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Fターム[3K107GG28]の内容

エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | 製造方法、装置 (15,131) | 製造又は処理の条件、雰囲気 (2,639)

Fターム[3K107GG28]に分類される特許

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【課題】第一及び第二の基板1,2を、両基板1,2間に密閉空間を規定する接合材で接合した気密容器30について、接合材がガラスフリットのような脆性材料であっても良好な接合強度と気密性が得られるようにすることを目的とする。
【解決手段】両基板1,2間に密閉空間を規定する第一の接合材41の両側に設けられた第二の接合材42が、両基板1,2間に挟み込まれて、第一の接合材41と共に両基板1,2を接合しており、しかも第一の接合材41の高さが第二の接合材42の高さより高く、両基板1,2が、少なくとも一方が弾性変形して第一の接合材41及び第二の接合材41で接合されていることにより、第一の接合材41の高さ方向に圧縮力が加えられている気密容器30とする。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化する。
【解決手段】酸化物半導体層を含むトランジスタの作製工程において、酸化シリコン膜上に、酸化物半導体が結晶状態における化学量論的組成比に対し、酸素の含有量が過剰な領域が含まれている非晶質酸化物半導体層を形成し、該非晶質酸化物半導体層上に酸化アルミニウム膜を形成した後、加熱処理を行い該非晶質酸化物半導体層の少なくとも一部を結晶化させて、表面に概略垂直なc軸を有している結晶を含む酸化物半導体層を形成する。 (もっと読む)


【課題】蒸発源の冷却時間を短縮する。
【解決手段】蒸着準備工程では、蒸着材料30を収納する坩堝13、坩堝13を加熱する加熱部14、および坩堝13内で気体化した蒸着材料30を被処理物に向かって放出するノズル12、を備える蒸発源10、および被処理物を真空チャンバ内に配置する。次に、坩堝13に収納された蒸着材料30を加熱部14により加熱して、気体化した蒸着材料ガスを発生させ、被処理物に蒸着膜を形成する。次に、蒸発源10の外側からノズル12を介して坩堝13内にガス26を供給し、かつ、加熱部14を停止させて坩堝13を冷却する。 (もっと読む)


【課題】塗布ムラが抑えられ安定した膜厚の着色層を有する有機EL装置の製造方法、およびこの有機EL装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の有機EL装置の製造方法は、複数の発光素子と、複数の発光素子を覆うガスバリア層と、を有する素子基板に対して、ブラックマトリクスの前駆体を形成する工程と、ブラックマトリクスの前駆体に発光素子に対応した開口部を形成する工程(ステップS5)と、少なくとも開口部に着色層を形成する工程(ステップS6)と、透明保護基板に充填層を形成する工程(ステップS7)と、素子基板と透明保護基板とを貼り合わせる工程(ステップS8)と、透明保護基板をマスクとして、少なくとも外部接続用端子が露出するようにブラックマトリクスを除去する工程(ステップS9)と、を有する。 (もっと読む)


【課題】有機電子デバイス、特に有機エレクトロルミネッセンスパネルの本来の性能を低下させることなく、製造工程で混入した異物に対し段差被覆性、水蒸気透過率、成膜速度を向上させる条件でパッシベーション膜を成膜することにより、成膜時間を短縮し、かつ信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンスパネルを提供する。
【解決手段】少なくとも第一電極、有機発光層を含む有機発光媒体層、第二電極、パッシベーション層を基板上に備えた有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であって、前記パッシベーション層は3層以上から構成され、パッシベーション層最下層の被覆率が60%以上かつ水蒸気透過率が0.05g/m2/day、パッシベーション層中段層の被覆率が70%以上、パッシベーション層最上層の水蒸気透過率が0.01g/m2/dayであり、各層それぞれが異なる開口のマスクでパターニング成膜されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電源電圧の不均一による画面内のムラを抑えると共に、非発光点などの品質不良への影響を抑えることが可能な表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板の表示領域内に設けられた複数の第1電極と、複数の第1電極の間の電極間領域に設けられた補助電極と、電極間領域に、補助電極の外形線の一部に沿って設けられた隔壁と、表示領域に設けられると共に、隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を露出させている、発光層を含む有機層と、有機層の上面および補助電極の上面に設けられた第2電極とを備えた表示装置。 (もっと読む)


【課題】不活性ガスを印刷装置の設置された空間全体に行き渡らせることなく、基板上に塗布された印刷材料の劣化を抑えることができる印刷装置及び印刷方法を提供する。
【解決手段】印刷装置1は、基板Wを載置するとともに搬送するステージ22を有している。ステージ22は、印刷処理時における基板Wの搬送方向であって、基板Wよりも下流側に、不活性ガスを噴射可能なスリットノズル2221を有している。このようなスリットノズル2221が、パターン形成処理が行われている基板Wに対して、基板Wの搬送方向の下流側から基板Wの表面近傍に向けて不活性ガスを噴射する。 (もっと読む)


【課題】大型基板への対応が可能で、材料使用効率の高いインクジェット方式を始めとする塗布方式にて、簡易で安価に製造が可能であり、機能層の白抜け、または、混色による表示不良の無い、高品質なカラーフィルタや有機EL等の光学素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂硬化物により形成され且つ支持基板10の面上を複数の領域30に区画する隔壁を形成する隔壁パターン20と、複数の領域30にそれぞれ形成された複数の画素を有する光学素子の製造方法であって、撥インク性を有する樹脂組成物により支持基板10の面上を複数の領域30に区画する領域区画工程と、領域区画工程で支持基板10の面上を複数の領域30に区画した樹脂組成物にマイクロ波を照射して、樹脂組成物の硬化を促進させるマイクロ波照射工程を含む。 (もっと読む)


【課題】ラミネート装置を使用して撥液材料層を安定して薄膜形成用基板に転写することができる有機EL装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例の有機EL装置の製造方法は、隔壁(凸部17)が形成された基板37をあらかじめ加熱する工程と、撥液材料が塗布されたフィルム32をローラー26によって基板37に押圧して撥液材料層34を隔壁(凸部17)の頭頂部に転写する転写工程と、機能層形成材料を含む液状体を隔壁によって区画された領域に塗布する塗布工程と、塗布された液状体を乾燥し機能層を形成する乾燥工程を備え、転写工程は基板37がローラー26と接触する時に所定の圧力よりも低い圧力で基板37とフィルム32とを接触させ、所定の時間経過後に所定の圧力より高い圧力で押圧するプロセスと、所定の圧力で押圧するプロセスとを有する。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、信頼性の高い半導体装置を提供する。
【解決手段】酸化物半導体膜を含むトランジスタの作製工程において、酸化物半導体膜に酸素ドープ処理を行い、その後、酸化物半導体膜及び酸化物半導体膜上に設けられた酸化アルミニウム膜に対して熱処理を行うことで、化学量論的組成比を超える酸素を含む領域を有する酸化物半導体膜を形成する。該酸化物半導体膜を用いたトランジスタは、バイアス−熱ストレス試験(BT試験)前後においてもトランジスタのしきい値電圧の変化量が低減されており、信頼性の高いトランジスタとすることができる。 (もっと読む)


【課題】 ガスバリア性に優れた透明ガスバリア層を、高温に加熱せずとも、層形成時の窒化および酸化を制御することで効率よく製造することが可能な、透明ガスバリア層の製造方法を提供する。
【解決手段】 スパッタリング法により透明ガスバリア層を製造する透明ガスバリア層の製造方法であって、炭化金属および炭化半金属から選択される少なくとも1種の炭化物を含むターゲット17を用い、反応性ガスとして窒素ガスおよび酸素ガスを含む混合ガスを用い、前記反応性ガスにおいて、前記窒素ガスに対する前記酸素ガスの混合比率が1〜10体積%であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低コストかつ簡便な透明導電膜の製造方法である塗布法によって形成される、高い導電性を有し、かつ良好な膜強度と優れた透明性を兼ね備える透明導電膜、及びこの透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化焼成工程が乾燥塗布膜を酸素含有雰囲気下で、少なくとも無機成分の結晶化が起こる焼成温度以上まで昇温して、有機成分を熱分解または燃焼、或いは熱分解並びに燃焼により除去し、ドーパント金属化合物を含みインジウム酸化物を主成分とする導電性酸化物微粒子が緻密に充填した導電性酸化物微粒子膜を形成する工程で、還元焼成工程が、少なくとも水素0.1体積%以上と水蒸気を含有し、かつ露点温度が−55℃〜30℃の還元雰囲気下で、300℃以上の温度で焼成を行うことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低コストかつ簡易なプロセスで製造することが可能な表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置1は、酸化物半導体よりなる半導体層12上の選択的な領域(チャネル領域12A)に、ゲート絶縁膜13を介してゲート電極14が設けられ、そのチャネル領域12Aに隣接する領域(ソース・ドレイン接続領域12B)にソース・ドレイン電極層16が電気的に接続される。半導体層12では、これらのチャネル領域12Aおよびソース・ドレイン接続領域12Bとは異なる領域(画素電極部12C)がアノードとして利用される。製造プロセスにおいて、フォトマスク、フォトレジストなどの使用部材を減らし、工程数を削減することができる。 (もっと読む)


【課題】引張り力に対する接合強度及び気密性を高める。
【解決手段】気密容器11は、互いに対向する第一及び第二の基板2,3と、第一の基板と第二の基板との間を、第一の基板と第二の基板の間に第一の密閉空間7aを規定するように周状に延びる第一のシール部4aと、第一の基板と第二の基板との間を、第一のシール部と間隔を空けて第一のシール部の外側を周状に延び、第一及び第二の基板並びに第一のシール部とともに第二の密閉空間6aを規定する第二のシール部5aと、を有し、第二の密閉空間6aの圧力P2が気密容器11の外側圧力P1よりも低い。 (もっと読む)


【課題】大形基板への対応が可能で、材料使用効率の高いインクジェット方式等を始めとする塗布方式において簡易で安価に製造が可能であり、機能層の膜厚ムラ、白抜け、及び混色等による表示不良の無い、高品質なカラーフィルタや有機EL等の光学素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】機能層パターンを区分けする隔壁パターン20を形成し、隔壁パターン20の上表面に撥インク性層22を形成し、隔壁パターン20によって区分けされて成る開口領域内に柱形状のスペーサー40を形成し、開口領域に機能層形成インクを塗布することにより当該開口領域に機能層を形成する。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子からの光取り出し効率を高めることができる反射斜面を形成でき、駆動回路と電極の接続不良を抑制できる有機EL表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、駆動回路と、平坦化層と、接続中継層と、樹脂層と、第1電極と、隔壁と、有機発光層と、第2電極と、を有する有機EL表示装置の製造方法であって、駆動回路と電気的に接続するように接続中継層を駆動回路上から平坦化層の接続孔を通して平坦化層上まで形成した後、端部がテーパーを有する凸形状の樹脂層を平坦化層上に形成し、その後、前記テーパーに沿った斜面を有するように樹脂層を覆い、かつ平坦化層上で接続中継層と電気的に接続するように第1電極を形成することを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】高輝度化の要求を達成しながら、耐熱性及び耐光性に優れた塗膜を作製可能な青色顔料分散液、高輝度で、耐熱性及び耐光性に優れた着色層を形成可能なカラーフィルタ用青色ネガ型レジスト組成物、該青色ネガ型レジスト組成物を用いて形成されたカラーフィルタ、該カラーフィルタを有する液晶表示装置及び有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】トリアリールメタン系レーキ顔料と、ポリアリルアミン誘導体を含む顔料分散剤と、溶媒とを含有する青色顔料分散液。 (もっと読む)


【課題】画素を区画する隔壁表面の処理方法を工夫することで、画素内にて均一な膜厚分布を得ることができる有機EL素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】有機EL素子は、少なくとも基板101上に、画素電極102と対向電極105と正孔輸送層及び有機発光層を含む発光媒体層104からなり、両電極から有機発光層に電流を流すことにより、有機発光層を発光させる有機EL素子であって、前記隔壁103は、前記発光媒体層104の液相材料である薄膜材料液に対し、同一材料からなる親和性を示す親和性隔壁領域と、非親和性を示す非親和性隔壁領域とが、前記隔壁層表面にて、交互に形成された構成であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】簡便かつ高品質の印刷が可能な気泡排出構造並びにそれを用いた反転印刷用版および表示装置並びに印刷方法および表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】反転印刷用版1は基板10の表面に印刷領域11aおよび非印刷領域11bを有する。印刷領域11aには印刷パターンに応じた凹部11が形成されている。非印刷領域11bには凹部11に連通するよう気泡排出路12が設けられ、この気泡排出路12は基板10の端部に開口を有している。反転印刷用版1のパターンを平板状ブランケットに押し当てる際に、印刷領域11aに閉じ込められた気泡は、気泡排出路12を経て大気中に放出される。 (もっと読む)


【課題】 異物によるリーク欠陥ならびにショート欠陥等の電気的欠陥を高い確率で修正することにある。
【解決手段】 透明基板11上に透明陽極12a、正孔輸送層12b、有機発光層12c、電子輸送層12dおよび陰極12eで構成された有機EL多層膜12と、有機EL多層膜12を封止するキャップ部材13とで構成され表示基板において、混入される導電性異物2の近傍にレーザー光を照射し,貫通穴14aを形成し導電性異物2を有機EL多層膜12の外に排出する表示基板の欠陥修正方法である。 (もっと読む)


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