炭酸塩、酢酸塩および蓚酸塩からなる群から選択される少なくとも一種の金属塩を含む前駆体層を形成する工程と、前記前駆体層を変換処理し、金属酸化物、金属窒化物および金属酸窒化物からなる群から選択される少なくとも一種を含むガスバリア性層を形成する工程と、を含む、ガスバリア性フィルムの製造方法、および、前記方法を用いて製造したガスバリア性フィルムが提供される。 （もっと読む）

【課題】ウェットプロセスで成膜した後、熱処理を行うことにより形成した電子輸送層を含む有機機能層を有する有機ＥＬ素子の製造方法において、従来の有機ＥＬ素子よりも、さらに低電圧駆動及び発光寿命の長寿命化を実現できる有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、一対の電極と、前記一対の電極の間に少なくとも発光層及びガラス転移点が異なる２種以上の材料からなる電子輸送層を含む有機機能層と、を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記電子輸送層は、ウェットプロセスで成膜した後、熱処理を行うことにより形成され、かつ、前記２種以上の材料の全質量のうち、前記熱処理の温度よりも低いガラス転移点を有する材料を０．１質量％以上３０質量％以下含有する。 （もっと読む）

【課題】第一及び第二のマザー基板１，２間に、所定の領域を囲む枠状の接合材４を複数箇所配置し、この接合材４を局部加熱により順次加熱軟化させて第一及び第二のマザー基板１，２を接合し、第一及び第二のマザー基板１，２を接合材４間で切断して気密容器１１を多面取り製造するに際し、第一及び第二のマザー基板１，２の合わせ位置ずれを防止できるようにする。
【解決手段】接合材４をＭ行×Ｎ列（但し、Ｍ及びＮは３以上の整数）設け、この接合材４を局部加熱により順次加熱軟化させるに際し、最初に加熱軟化させる接合材４を、行方向の両隣と列方向の両隣にそれぞれ隣接する他の接合材４が存在する接合材４とする。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いるトランジスタにおいて、電気特性の良好なトランジスタ及びその作製方法を提供する。
【解決手段】下地絶縁膜上に形成される酸化物半導体膜と、当該酸化物半導体膜とゲート絶縁膜を介して重畳するゲート電極と、酸化物半導体膜に接し、ソース電極及びドレイン電極として機能する一対の電極とを備えるトランジスタであり、下地絶縁膜は、酸化物半導体膜と一部接する第１の酸化絶縁膜と、当該第１の酸化絶縁膜の周囲に設けられる第２の酸化絶縁膜とを有し、トランジスタのチャネル幅方向と交差する酸化物半導体膜の端部は、第２の酸化絶縁膜上に位置するものである。 （もっと読む）

【課題】安定した電気特性を有する薄膜トランジスタを有する、信頼性のよい半導体装置
を提供することを課題の一とする。また、高信頼性の半導体装置を低コストで生産性よく
作製することを課題の一とする。
【解決手段】チャネル形成領域を含む半導体層、ソース領域及びドレイン領域を酸化物半
導体層とする薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、酸化物半導体層
の純度を高め、不純物である水分などを低減する加熱処理（脱水化または脱水素化のため
の加熱処理）を行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、有機ホウ素化合物を含有する電子注入輸送層を有する有機ＥＬ素子において、効率や寿命等の特性に優れる有機ＥＬ素子を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、陽極と、上記陽極上に形成された発光層と、上記発光層上に形成され、有機ホウ素化合物を含有し、結晶構造を有する電子注入輸送層と、上記電子注入輸送層上に形成された陰極とを有することを特徴とする有機ＥＬ素子を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化する。
【解決手段】酸化物半導体膜を含むトランジスタの作製工程において、少なくとも酸化物半導体膜中に希ガスイオンを注入する注入工程を行い、減圧下、窒素雰囲気下、又は希ガス雰囲気下において、希ガスイオンを注入した酸化物半導体膜に加熱工程を行って希ガスイオンを注入した酸化物半導体膜中に含まれる水素若しくは水を放出させ、酸化物半導体膜を高純度化する。 （もっと読む）

【課題】第一及び第二の基板１，２を、両基板１，２間に密閉空間を規定する接合材で接合した気密容器３０について、接合材がガラスフリットのような脆性材料であっても良好な接合強度と気密性が得られるようにすることを目的とする。
【解決手段】両基板１，２間に密閉空間を規定する第一の接合材４１の両側に設けられた第二の接合材４２が、両基板１，２間に挟み込まれて、第一の接合材４１と共に両基板１，２を接合しており、しかも第一の接合材４１の高さが第二の接合材４２の高さより高く、両基板１，２が、少なくとも一方が弾性変形して第一の接合材４１及び第二の接合材４１で接合されていることにより、第一の接合材４１の高さ方向に圧縮力が加えられている気密容器３０とする。 （もっと読む）

【課題】有機電界発光素子の作製に用いると、有機電界発光層に非発光エリアが発生するのを防止でき、経時による非発光エリアの拡大を大幅に改善することができる透明導電性基板及び該透明導電性基板の製造方法、並びに前記透明導電性基板を有する有機電界発光素子の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に開口部を有する金属パターン層９と、該金属パターン層９上に透明導電層４と、を有する透明導電性基板であって、前記金属パターン層９がゼラチン２を含有し、前記透明導電性基板の含水量が０．５μｇ／ｃｍ^２以下である透明導電性基板である。 （もっと読む）

【課題】低コストかつ簡便な透明導電膜の製造方法である塗布法によって形成される、高い導電性を有し、かつ良好な膜強度と優れた透明性を兼ね備える透明導電膜、及びこの透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化焼成工程が乾燥塗布膜を酸素含有雰囲気下で、少なくとも無機成分の結晶化が起こる焼成温度以上まで昇温して、有機成分を熱分解または燃焼、或いは熱分解並びに燃焼により除去し、ドーパント金属化合物を含みインジウム酸化物を主成分とする導電性酸化物微粒子が緻密に充填した導電性酸化物微粒子膜を形成する工程で、還元焼成工程が、少なくとも水素０．１体積％以上と水蒸気を含有し、かつ露点温度が−５５℃〜３０℃の還元雰囲気下で、３００℃以上の温度で焼成を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性に優れた透明ガスバリア層を、高温に加熱せずとも、層形成時の窒化および酸化を精密に制御することで効率よく製造することが可能な、透明ガスバリア層の製造方法を提供する。
【解決手段】 スパッタリング法により透明ガスバリア層を製造する透明ガスバリア層の製造方法であって、炭化金属および炭化半金属から選択される少なくとも１種の炭化物を含むターゲット１７を用い、反応性ガスとして窒素ガスを用い、前記反応性ガスがさらに酸素ガスおよび水素ガスを含み、前記反応性ガスにおいて、前記窒素ガスに対する前記酸素ガスの混合比率が１〜１０体積％であり、前記窒素ガスに対する前記水素ガスの混合比率が０．１〜３０体積％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】安定した製造およびデバイスの特性を改善することが可能な有機ＥＬ表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】複数の下部電極１４上に正孔注入層１６Ａおよび正孔輸送層１６Ｂを共通層として塗付法を用いて形成する。正孔輸送層１６Ｂ上の全面に塗付法により黄色発光層１６Ｃを形成したのち、黄色発光層１６Ｃの一部を結晶化することにより結晶部１６ＣＡを形成する。黄色発光層１６Ｃ上の全面に接続層１６Ｄ，青色発光層１６Ｅ，電子輸送層１６Ｆおよび電子注入層１６Ｇを蒸着法により形成する。電子注入層１６Ｇ上に上部電極１７を形成する。 （もっと読む）

【解決課題】輝点密度が高く、発光輝度を向上させる分散型無機ＥＬ素子を与える硫化亜鉛蛍光体粒子を提供する。
【解決手段】長軸長／短軸長で表される軸長比が１．０５〜１．５０の硫化亜鉛蛍光体粒子であって、長軸が前記粒子における硫化亜鉛立方晶の面状欠陥と平行であり、かつ前記長軸を法線とする面から硫化亜鉛蛍光体粒子を観察して得られる硫化亜鉛蛍光体粒子像の、円形度＝Ｌ^２／４πＡ（Ｌ：前記面から見た場合に観察される硫化亜鉛蛍光体粒子像の円周長、Ａ：前記面から見た場合に観察される硫化亜鉛蛍光体粒子像の面積）で定義される円形度が１．２５０以下である、硫化亜鉛蛍光体粒子およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】機能層を有する有機ＥＬ装置の特性（品質）が低下することを抑えることが可能な有機ＥＬ装置の製造方法、及び有機ＥＬ装置の製造装置を提供する。
【解決手段】基板３１上の発光領域４２を区画するためにバンク６２を形成する工程と、バンク６２で囲まれた領域に機能液を吐出する工程と、機能液を乾燥して機能層２６を形成する工程と、機能層２６と大気とが触れない状態で機能層２６の上側をラミネートフィルム３８でラミネートする工程と、を有する。 （もっと読む）