【課題】有機膜にダメージを与えずに、かつ簡便にフォトマスクと基板との位置ズレが検査できる有機ＥＬ装置の製造方法、有機ＥＬ装置の検査方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ装置１１の製造方法は、まず、基板上にフォトマスクを配置する。次に、フォトマスクを介して、画素領域５１及び画素領域５１の外側の領域にある検査領域５２にＲの発光層材料４２ａを蒸着する。検査領域５２の第１検査部分５３には、フォトマスクと基板との位置関係に相当する位置に、Ｒの発光層材料４２ａが蒸着する。その後、Ｒの発光層材料４２ａの位置ズレを検査する。具体的には、第１検査部分５３に紫外線を照射して蒸着パターンを励起させる。そして、蛍光顕微鏡によって、フォトルミネッセンス光を観察し、Ｒの発光層材料４２ａの位置ズレを検査する。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング装置及びスパッタリング装置を使用した平板表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】チャンバ内部に設置されて基板を支持する基板支持部と、基板上に蒸着されるターゲット物質を含むターゲット部と、基板のエッジを取り囲むように基板と所定間隔離隔されて配置されるマスク部と、マスク部を支持し、アース電位に接続されるシールド部と、マスク部とシールド部とを結合させ、絶縁性物質を含む絶縁部材と、スパッタリング装置の非放電時に、マスク部の短絡如何を検出できるマスク短絡検出手段と、を備えるスパッタリング装置である。 （もっと読む）

【課題】素子特性を維持すると共に、マスクまたはドナーなどの成膜補助部材と基板との分離を容易にすることができる表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】第１電極を形成した駆動基板に、蒸着用マスクまたは転写用ドナーなどの成膜補助部材を重ね合わせる重ね合わせ工程と、成膜補助部材を用いて有機層または第２電極を形成する主工程と、駆動基板から成膜補助部材を分離する分離工程とを含む１セットを、複数セット繰り返して行う。分離工程を窒素雰囲気で行うことにより、成膜補助部材と基板との接触・剥離による静電気を除電し、容易に分離する。重ね合わせ工程および主工程を真空中で行うことにより、素子特性を低下させず、高い特性を維持する。窒素雰囲気で行う工程においては、紫外線を照射することにより更に除電を促進する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の長寿命化が可能な発光装を提供する。
【解決手段】発光装置は、画素電極１３、発光機能層１８、及び対向電極５を含む有機ＥＬ素子８と、対向電極の上に且つ当該対向電極と直接の接点をもつように形成される補助電極５０１と、補助電極及び対向電極を覆うように形成され、有機ＥＬ素子に対する水及び酸素の進入を防止するバリア層４０と、を備える。そして、補助電極は、平面視して第１方向に線状に延び、その第１方向に交わる方向における断面形状は、テーパ形状を含む。 （もっと読む）

本発明は、主要面（１１）上に複合電極（２）を支持している基材（１）であって、当該複合電極が、金属及び／又は金属酸化物をベースとする導電性材料のストランドで構成される層である導電性ネットワーク（２１）を含むとともに、５５０ｎｍで少なくとも６０％の光透過率を有し、ネットワークのストランド間の間隙にはいわゆる導電性充填材料が充填されている基材に関する。複合電極はまた、導電性ネットワークを被覆しかつストランドに電気的に接続されていて充填用材料とは別のものでもそうでなくてもよい導電性コーティング（２２）をも含み、このコーティングは４０ｎｍ以上の厚み及び１０⁵Ω・ｃｍより低くしかもネットワークの抵抗率よりも高い抵抗率ｐｉを有する。このコーティングは電極の平滑な外表面を形成する。複合電極はまた、１０Ω／□以下の表面抵抗をも含む。本発明は、複合電極の製造及び前記電極を含む有機エレクトロルミネッセントデバイス（１００）にも関する。
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【課題】メタルマスクの製作工程において、特に微細なスリット状のパターンが整列して加工された場合に検査を精確に実施するための手段として、また、搬送時の変形トラブルを防ぐための手段として、最適な保持具を提供する。
【解決手段】メタルマスクを枠体に保持するための保持具であって、１辺にはメタルマスクを挟持する手段を有し、対向する他の１辺にはメタルマスクを挟持する手段とメタルマスク面と平行な外周方向に張力を与えるための張着手段とを有する。 （もっと読む）

本発明は、主要面（１１）上に複合電極（２）を支持している基材（１）であって、当該複合電極が、金属及び／又は金属酸化物をベースとする導電性材料のストランドで構成される導電性ネットワーク（２１）を含むとともに、５５０ｎｍで少なくとも６０％の光透過率を有し、ネットワークのストランド間の間隙にはいわゆる絶縁性充填材料が充填されている基材に関する。複合電極はまた、導電性ネットワークを被覆しかつストランドに電気的に接続されている導電性コーティング（２２）をも含み、このコーティングは４０ｎｍ以上の厚み及び１０５Ω・ｃｍより低くしかもネットワークの抵抗率よりも高い抵抗率ｐｉを有する。このコーティングは電極の平滑な外表面を形成する。複合電極はまた、１０Ω／□以下の表面抵抗をも含む。本発明は、複合電極の製造及び前記電極を含む有機エレクトロルミネッセントデバイス（１００）にも関する。
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【課題】蒸着が行われる基板の面積が大きくなるにつれて、前記基板に対応する大面積のマスクを製作するとき、マスクの重量による垂れ現象を防止するためにマスクシートとマスクフレームを地面から垂直状態で溶接させることができる垂直蒸着型マスクの製造装置及びこれを用いた垂直蒸着型マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、マスクシートを引張させて固定する引張ユニットと、前記マスクシート及び前記マスクシートの周囲領域に密着されるマスクフレームを接合する溶接手段が含まれ、前記引張ユニットは、前記マスクシートを支持する多数のクランプと、前記多数のクランプとそれぞれ連結され、前記連結された多数のクランプに引張力を加えて前記クランプによって固定されたマスクシートを平らに固定させる多数の引張手段が含まれて構成される。 （もっと読む）

【課題】所望の形状を有する膜を、生産性良く形成する成膜方法を提供することを目的とする。また、高精細な発光装置を、生産性良く作製することができる発光装置の作製方法を提供する。特に、大型の基板を用いた場合であっても、高精細な発光装置を作製する方法を提供する。
【解決手段】被成膜基板と、被成膜基板よりも小さい面積のシャドーマスクを用い、被成膜基板とシャドーマスクとの位置合わせを行い、被成膜基板の少なくとも一部に蒸着材料を成膜する工程を複数回行う。蒸着源としては、光吸収層と蒸着材料を有する支持基板を用いることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ表示装置の蒸着工程における蒸着マスクの洗浄蒸着装置とインラインで行い、蒸着マスクの使用回数を増大させる。
【解決手段】蒸着を終わったマスク２１０はクリーニング準備室２０１に移動し、その後、大気圧であるクリーニング室２０２に移動する。クリーニング室２０２において、マスクにレーザを照射し、これによって生じた衝撃波によってマスク２１０に付着した堆積物を剥離する。剥離した堆積物はクリーナ２０８によって除去される。その後、マスク２１０はフラッシング室２０３に移動し、クリーニング室２０２で除去しきれなかった剥離物をマスク２１０から除去する。その後マスク２１０はマスク排出室２０４に移動し、次の蒸着を行う。 （もっと読む）

【課題】残存金属層に起因した短絡、誤動作、電圧低下等の不具合を抑制できる画像表示装置の製造方法およびそれに用いる露光マスクを提供する。
【解決手段】
露光マスクを介して前記レジストに光を照射する第１露光工程の後、前記露光マスクを前記第１露光工程における前記素子基板との位置関係とは異なる位置に配置して露光マスクを介して前記レジストに光を照射する第２露光工程を備えており、前記第４工程において、前記レジストのうち、各画素部の外形または各パターンの外形に対応する部分には、前記第１露光工程及び前記第２露光工程のうち、いずれか一方でのみ光が照射されるとともに、前記平坦化膜のエッジ部に対応する部分には、前記第１露光工程および前記第２露光工程のいずれでも光が照射されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フルカラー対応の表示装置において、高強度のシャドーマスクを用いて画素の高開口率化を実現できるようにする。
【解決手段】画素アレイ部は、垂直方向の２画素分を１組とし、組内の画素開口間隔Ｗ１よりも組同士の画素開口間隔Ｗ２を大きくする。対応するシャドーマスク６２０Ａは、表示パネル部の垂直方向２画素分のサブピクセルに対応する開口部６２２が設けられ、その開口部６２２の垂直方向のそれぞれの間に、水平方向の橋渡しをなす間隔部６２４を有する。垂直方向の開口部６２２の間の間隔部６２４は、全列同一の垂直位置に配置され、間隔部６２４が、水平方向に一列に並ぶように配置されている。間隔部６２４の存在によりマスクの強度が上がり撓みを改善できる高強度のマスクにすることができる。発光層を形成するための蒸着起因の開口率の低下を抑制でき、高精細パネルにて、高強度で高開口率が達成できる。 （もっと読む）

使用中、所定のパターンを自身の発光部に有する、有機ＬＥＤ装置１０１が、提供される。有機ＬＥＤ装置１０１は、陽極１０５、陰極１０３及び有機発光層１０７を有している。有機発光層１０７は、光を発し、有機発光層１０７は、低減された発光特性を有する部分を有し、有機発光層１０７の前記部分は、有機発光層１０７の吸収バンドにおける波長を有する光によって照射されたものであり、前記光の強度は、有機ＬＥＤ装置１０１の陰極層１０３、陽極層１０５及び有機発光層１０７のアブレーションしきい値よりも低く、有機発光層１０７の照射された前記部分の発光特性を低減する。有機ＬＥＤ装置１０１の発光特性を低減する方法も提供される。
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第１のマスキングフィルムを基板上に機械的に配置し、第１のマスキングフィルムの第１の配置における１つ、又は２つ以上の第１の開口部を除去して、第１のマスキングフィルムに１つ、また２つ以上の第１のマスキング部を形成することによって、基板をパターニングする方法。第１の材料は、基板、及び第１のマスキング部の上に第２のマスキングフィルムを機械的に配置する前に、第１のパターニング領域を形成するために、基板上に成膜される。１つ、又は２つ以上の第２のマスキング部を形成するために、第２のマスキングフィルム、及び第１のマスキング部の双方の、第１の配置と異なる第２の配置の１つ、又は２つ以上の第２の開口部が除去される。第２の材料は、第２のパターニング領域を形成するために、基板上の第２の配置に成膜される。 （もっと読む）

【課題】金属材料を用いてマスクの厚さを薄くする場合、精密なパターンに対して蒸着を行う場合には、マスクの撓みを抑制すべくマスクに張力を与える必要がある。この張力により、マスクを使う毎にマスク形状が変形し、精密な形状を有するマスク形状を維持していくことが困難となるという課題がある。また、単結晶シリコンを用いる場合、単結晶シリコンは脆い材質である。そのため単結晶シリコンを薄く形成すると、機械的に弱くなり、破損を防ぐことが困難となるという課題がある。
【解決手段】第１テーパー部１０３の上に支持部１０４、第２テーパー部１０５、頂部平坦部１０６を配置する。支持部１０４、第２テーパー部１０５、頂部平坦部１０６により、第１テーパー部１０３が補強されるため、パターン分離部１０２の強度を保った状態で第１テーパー部１０３を薄くできるため、材料効率が高くなり、かつ蒸着膜厚の面内均一性を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークの検出精度が高いマスクを容易に製造できるマスクの製造方法及びマスクを提供すること。
【解決手段】単結晶シリコン基板で形成されたアライメント基板５の面方位によりエッチングレートが異なるエッチャントを用いたウェットエッチングにより、アライメント基板５の一面を粗面化する工程と、アライメント基板５に、被成膜基板との位置合わせに用いるマスクマークを形成してアライメントチップ３を製造する工程と、被成膜基板に形成される薄膜パターンの少なくとも一部の形状に対応する開口部が形成されたマスクチップを製造する工程と、アライメントチップ及びマスクチップを、支持基板上に固定する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料を高い利用効率で成膜することができる蒸着マスクを提供する。
【解決手段】蒸着マスク２０は、第１面３４ａおよび第１面とは反対側の第２面３４ｂを有し、第１面と第２面との間を延びる貫通孔２５が形成された金属製シート３４を備える。金属製シートの第１面側に、線状に延びる溝２６が形成されている。金属製シートの第２面側に、穴２７が形成されている。溝と穴とは通じており、これにより、溝と穴とによって金属製シートを貫通する貫通孔が形成されている。 （もっと読む）

【課題】シール性を高められるようにする。
【解決手段】透明基板２の一方の面上に複数の第１電極３を二次元アレイ状に形成し、第１電極３が形成された面の指針が形成される領域にマスク３０の島部３２を重ねて、その周囲部にマスク３０の周縁部３１を重ねて、周縁部３１と島部３２を連結した連結部３３を島部３２や周縁部３１よりも薄くし、その状態で第１電極３の上に有機ＥＬ層１０、第２電極１２を順に成膜し、マスク３０を外した後に、島部３２があった箇所にセンターシール１５を形成し、周縁部３１があった箇所に枠状シール１６を形成し、センターシール１５及び枠状シール１６の上からカバー１７を被せ、センターシール１５に重なる部分において透明基板２及びカバー１７を穿孔する。 （もっと読む）

【課題】シール性を高められるようにする。
【解決手段】透明基板２の一方の面上に画素電極３を形成し、画素電極３が形成された面の指針駆動軸が形成される領域にレジスト８を形成し、その周囲に枠状マスク９を重ね、レジスト８及びマスク９を施した状態で画素電極３の上に有機ＥＬ層１０、対向電極１２を順に成膜し、レジスト８及びマスク９を除去した後に、レジスト８があった箇所にセンターシール１５を形成し、マスク９があった箇所に枠状シール１６を形成し、センターシール１５及び枠状シール１６の上からカバー１７を被せ、センターシール１５に重なる部分において透明基板２及びカバー１７を穿孔する。 （もっと読む）

【課題】設計目標通りの位置精度および寸法精度で薄膜に開口パターンが設けられた蒸着マスクを得ることが可能な蒸着マスクの作製方法を提供する
【解決手段】設計値に基づいて薄膜１０に開口パターン１０ａが設けられたマスク薄膜１を形成する。開口パターン１０ａの寸法および位置を検知する。検知した値と設計値とのずれ量だけ、レーザ光ｈｒ照射によって開口パターン１０ａ周縁の薄膜１０部分を除去する。 （もっと読む）