【課題】有機発光素子の発光層を成膜する工程において、基板とマスクを密着させるためのマグネットの磁力による影響が発光層に及ぶのを防ぐ。
【解決手段】基板２０に対して、複数のパターニング開口領域３１とフレーム領域３２から構成されたマスク３０をマグネット１０を用いて密着させて、有機発光素子の発光層を蒸着する。マグネット１０は、基板２０の裏面側において、マスク３０のフレーム領域３２のみを吸着する。マスク３０のパターニング開口領域３１にはマスク１０の磁力が作用しないため、磁力によって発光層に発光ムラが発生するのを防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】画素ごとの輝度のバラつきを改善することができるようにする。
【解決手段】駆動電流に応じて発光する発光素子３４と、映像信号を書き込む書き込みトランジスタ３１と、駆動電流を発光素子に供給する駆動トランジスタ３２と、所定の電位を蓄積する蓄積容量３３とを備える画素１０１を行列状に配置するＥＬパネルを製造するために、マスクＭＫｏを用いて露光処理により予め形成された金属層Ｍのうち、書き込みトランジスタ３１の部分の線幅Ｌｐに基づいて、新規マスクＭＫにおける書き込みトランジスタ３１の部分の線幅Ｌｍが予め求められており、露光処理装置は、新規マスクＭＫを用いて、露光処理により金属層Ｍを形成する。
本発明は、例えば、ＥＬパネルに適用できる。 （もっと読む）

【要 約】
【課題】膜質の良い有機薄膜を成膜可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】基板ホルダ４０は基板７が水平にされた水平状態から起こされ、基板ホルダ４０に保持された基板７は、基板ホルダ４０と一緒に起立し、水平面から傾いた起立状態にされる。放出装置５０は起立状態の基板７と対面し、該基板７に有機材料の蒸気を噴出して、基板７表面に有機薄膜が成長する。有機薄膜が成長する間、基板７を起立状態にしておけば、有機薄膜に塵等の不純物が混入しない。 （もっと読む）

【課題】フィルムとフレームからなるマスクを洗浄した場合に、熱膨張差によってマスクのフィルムにダメージやパターン開口の位置変化が生じるのを防ぐ。
【解決手段】マスク４を、冷却手段６を有するマスク搬送装置５によって第１、第２洗浄槽８、９、第１、第２リンス槽１０、１１に順次搬送する。各リンス槽１０、１１からマスク４を引き上げる際にマスク４のフィルム１を加熱する加熱手段７と、フレーム２を冷却する冷却手段６を備えることで、マスク４のフィルム１とフレーム２との間の熱膨張差に起因するフィルムダメージ等を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置の機構を複雑にすることなく、基板とマスクとを確実に密着させて素子の蒸着を行うことができる、発光特性に優れた有機ＥＬ表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ表示装置１０は、絶縁性基板１１上の各有機ＥＬ素子３０間に形成され、着磁された強磁性体材料を有する構造体１３を備える。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ装置の陽極に対してプラズマを照射する工程において、プラズマを安定させ、陽極にダメージを与えないように照射量を制御し、陽極に対して均一にプラズマを照射することができる有機ＥＬ装置の製造装置及び有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】陽極と陰極との間に有機層を備える有機エレクトロルミネッセンス装置の前記陽極にプラズマを照射する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造装置Ｓであって、プロセスガスが供給される処理室１と、前記処理室１内に配置され、基板２０２を保持する基板保持部２と、前記プロセスガスをプラズマ状態にして前記基板２０２に照射するプラズマ発生源４Ａ，４Ｂと、前記基板２０２と前記プラズマ発生源４Ａとの間に配置され、複数の開口部を有する遮蔽板５とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】端部同士が接続された複数の薄膜パターンを形成した際、その上方に大きな段差を発生させることのない固体装置、有機ＥＬ装置、およびそれらの製造方法を提供すること。
【解決手段】トップエミッションタイプの有機ＥＬ装置１００の補助配線層８４を形成するにあたっては、第１マスク蒸着工程において、補助配線層８４を形成するための第１薄膜パターン８４ａを形成した後、第２マスク蒸着工程において、補助配線層８４を形成するための第２薄膜パターン８４ｂを端部８４１ａ、８４１ｂ同士が平面視で重なるように蒸着し、第１薄膜パターン８４ａと第２薄膜パターン８４ｂとが繋げる。第１薄膜パターン８４ａおよび第２薄膜パターン８４ｂは、端部８４１ａに向けて膜厚が漸減しているため、端部８４１ａ、８４１ｂ同士の重なり部分８４ｅに大きな段差が発生しない。 （もっと読む）

【課題】微細パターンを有する蒸着マスクを用いて蒸着を行うと、微細パターンは、蒸着粒子により容易に目詰まりし、寸法再現性が乏しくなる。また、微細パターンを有する蒸着マスクの合わせ精度はかなり高度な精度を要求されるため、マスク合わせに若干のずれが発生しても不良品となってしまうという課題がある。
【解決手段】蒸着マスク２００ａを蒸着物の付着による寸法変動を補正するよう位置をずらしながら蒸着する。そのため、蒸着物が蒸着マスク２００ａに付着しても寸法精度を保てる。また陰極２１５と蒸着マスク２００ａの開口部と一部が重なるように配置させて蒸着を行う場合、多少の合わせずれが生じても、わずかに色バランスが変動する程度の現象しか発生しない。色バランスは容易に調整可能な特性であるため、高い歩留まりを有する有機ＥＬパネルの製造方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】複数の分割画素を１つの副画素とするような、蒸着パターンを複数の画素開口で共有する構成において、画素開口間への異物付着や損傷による欠陥発生を防止できる表示装置および表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１上に設けられた下部電極４３と、下部電極４３を露出する複数の開口窓４５ａを有すると共に、所定方向に隣接する開口窓４５ａ−４５ａ間の膜厚が他の部分と比較して薄く設定された薄膜部４５ｃを備えた絶縁膜４５と、発光層を含み薄膜部４５ｃを介して隣接する開口窓４５ａ，４５ａを連続して覆う形状で設けられた蒸着パターン４７ｒ，４７ｇ，４７ｂと、下部電極４３との間に蒸着パターン４７ｒ，４７ｇ，４７ｂを挟持する状態で設けられた上部電極４９とを有する表示装置５５。 （もっと読む）

【課題】 より簡便に高開口率、高精細な有機ＥＬ素子アレイを提供する。
【解決手段】 画素間領域の構成が、第１の電荷輸送層１３、第１の有機ＥＬ素子の第１の発光層１２ａ、第２の有機ＥＬ素子の第２の発光層１２ｂ、第２の電荷輸送層１６の順に形成されており、第１の発光層１２ａと第２の発光層１２ｂは異種のキャリア輸送性を有し、第１の電荷輸送層１３と第１の発光層１２ａは同種のキャリア輸送性を有し、且つ第１の電荷輸送層１３と第２の発光層１２ｂは異種のキャリア輸送性を有し、第１の発光層１２ａと第２の発光層１２ｂのうち、短波長側の発光を呈する発光層の方が長波長側の発光を呈する発光層よりも形成領域が広い。 （もっと読む）

【課題】真空紫外光を用いて高精細かつ複雑なパターン状に、正確に真空紫外光照射処理が施されたパターン形成体を、高感度で製造できる真空紫外光用メタルマスクを提供する。
【解決手段】パターン形成用基板を用い、上記パターン形成用基板のパターン形成面上にメタルマスクを配置し、反応性ガスの存在下において上記メタルマスクを介して上記パターン形成面に真空紫外光を照射することにより、上記パターン形成面がパターン状に真空紫外光照射処理されたパターン形成体を製造する方法に用いられる真空紫外光用メタルマスク１０であって、金属薄板からなり、開口部２を有するメタルマスク本体１と、上記開口部を架橋するように形成されたブリッジ部分３とを有し、かつ、上記パターン形成用基板１０１上に配置された際に、上記パターン形成面とブリッジ部分との間に上記反応性ガスが通流可能な空隙が形成されるように、上記ブリッジ部分が形成されている。 （もっと読む）

【課題】 長寿命で高効率の有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】 アノード電極（３ａ，３ｂ，３ｃ）が配列して形成された基板（２）と、前記アノード電極上の発光領域を画定するバンク（４）と、前記発光領域に形成された有機発光層（５ａ，５ｂ，５ｃ）と、前記バンクおよび前記発光層の上に形成されたカソード電極（６）と、前記カソード電極を介して前記バンクの上に選択的に形成された乾燥剤層（８）とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】中間層の蒸着を容易にしつつも、パターン精度を向上させる有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】複数個の画素を備えた有機発光ディスプレイ装置において、各画素は、各々赤色、緑色及び青色光を放出する副画素を一方向に沿って備え、有機発光ディスプレイ装置の一方向の画素に備えられた、赤色、緑色及び青色光を放出する副画素は、各々異なる厚さを有する中間層を備えるように形成されたことを特徴とする有機発光ディスプレイ装置。 （もっと読む）

【課題】蒸着源側からの輻射熱によって蒸着用マスク部材が加熱されても、被処理基板に対するマスク開口部の位置精度が低下することを防止することのできる蒸着用マスク部材、マスク蒸着方法、および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス装置に用いる第１基板１０に対してマスク蒸着を行なうための蒸着用マスク部材３１０では、支持基板３３０においてマスクチップ３２０が固着された領域以外の領域に熱伝達促進用チップ３４０が固着されている。このため、蒸着源側からの輻射熱によって蒸着用マスク部材３１０が加熱された際、かかる熱は、マスクチップ３２０を介して第１基板１０に伝達されるとともに、熱伝達促進用チップ３４０を介しても第１基板１０に伝達されるので、蒸着用マスク部材３１０と第１基板１０との間に温度差が発生しにくい。 （もっと読む）

【課題】イオン化した成膜粒子を成膜マスクを用いてパターニングする場合、成膜マスクは成膜粒子が持つ電荷により、帯電する。そして、ある程度帯電すると、成膜対象の基板との間で放電が生じる。この放電により、成膜対象の基板に形成される半導体素子等が損傷を受け、歩留まりを低下させてしまうという課題がある。
【解決手段】荷電粒子を成膜対象基板に照射して成膜を行う成膜装置に用いられ、前記成膜対象基板の一部を覆い、成膜と同時にパターニングを行うための成膜マスクであって、前記成膜マスクが電気的に絶縁性を有する素材を用いて形成されている。これによれば、成膜マスク内での電荷の移動が抑えられるため、電荷の集中により生ずる放電を抑制することが可能となり、半導体素子等が受ける放電による損傷の発生を抑制することが可能となり、歩留まりを向上させることが可能となる。 （もっと読む）

本発明は、基板をコーティングするための方法、その方法を実行するためのコーティング装置、およびコーティング装置のための取扱いモジュールに関する。取扱いモジュールは、コーティングすべき基板のための可動サポート（１３）であって、少なくとも２つの位置の間を移動させることができる可動サポート（１３）を備えている。さらに、マスクを基板に取り付けるため、およびマスクを基板から取り外すための少なくともいずれかのためのマスク配置デバイス（４１５）、およびマスクを基板に対して整列させるためのマスク整列デバイスが提供され、マスク整列デバイスは、サポートと共に移動できるように可動サポート（１３）に取り付けられる。別法としては、取扱いモジュールは、真空チャンバと、コーティングすべき基板のための可動サポート（１３）であって、真空チャンバ内に配置され、かつ、少なくとも２つの位置の間で回転できる可動サポート（１３）とを備えており、マスクを基板に取り付けるため、およびマスクを基板から取り外すための少なくともいずれかのためのマスク配置デバイス（４１５）が、取扱いモジュールの真空チャンバ内に配置されている。
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【課題】発光特性を発光色に応じて最適化可能な有機ＥＬ素子の製造方法、この製造方法を用いて製造された有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬディスプレイを提供すること。
【解決手段】本適用例の有機ＥＬ素子の製造方法は、素子基板１上に複数の画素電極としての陽極３１を形成する画素電極形成工程と、複数の陽極３１をプラズマガスに曝すプラズマ処理工程と、プラズマ処理が施された複数の陽極３１上に発光層を含む機能層３２Ｒ，３２Ｇ，３２Ｂを形成する機能層形成工程と、機能層３２Ｒ，３２Ｇ，３２Ｂを覆うように共通電極としての陰極３４を形成する共通電極形成工程と、を備え、プラズマ処理工程は、複数の陽極３１のうち、少なくとも１色の発光色に対応する陽極３１に対して他の陽極３１をマスクしてプラズマガスに曝すことにより、当該陽極３１のプラズマ処理条件が他の陽極３１に対して異なるようにプラズマ処理する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】シリコンからなるマスクチップを有するマスクを蒸着装置から取り出すことなくクリーニングできる蒸着装置およびマスクのクリーニング方法を提供する。
【解決手段】蒸着装置は、シリコンからなり所定の膜パターンに対応する開口部を有するマスクチップ２０と、マスクチップ２０が複数取り付けられた支持基板１０と、を有するマスク１を介して、ワーク２の被成膜面２ａに膜材料３２を堆積させる成膜室１１０，１２０と、成膜室１１０，１２０に接続されており、マスク１をクリーニングするプラズマ処理機構が設けられた処理室と、を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フルカラー対応の表示装置において、高強度のシャドーマスクを用いて画素の高開口率化を実現できるようにする。
【解決手段】画素アレイ部は、Ｒ，Ｇ，Ｂの同色に着目したとき、サブピクセル位置が行ごとに水平方向にシフトさせて配置することで、色別に見たときには、どの色もストライプ構造を採らずに、同色のサブピクセル位置が斜め方向に配置されるようにする。対応するシャドーマスク６２０Ａは、開口部６２２が斜め方向に一列に並ぶように配置されている。斜め方向に橋渡しをなす間隔部６２４が画素間ごとに設けられた構造となるので、マスクの強度が上がり撓みを改善できる高強度のマスクにすることができる。発光層を形成するための蒸着起因の開口率の低下を抑制でき、高精細パネルにて、高強度で高開口率が達成できる。 （もっと読む）

【課題】有機膜にダメージを与えずに、かつ簡便にフォトマスクと基板との位置ズレが検査できる有機ＥＬ装置の製造方法、有機ＥＬ装置の検査方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ装置１１の製造方法は、まず、基板上にフォトマスクを配置する。次に、フォトマスクを介して、画素領域５１及び画素領域５１の外側の領域にある検査領域５２にＲの発光層材料４２ａを蒸着する。検査領域５２の第１検査部分５３には、フォトマスクと基板との位置関係に相当する位置に、Ｒの発光層材料４２ａが蒸着する。その後、Ｒの発光層材料４２ａの位置ズレを検査する。具体的には、第１検査部分５３に紫外線を照射して蒸着パターンを励起させる。そして、蛍光顕微鏡によって、フォトルミネッセンス光を観察し、Ｒの発光層材料４２ａの位置ズレを検査する。 （もっと読む）